「phase shift method」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a surface protective film and a device for forming the surface protective film, for reducing degradation of a halftone phase shift mask during cleaning.例文帳に追加

本発明は、ハーフトーン型位相シフトマスクの洗浄時の劣化を少なくすることができる表面保護膜作成方法及び表面保護膜作成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The present invention relates to an attenuated phase shift mask suitable for hyper NA lithographic processing of a device, to a method for making such a mask and to hyper NA lithographic processing using such a mask.例文帳に追加

本発明は、デバイスのハイパーＮＡリソグラフプロセスに適した減衰型の位相シフトマスクと、こうしたマスクを製作する方法と、そして、こうしたマスクを用いたハイパーＮＡリソグラフプロセスに関する。 - 特許庁

The legalized block mask patterns and the legalized phase mask patterns that have been colored define features of a block mask and an alternating phase shift mask, respectively, for use in a dual exposure method for patterning features in a resist layer of the substrate.例文帳に追加

ルール適合化ブロック・マスク・パターンおよびカラーリングされたルール適合化位相マスク・パターンが、それぞれ、基板のレジスト層に構造体をパターン化する二重露光方法で使用するためのブロック・マスクおよび交番位相シフト・マスクの構造体を定義する。 - 特許庁

In an optical receiver 101 that receives an optical signal which has been modulated by a differential M phase phase-shift modulation method, each of delay interferometers 3-1 and 3-2 is inputted with an optical signal that has been branched at a branch part 2 individually.例文帳に追加

差動Ｍ相位相シフト変調方式によって変調された光信号を受信する光受信装置１０１において、遅延干渉計３−１，３−２の各々には、分岐部２で分岐された光信号が個別に入力される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an exposure mask and an exposure method for performing pattern exposure with a high precision and a high resolution for a more versatile pattern with respect to pattern exposure using a Levenson-type phase shift mask.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクを用いたパターン露光において、より多用なパターンについて高精度かつ高解像度でパターン露光を行うことが可能な露光マスクの作製方法および露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radio communication method for extending a digital transmission band by utilizing two different polarized planes and performing amplitude shift modulation by comparison of relative amplitudes in respective polarized planes and superposing it over the existing phase shift modulation.例文帳に追加

本発明は２つの異なる偏波面を利用し、偏波面ごとの相対的振幅の比較による振幅偏移変調を行い、既存の位相偏移変調に重畳することでデジタル伝送帯域を広げる無線通信方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a matrix display device which does not cause a phase shift between a shift clock signal and a serial display data signal even if the screen is made high-definition and enlarged, and is able to prevent erroneous display and video noise from being generated, and to provide a driving method therefor.例文帳に追加

画面を高精細化及び大画面化してもシフトクロック信号とシリアル表示データ信号との間で位相のずれが発生せず、誤った表示及び映像ノイズの発生を防止することができるマトリクス表示装置及びその駆動方法を提供する。 - 特許庁

To provide a detection method of a tracking error signal in which reduction in tracking error signal is made small even though the range of an objective lens shift becomes large and no phase shift occurs with respect to the periodic structure of the recording surface of an optical disk during DVD-RAM recording.例文帳に追加

対物レンズシフトの距離が大きくなってもトラッキング誤差信号の低下が小さく、且つＤＶＤ−ＲＡＭ記録時に光ディスクの記録面の周期構造に対して位相ずれの生じないトラッキング誤差信号の検出方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a halftone phase shift mask includes steps of forming the MoSi halftone phase shift film having a film thickness giving the phase difference of ≤135° on the quartz glass substrate by reactive sputtering and etching the quartz glass substrate using a chromium film as a mask by dry etching by magnetic neutral line discharge plasma with addition of a gas having an effect of protecting a side wall to the process gas.例文帳に追加

また、本発明によるハーフトーン型位相シフトマスクの製造法は、石英ガラス基板上に、反応性スパッタリング法によりＭｏＳｉ系のハーフトーン位相シフト膜を位相差が１３５°以下となるような膜厚に成膜し、続いてクロム膜をマスクとして、磁気中性線放電プラズマによるドライエッチングによりプロセスガスに側壁保護効果をもつガスを添加して、石英ガラス基板をエッチング処理することから成る。 - 特許庁

To provide a phase shift photo mask which has sufficient transmittance of wavelength to be used even for a short exposure light wavelength, has proper transmittance of wavelength for defect inspections to successfully achieve the inspections, to provide a phase shift photo mask blanks for fabricating the mask, and to provide a method for fabricating a semiconductor device using the mask.例文帳に追加

短波長の露光波長に対しても十分な透過率が得られ、使用可能であると共に、欠陥検査波長に対しても適切な透過率を有し、満足すべき検査が可能となる位相シフトフォトマスク及び該マスクを製作するための位相シフトフォトマスクブランクス並びにこのマスクを用いた半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

In a method for making a photomask, a mask pattern 5 is divided into two in the scanning direction of a scanner, and a first division pattern portion 10, consisting of a Levenson type phase shift mask pattern, is formed in one divided region whereas a second division pattern portion 20 consisting of an auxiliary pattern type phase shift mask pattern is formed in the other divided region, thus forming a photomask 1.例文帳に追加

フォトマスク製作工程において、マスクパターン５がスキャナの走査方向で二分割され一方の分割領域にはレベンソン形位相シフトマスクパターンからなる第一分割パターン部１０が、他方の分割領域には補助パターン形位相シフトマスクパターンからなる第二分割パターン部２０が形成されたフォトマスク１が製作される。 - 特許庁

The method and the system comprise a measure to extract the noise elements in signals to be demodulated through phase-shift, a measure to optimize the negation of useful elements via a return loop for processing a phase-shifter, and a measure to add the noise element for improving the carrier to noise ratio in same phase as the signal and also to add in the reversed phase.例文帳に追加

上記方法及び上記装置は、復調する対象の信号の雑音成分を位相シフトによって抽出する方策と、その後の、位相シフト器を処理する帰還ループを介して有用な成分の打ち消しを最適にする方策、及び、キャリア対雑音比を向上させるために雑音成分を前述の信号と同相で加算し、かつ逆相で加算する方策から成る。 - 特許庁

Based on at least part of signals respectively output from first and second line sensor pairs (401 and 402) constituting the cross sensor, the imaging apparatus detects a shift amount of the phase of the signal for every line sensor pair, and obtains a focus state by a phase difference method.例文帳に追加

撮像装置は、クロスセンサを構成する第１の及び第２のラインセンサ対（４０１、４０２）からそれぞれ出力される信号の少なくとも一部に基づいて、信号の位相のずれ量をラインセンサ対ごとに検出し、位相差方式で焦点状態を求める。 - 特許庁

To dispense with phase shift, by enabling a plurality of electronic devices to severally generate triangular waves and enabling them to synchronize those triangular wave signals with each another, having specified phase differences, in a method of synchronizing the phases of the triangular wave signals and its system.例文帳に追加

三角波信号の位相同期方法及びそのシステムにおいて、複数の電子デバイスでそれぞれ三角波信号を発生させるとともに、それらの三角波信号を所定の位相差を持って同期させることを可能にして、位相シフトを不要にすること。 - 特許庁

In a calculation method for the parallelism and the flatness, the sample is moved by a fixed distance along a direction perpendicular to a bottom face of the prism, a change of the interference fringe is image-processed, and calculation is carried out as to the respective obverse and reverse faces, by a phase shift method.例文帳に追加

平行度及び平面度の計算方法は、試料をプリズムの底面に垂直な方向に一定の距離で動かし、干渉縞の変化を画像処理し、表裏それぞれの面について位相シフト法により計算する。 - 特許庁

To provide a semi-transmission type phase shift reticle that can suppress a pseudo defect caused in the oblique boundary line of a chamfered portion partitioning a circuit pattern region from a peripheral region, and to provide an inspection method for the reticle.例文帳に追加

回路パターン領域と周辺部領域とを区画する面取り部の斜め境界線で生じる疑似欠陥を抑制できる半透光方式の位相シフトレチクルとその検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide improved complementary phase shift mask (c:PSM) imaging techniques including a method in which scattering bars are provided on the trim mask in order to allow better CD (critical dimensions) uniformity to be achieved in the double exposure process.例文帳に追加

二重露光プロセスでＣＤの均一性を改良するために、トリムマスク上に散乱バーを設ける方法を含む改良型の相補型移相マスク（ｃ：ＰＳＭ）描像技術について述べる。 - 特許庁

To provide a clock uninterruptible switching device and method, which can prevent out-of-synchronization from occurring at the time of clock switching using a PLL circuit regardless of degree of phase shift of clocks of two systems.例文帳に追加

２つの系のクロックの位相ずれの程度に係わらず、ＰＬＬ回路を用いたクロックの切り替え時に同期外れの発生を防止することのできるクロック無瞬断切替装置および方法を得ること。 - 特許庁

To accurately measure the shapes of objects to be measured even if the objects to be measured has different reflectances according to location in the case of measuring the three-dimensional shape of the object to be measured by a phase shift method.例文帳に追加

位相シフト法により測定対象物の３次元形状を測定する場合において、測定対象物の反射率が場所によって異なっても精度よく形状測定を行うこと。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes an exposure step of exposing a resist layer to linearly polarized light by using a phase shift mask 304 as a mask so as to form a circuit pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、位相シフトマスク３０４をマスクとして、半導体装置の回路パタンを形成するためにレジスト層を直線偏光光で露光する露光工程を含む。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape measuring apparatus, capable of more precisely measuring an amount of displacement along a photographic optical axis direction, using a phase shift method, in which a plurality of lattice images are analyzed.例文帳に追加

複数の格子縞画像を解析し、位相シフト法を用いて、より高い精度の撮影光軸方向の変位量測定を行なうことが可能な３次元形状測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a CDMA receiver with which a stable reception characteristic is obtained by changing a method for calculating a phase shift compensation quantity depending on a state of a transmission channel.例文帳に追加

伝送路の状態に応じて位相変動補償量算出の方法を変えることにより、安定した受信特性を得ることのできるＣＤＭＡ受信機を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain bright reproduced signal light by correcting illumination reference light when a recording material is deformed, the recording material in which a hologram is recorded or reproduced by a shift multiplexing method using spherical waves, a speckle multiplexing method having random wavefront, or a phase code multiplexing method.例文帳に追加

球面波を用いるシフト多重方式、ランダムな波面を持つスペックル多重方式若しくは、位相コード多重方式でホログラムを記録再生した記録材料が変形した場合に、照明参照光を補正して明るい再生信号光を得ること。 - 特許庁

Thus, volume changes in the recording material 1 having a hologram recorded by a shift multiplexing method using spherical waves, a speckle multiplexing method having random wavefront or a phase code multiplexing method can be corrected, thereby obtaining an image bright in reproduced signal light and without any degradation.例文帳に追加

これにより、球面波を用いるシフト多重方式、ランダムな波面を持つスペックル多重方式若しくは、位相コード多重方式でホログラムを記録した記録材料１の体積変化を補正でき、再生信号光が明るく、劣化のない画像を得ることができる。 - 特許庁

The analysis section 52 determines the intensity component and phase component of second reflected light generated on the surface or in the interior of the observation object 9 on the basis of an interference light image obtained by setting an optical path length difference to be each target value successively by the phase shift method and photographing by the photographing section 51.例文帳に追加

解析部５２は、位相シフト法により光路長差が各目標値に順次に設定されて撮像部５１により撮像された干渉光像に基づいて、観察対象物９の表面または内部で生じた第２反射光の強度成分および位相成分を求める。 - 特許庁

The method for adjusting the phase of a plane light wave circuit type delay demodulation device provided with Mach-Zehnder interferometers (MZIs) 4, 5 to which a DQPSK (Differential Quadrature Phase Shift Keying) signal is input and heaters A to H formed on each-two arm waveguides 8, 9, 12, 13 of respective MZIs 4, 5 to demodulate the DQPSK signal includes the following steps.例文帳に追加

DQPSK信号が入力されるマッハツェンダー干渉計（MZI）４，５と、各MZIの２つのアーム導波路８，９，１２，１３上に形成されたヒータA〜Hと、を備え、DQPSK信号を復調させる平面光波回路型の遅延復調デバイスの位相調整方法は、以下のステップを含む。 - 特許庁

A beam control 20 calculates and outputs each phase shift of variable phase shifters 3-1-3-N to conduct adaptive beam control, using a predetermined adaptive beam control method which turns the main beam of the array antenna 100 to a predetermined direction based on the signals after time division processing.例文帳に追加

ビーム制御回路２０は、時分割処理後の信号に基づいてアレーアンテナ１００の主ビームを所定の方向に向けるような所定の適応ビーム制御法を用いて、可変移相器３−１乃至３−Ｎの各移相量を計算して出力して適応ビーム制御を行う。 - 特許庁

This method uses an entity grid-type moire optical system to exactly shift a specific fringe order moire fringes by desired phase, and limits its measuring area to the vicinity of the fringe order, performing three- dimensional measurement of surface shape of a specimen from at least three phase-shifted moire fringes data.例文帳に追加

実体格子型のモアレ光学系を用い、特定の縞次数のモアレ縞を所望の位相だけ正確にシフトさせて、測定領域をその縞次数近辺に限定して、少なくとも３つの位相シフトしたモアレ縞データから被検物表面の形状を３次元測定する。 - 特許庁

The method for exposure includes a process of first exposure by using a chromium mask 1 having a shading region 11 as a two-dimensional random pattern and a process of second exposure by using a chromium-free phase shift mask 2 having a part 15 of the phase shifter edge 16 of the phase shifter 20 in the position corresponding to the shading region 11.例文帳に追加

二次元ランダムパターン形状である遮光領域１１を有するクロムマスク１を用いて第１の露光を行う工程と、遮光領域１１に対応する位置に位相シフタ２０の位相シフタエッジ１６の一部１５を有するクロムレス位相シフトマスク２を用いて第２の露光を行う工程とを備えることによって上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a multilayer halftone type phase shift mask in which a transmittance suppression effect that develops according to a high transmittance layer having occurred when using a halftone type phase shift mask comprising a conventional two layer or multilayer film in the wavelength range of 140-200 nm including the wavelength 157 nm of an F_2 excimer laser, does not become a problem; and also to provide a manufacturing method of the mask blank.例文帳に追加

Ｆ_2エキシマレーザの波長１５７ｎｍを含む１４０〜２００ｎｍの波長範囲において、従前の２層又は多層膜からなるハーフトーン型位相シフトマスクを使用する上で生じていた、高透過率層に付随して発現してしまう透過率抑制効果が問題とならないような、多層型ハーフトーン型位相シフトマスク及びそのマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for designing a phase shift mask includes steps of: placing an underlay pattern 102 in the layout data designing a phase shift mask; placing a first overlay pattern 100 overlapping the underlay pattern 102 and a second overlay pattern 101 not overlapping the underlay pattern in the layout data; and placing a dummy underlay pattern 105 overlapping the second overlay pattern 101 in the layout data.例文帳に追加

位相シフトマスクの設計方法は、位相シフトマスクを設計するレイアウトデータに、下層パターン１０２を配置するステップと、レイアウトデータに下層パターン１０２と重なる第１の上層パターン１００及び下層パターンと重ならない第２の上層パターン１０１を配置するステップと、レイアウトデータに第２の上層パターン１０１と重なるダミー下層パターン１０５を配置するステップとを備えている。 - 特許庁

The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.例文帳に追加

透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁

The method includes the steps of providing a differential phase shift keyed signal, inputting the differential phase shift keyed signal into a delay device adapted to split the differential phase shift keyed signal into at least two signals on at least two arms and to delay the signal on at least one arm by about one bit period, and coherently combining the signals on the at least two arms to produce alternate mark inversion and/or duobinary signals.例文帳に追加

方法は、差動位相偏移変調信号を提供する工程と、差動位相偏移変調信号を、少なくとも２つのアーム上で少なくとも２つの信号に分割し、少なくとも１つのアーム上の信号を、約１ビット期間だけ遅延されるようになされた遅延デバイスに、前記差動位相偏移変調信号を入力する工程と、 前記少なくとも２つのアーム上の信号をコヒーレントに結合する工程であって、それによって、交番マーク反転かつ／またはデュオバイナリ信号を生成する、コヒーレントに結合する工程とを含む。 - 特許庁

To enhance the accuracy of measurement with a simple structure even if an object to be measured where surface regions having different reflectivities due to letters, patterns, etc., coexist, by a three-dimensional shape measuring method and its device using a phase shift method.例文帳に追加

位相シフト法を用いる３次元形状計測方法および装置において、簡単な構成により、表面に文字や柄などによる反射率の異なる領域が混在する被計測物体についても計測精度を向上可能とする。 - 特許庁

To provide a printed matter in which a latent image can not be observed from the front but is good in visibility when observing slantwise by arranging a plurality of lens arrays so as to shift by a phase modulation method.例文帳に追加

複数のレンズアレイを位相変調法により配列をずらして配置することによって、正面からの潜像は観察できず、傾けて観察した場合における視認性が良好な印刷物を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a mask substrate, which minimizes adhesion of residual sulfuric acid ions on the mask substrate with a high removing rate of foreign matter, and never damages a light-shielding film or phase shift film of the mask substrate.例文帳に追加

マスク基板上の残留硫酸イオンの付着量が少なく、異物の除去率が高く、また、マスク基板の遮光膜や位相シフト膜へのダメージを与えることがないマスク基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an image correcting method for a device for simultaneously measuring phase-shift interference fringes capable of automatically adjusting the contrast and luminance of three simultaneously obtained interference fringe images through the use of electric image pickup data.例文帳に追加

電気的な撮像データを用いて、同時的に得られる３つの干渉縞画像のコントラストや輝度を自動的に調整できるような位相シフト干渉縞の同時計測装置の画像補正法を得るにある。 - 特許庁

To provide a CCD camera for measuring a real-time shape capable of obtaining an contour line image or an equal displacement line image with small errors by a phase-shift scanning moire method even in the case that an object moves.例文帳に追加

位相シフト走査モアレ法によって物体が動く場合でも小さい誤差で等高線画像又は等変位線画像を実時間で得ることができる実時間形状計測用ＣＣＤカメラを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a phase shift mask in which generation of an unnecessary pattern can be suppressed with high accuracy by accurately extracting the position where an unnecessary pattern due to overlapping of side lobes on transferring a pattern is generated.例文帳に追加

パターン転写時のサイドローブ重なりによる不要パターンの発生位置を的確に抽出することにより、高精度に不要パターンの発生を抑えることが可能な位相シフトマスクの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light modulator wherein accelerating drive is performed in order to raise the nonlinearity, so that its response is improved when excess phase shift keyed (DPSK) transmission is performed, and an operation method of the light modulator.例文帳に追加

その非線形性を高めるために増速駆動され、それが差分位相シフト・キード（ＤＰＳＫ）伝送に関わるときにその応答性が向上される光変調器、およびそれの動作方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a magnetic resonance imaging apparatus, an imaging condition setting method in the magnetic resonance imaging apparatus, and a data processing method in the magnetic resonance imaging apparatus capable of reducing the positional shift of an image due to frequency correction of an excitation pulse using a frequency offset and a phase shift which occurs at a similar frequency during readout of echo data.例文帳に追加

周波数オフセットを用いた励起パルスの周波数補正と同様に発生するエコーデータ読出し中の位相シフトに起因する画像の位置シフトを低減することが可能な磁気共鳴イメージング装置、磁気共鳴イメージング装置における撮影条件設定方法および磁気共鳴イメージング装置におけるデータ処理方法である。 - 特許庁

In an embodiment, the method includes a step of acquiring information about the shift in the characteristics and a step of determining a desired change in phase to compensate at least partially for the shift in the characteristics to be applied to at least part of a radiation beam used to apply a pattern feature to a substrate.例文帳に追加

一実施形態では、この方法には、特性のずれに関連する情報を得る工程と、基板にパターンフィーチャを加えるために使用される放射ビームの少なくとも一部に加えられる、特性のずれを少なくとも部分的に補償することになる所望の位相変化を決定する工程が含まれている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask by which an optimum etching period can be always set corresponding to changes in a device state with lapse of time upon dry-etching a shifter film of a phase shift mask, particularly for a halftone phase shift mask, etching conditions can be set considering variance in the shifter film thickness caused by formation of a shifter film or etching of a chromium light shielding film.例文帳に追加

フォトマスクの製造方法に関し、位相シフトマスクのシフター膜をドライエッチングする際、経時的な装置状態の変化に対応して常に最適なエッチング時間の設定を行うことができるように、特に、ハーフトーン型の位相シフトマスクにおいては、シフター膜形成やクロム遮光膜のエッチングによって生じるシフター膜厚のばらつきを考慮したエッチング条件の設定を行なうことができるようにする。 - 特許庁

The programming method and the writing driver circuit increases the speed of a crystalizing growth of the phase shift material by passing the nucleus formation stage and the crystalizing growth stage at the crystalizing operation.例文帳に追加

本発明によるプログラミング方法および書込みドライバ回路は、相変化物質の結晶化動作時に相変化物質が核形成段階を経て結晶成長段階を経るようにすることによって結晶化動作の速度を向上させる。 - 特許庁

To provide a folding device which simplifies an adjustment of a phase shift in accordance with a conveyance speed of webs and characteristics of the webs and reliably suppresses the decline in manufacturing quality of the absorbent article, and to provide a method of manufacturing absorbent articles.例文帳に追加

ウェブの搬送速度やウェブの特性などに応じて、位相ずれの調整を簡素化でき、吸収性物品の製造品質の低下を確実に抑制できる折り装置及び吸収性物品の製造方法を提供する。 - 特許庁