「phase shift method」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for setting a phase shift amount, with which phase errors are more reduced than in a conventional method even when an exposure condition of a large coherence factor σ and a large numerical aperture NA is adopted.例文帳に追加

コヒーレンスファクターσや開口数ＮＡが大きな露光条件を採用した場合であっても、位相誤差を従来よりも低減することを可能とする位相シフト量設定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor, by which the processing dimensional accuracy is improved, and also to provide a method for forming a mask pattern, and a Levenson type phase shift mask.例文帳に追加

加工寸法精度の向上を図ることが可能な半導体製造方法、マスクパターンの形成方法及びレベンソン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

The defect inspection method comprises steps of: transmitting at least two inspection light beams 8 for illumination through first and second light transmitting parts having the same phase of the phase shift mask; again transmitting the light beams through the light transmitting parts by a reflection plate 3; and comparing the intensities of the reflection light beams 9 to inspect the defect of the phase shift mask.例文帳に追加

少なくとも２つの検査照明光８を位相シフトマスクの位相が等しい第１、第２の光透過部を透過させ、反射板３で再度光透過部を透過させ、それらの反射光９の光強度を比較して、その強度差により位相シフトマスクの欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a phase adjustment circuit and a phase adjustment method by which variation of a phase shift amount is prevented even when frequency of carrier waves for transmitting a sensor signal is varied.例文帳に追加

センサ信号の伝達用搬送波の周波数が変動する場合においても、位相シフト量が変動することを防止することが可能である位相調整回路および位相調整方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which a residual light shielding layer film on a translucent phase shift pattern in an effective region can be detected in an inspection process by decreasing the reflectance of the surface of the light shielding pattern on the translucent phase shift pattern in the effective region than the reflectance of the surface of the light shielding pattern in the peripheral part.例文帳に追加

有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光パターン表面の反射率を外周部の遮光パターン表面の反射率より低くすることにより、検査工程での有効領域の半透明位相シフトパターン上の遮光層膜残りの検出を可能にしたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an automatic frequency control method etc., that can prevent a phase shift by shortening the time up to establishment of synchronism.例文帳に追加

同期が確立するまでの時間を短縮し、位相ずれも防止することが可能な自動周波数制御方法等を提供する。 - 特許庁

A photolithographic method and an apparatus are described for forming the minimum of light intensity corresponding to a point in a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクにおける点に対応する光強度の最小を形成するためのフォトリソグラフィー方法および装置が説明されている。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for forming a fine line pattern at a relatively low cost and to provide an exposure method using the mask.例文帳に追加

比較的低コストで微細なラインパターンを形成することが可能な位相シフトマスク及びそれを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁

MOBILE COMMUNICATION SYSTEM, BASE STATION CONTROLLER, AND RADIO BASE STATION-BASE STATION CONTROLLER PHASE SHIFT DETECTING METHOD USED THEREFOR例文帳に追加

移動体通信システム、基地局制御装置及びそれらに用いる無線基地局−基地局制御装置間位相ずれ検出方法 - 特許庁

The method for manufacturing a phase shift mask blank is carried out by discharging both of a silicon target and a metal silicide target or the like at a time by sputtering to deposit a film.例文帳に追加

スパッタ法でシリコンターゲットと、金属シリサイド等のターゲットを同時に放電させて成膜する位相シフトマスクブランクの製造方法。 - 特許庁

To provide a substrate inspection device capable of improving measurement accuracy when performing three-dimensional measurement utilizing a phase shift method.例文帳に追加

位相シフト法を利用した三次元計測を行うにあたり、計測精度の向上を図ることのできる基板検査装置を提供する。 - 特許庁

Three sheets of sinusoidal patterns whose phases are shifted from each other by π/4 individually are projected from a projector 1, and a relative phase ψr is found for each pixel from each reflected image by the principle of a phase shift method.例文帳に追加

プロジェクタ１から、各々π／４だけ位相のずれた正弦波パターンを３枚照射し、位相シフト法の原理によって、各反射画像から画素毎に相対位相ψｒを求める。 - 特許庁

To provide a reflection type phase shifter capable of suppressing variations in insertion losses in phase shift by suppressing a change in an equivalent resistance of a varactor diode due to a change in an inter-terminal capacitance and to provide a control method thereof.例文帳に追加

端子間容量変化に伴うバラクタダイオードの等価抵抗の変化を抑制し、移相変化時の通過損失を変動を抑え得る反射型移相器を得る。 - 特許庁

To provide a surface shape measuring method capable of long-range measurement by improving measurement accuracy in two-wavelength phase-shifting interferometry and only slightly improving a conventional phase-shift optical system.例文帳に追加

２波長位相シフト干渉法の計測精度を改善し、従来の位相シフト光学系のわずかな改良で長レンジの計測を可能とする表面形状測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask blank by which variation in a phase angle and transmittance among blanks and within a blank plane can be reduced as much as possible and high yield is obtained.例文帳に追加

ブランクス間及びブランクス面内における位相角及び透過率のばらつきを極力低減でき、歩留まりの良い位相シフトマスクブランクの製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide, as an ArF excimer laser mask, a phase shift mask blank which has minimized wavelength dependency of transmittance so as to make defect inspection possible, and which is processed with a single dry etching gas, and also to provide a phase shift mask and a pattern transfer method using the blank.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ用マスクとして、欠陥検査も可能となるよう透過率の波長依存性が小さく、単一のドライエッチングガスで加工可能な位相シフトマスクブランク、それを用いたいそうシフトマスク、及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask having three different phase shift regions for eliminating the problem that corners have roundness in unexposed regions by diffraction and scattering of light, i.e., a corner round problem and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

光の回折や散乱により未露光領域においてコーナーが丸みを帯びる問題、いわゆるコーナーラウンド問題(corner round problem)を解消するための３つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスクおよびその製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a stable self alignment type phase shift mask which can prevent deterioration in transfer accuracy caused by multiple reflection on a wafer surface and a light shielding pattern surface, which has excellent phase shift mask characteristics, and which requires a short manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

ウェハー面と遮光パターン表面で多重反射による転写精度の劣化を防止し、位相シフトマスク特性に優れ、製造工程が短く、安定した自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method which can improve the degree of production margin in a phase shift mask manufacturing process and takes the actual width and length of a linear pattern into consideration as a correcting method for photomask data for a drawing device for manufacturing a substrate digging type Levenson phase shift photomask.例文帳に追加

基板掘り込みタイプのレベンソン型位相シフトフォトマスクを作製のための、描画装置用フォトマスクデータの補正方法であって、位相シフトマスク製造プロセスの製造余裕度を向上させることができ、且つ、線状パタンの実際の幅と長さを考慮した方法を提供する。 - 特許庁

The phase connection is performed by using the first spatial code pattern when a relative phase ϕ of a pixel obtained by the phase shift method satisfies 0<ϕ<+π and by using the second spatial code pattern when it satisfies -π<ϕ<0.例文帳に追加

位相シフト法で求めた画素の相対位相φが０＜φ＜＋πのときには前記第１の空間コードパターンを使用し、−π＜φ＜０のときには前記第２の空間コードパターンを使用することによって、位相接続を行う。 - 特許庁

To provide an interference fringe analytical method and an aberration measuring method capable of coping quickly with modulation of a space carrier at low cost, in a spatial phase shift method for a multiwavelength interferometer.例文帳に追加

多波長干渉計の空間的位相シフト法において高速、かつ、低コストで空間キャリアの変調に対応できる干渉縞解析方法及び収差測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a BPSK modulation circuit and a BPSK (Binary Phase Shift Keyring) modulation method by which a high bit rate communication can be performed without outputting discontinuous data.例文帳に追加

不連続データを出力させることなく、高ビットレート通信が可能なＢＰＳＫ変調回路及びＢＰＳＫ変調方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask by which a pattern with a profile nearer to the profile of a target pattern can be formed on a transparent substrate.例文帳に追加

透明基板に目標とするパターンの形状により近い形状のパターンを形成し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a Fizeau interferometer properly measuring the form of a spherical surface to be measured even in the case where a phase shift method is used.例文帳に追加

位相シフト法を用いる場合であっても被測定球面の形状を適切に測定することができるフィゾー型干渉計の提供。 - 特許庁

The resist film on the semiconductor substrate is exposed by a diagonal incident illumination method by using the phase shift mask 100, by which resist patterns are formed.例文帳に追加

前記位相シフトマスク１００を用いて、斜入射照明法により半導体基板上のレジスト膜を露光して、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

The method includes photolithographically imaging a phase-shift mask pattern onto a photoresist layer of a substrate to form therein a periodic array of photoresist features.例文帳に追加

基板のフォトレジスト層に位相シフトマスクパターンをフォトリソグラフィによりイメージングして、フォトレジスト造形物の周期的配列を形成することを備える。 - 特許庁

To provide a patterning method by which retrogression of a desired pattern is suppressed at etching of an unnecessary pattern in patterning method using a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いたパターン形成において、不要パターンをエッチングする際に所望パターンの後退を抑制することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a phase-locked loop circuit capable of adaptively correcting an influence of a phase error even in the case of an abrupt phase shift in an environment of frequency selective multipath phasing, a multicarrier CDMA system receiver using the same, and a phase locking method.例文帳に追加

周波数選択性マルチパスフェージングの環境下などでの急激な位相変動が起きた場合でも位相誤差の影響を適応的に補正することが可能な位相同期ループ回路及びこれを用いたマルチキャリアＣＤＭＡ方式受信機並びに位相同期方法を提供する。 - 特許庁

Phase shifting is performed while a plurality of emitting parts emit a pattern having sine wave-shaped contrast distribution by using a sine wave grid phase shift method, and a phase value of emitted light is calculated on the basis of a pattern image photographed by a plurality of photographing parts while synchronizing with the phase shifting.例文帳に追加

正弦波格子位相シフト法を用いて、複数の照射部より正弦波状の明暗分布を持つパターンを照射しながら位相シフトさせ、その位相シフトに同期させて、複数の撮影部で撮影したパターン画像をもとに照射光の位相値を計算する。 - 特許庁

A pattern is transferred to a resist film 12 on a wafer 11 with a reduced-projection exposure method, using a half-tone phase shift mask, formed by a translucent phase shift pattern comprising a thin film pattern 2a which has the function of dimmer body and a resist pattern 3a, having the function of photosensitive composite for adjusting the phase.例文帳に追加

減光体としての機能を有する薄膜パターン２ａと、位相調整用の感光性組成物としての機能を有するレジストパターン３ａとを有する半透明位相シフトパターンが形成されたハーフトン位相シフトマスクを用いた縮小投影露光法によって、ウエハ１１上のレジスト膜１２にパターンを転写する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which suppresses decrease in the intensity of the main peak or generation of a side peak and makes pattern transfer with high accuracy possible while relaxing the dimensional limitation as an auxiliary pattern, and to provide a method for forming a pattern by using the above phase shift mask.例文帳に追加

補助パターンとしての寸法的な制限を緩和しつつ、メインピークの強度低下やサイドピークの発生を抑制して、より高い精度でのパターン転写を可能とする位相シフトマスクおよび該位相シフトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask, having a light shielding film in which a semitransparent phase shift film pattern can be formed, without being influenced by the dimensional accuracy of the light-shielding film pattern and proper dimensional accuracy can be obtained.例文帳に追加

遮光膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法において、半透明位相シフト膜パターンが、遮光膜パターンの寸法精度の影響を受けずに形成ができ、寸法精度が良好であるハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In digital holography image reproduction, an observed hologram image obtained in four phase-shift amounts by a tilt phase shift holography method is input and then image data of pixels whose observed data are lacked are estimated based on an equation of wave optics expressing optical intensity of the interference fringe of object light and reference light, in a hologram image obtained each four pixels for a phase shift amount.例文帳に追加

ディジタルホログラフィ像再生において、チルト位相シフトホログラフィ法により４つの位相シフト量で得られた観測ホログラム画像を入力し、次に、ある位相シフト量について４画素おきに得られているホログラム画像において、観測データが欠落している画素の画像データを、物体光と参照光の干渉縞の光強度を表す波動光学の式に基づいて推定する。 - 特許庁

To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.例文帳に追加

位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine pattern forming method which obviates the occurrence of the deterioration in dimensional accuracy by the influence of reflected light, etc., from a light shielding body surface in projection exposing using a phase shift mask having high phase angle controllability.例文帳に追加

位相角制御性の高い位相シフトマスクを用い投影露光時に遮光体面からの反射光等の影響による寸法精度劣化の生じない微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an antenna measuring device and an antenna measuring method in which an elementary electric field in each phase shift condition of a phase shifter is measured only by amplitude measurement of combined electric power of an array antenna and measuring time is shortened.例文帳に追加

アレーアンテナの合成電力の振幅測定のみにより移相器の各移相状態での素子電界を測定しかつ測定時間を短縮したアンテナ測定装置、測定方法を提供する。 - 特許庁

In accordance with this method, first intermediate frequency signal is formed by phase shift of the first signal (RF), then the first signal (RF) being phase shifted is mixed with the second signal (LO).例文帳に追加

この方法では、該第１中間周波数信号は、該第１信号（ＲＦ）を移相し、この移相されている第１信号（ＲＦ）と該第２信号（ＬＯ）とを混合することによって形成される。 - 特許庁

A method of transmitting a plurality of n data streams includes modulating an optical carrier using differential M-phase shift keying (DMPSK) signal (M=2^n).例文帳に追加

複数ｎ本のデータ・ストリームを伝送するための方法により、差分Ｍ位相偏移変調（ＤＭＰＳＫ）信号（Ｍ＝２^ｎ）を用いて光搬送波を変調する。 - 特許庁

To provide a demodulating method for spread spectrum QPSK (quadrature phase shift keying) modulated signal and a radio communication device which can make a circuit smaller in scale and lower in power consumption.例文帳に追加

回路の小規模化、低消費電力化を可能とするスペクトル拡散ＱＰＳＫ変調信号の復調方法、および無線通信装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of irregularities that are not actually existing, when measuring a three-dimensional shape of a measurement object by using a phase shift method.例文帳に追加

位相シフト法を用いて計測対象物の３次元形状を計測する際に、実際には存在しない凹凸が生じることを抑制する。 - 特許庁

To provide an innovative method and design to improve the phase shift detection amid heavy TCM ISDM interference.例文帳に追加

はげしいＴＣＭ ＩＳＤＭ干渉が存在する状況における位相変化検出を改善するための革新的方法及び設計を提供する。 - 特許庁

The switching power supply device 1 is configured so as to switchingly control switching elements S (Sa to Sd) of the full-bridge circuit 2 by the phase-shift method.例文帳に追加

スイッチング電源装置１は、フルブリッジ回路２のスイッチング素子Ｓ（Ｓａ〜Ｓｄ）をフェイズシフト方式によりスイッチング制御するよう構成されている。 - 特許庁

In this pattern forming method, a circuit pattern 14 is formed on a resist film on a substrate 141 with an exposing process using phase shift masks 10, 12.例文帳に追加

本発明のパターン形成方法は、位相シフトマスク１０，１２を用いた露光により、基板１４１上のレジスト膜に回路パターン１４を形成するものである。 - 特許庁

According to the method, the phase shift in the biological rhythm in the individual organism can be detected by producing and checking a molecular clock table on the individual organism two or more times.例文帳に追加

この方法では、生物個体について複数回作製し、照合することにより、生物個体の生体リズムの位相のずれを検出することができる。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for demodulating one or more channels of an optical differential phase shift keyed (DPSK) signal with a symbol rate of SR.例文帳に追加

ＳＲのシンボル・レートを有する光差分位相シフト・キー（ＤＰＳＫ）信号の１つまたは複数のチャネルを復調する方法および装置を提供すること。 - 特許庁