「phase shift method」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a phase shift mask blank having a light semi-transmission film or a light semi-transmission area with a specified phase angle and transmittance and excellent film characteristics such as good chemical resistance, good light resistance and reduced inner stress, and to provide a method for manufacturing a phase shift mask.例文帳に追加

所定の位相角及び透過率を有し、耐薬品性、耐光性、及び内部応力などの膜特性に優れた光半透過膜又は光半透過部を有する位相シフトマスクブランクの製造方法又は位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correcting method of a phase shift photomask that can raise and stabilize the yield of mask production by making efficient defect inspection and correction stages of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクにおける欠陥検査及び修正工程の効率化を図り、マスク生産における歩留の向上及び安定を図ることができる位相シフトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

Since the interference fringe changes on the phase shift part, in the shape evaluation method of the diffraction grating, the shape of the diffraction grating having the phase shift part can be evaluated with high accuracy.例文帳に追加

この干渉縞は、位相シフト部において変化するため、この回折格子の形状評価方法においては、位相シフト部を有する回折格子の形状評価を高い精度でおこなうことができる。 - 特許庁

To develop a method for analyzing and synthesizing nth-order voltage and current-mode arbitrary phase shift oscillator structures.例文帳に追加

第ｎ次電圧と電流モードの任意のフェース・シフトのオシレータ構造を分析して合成する方法の開発。 - 特許庁

To obtain a device design and a processing method for detecting a frequency and a phase shift of an input signal.例文帳に追加

入力信号の周波数及び位相シフトを検出するデバイス設計及び処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a Levenson type phase shift mask having excellent resolution and free of defects.例文帳に追加

解像性に優れた欠陥のないレベンソン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a Levenson type phase shift mask that can significantly improve CD (Critical Dimension) performance, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

CDパフォーマンスの大幅な改善が可能なレベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of locally depositing a material having characteristics of specified attenuation and phase shift.例文帳に追加

特定の位相シフトと減衰の特性を有する材料を局所的に堆積させる方法を提供すること。 - 特許庁

TRANSMISSION/RECEPTION SYSTEM IN ASYNCHRONOUS TYPE PULSE POSITION PHASE SHIFT MODULATION SYSTEM AND ITS TRANSMISSION/RECEPTION SIGNAL PROCESSING METHOD例文帳に追加

非同期式パルス位置位相偏移変調方式の送受信システム及びその送受信信号処理方法 - 特許庁

To provide a phase shift keying(PSK) modulator and a modulation method which use a period width window technique.例文帳に追加

本発明は、期間幅ウインド技法を用いるＰＳＫ（位相偏移キーイング）復調器および復調方法に関する。 - 特許庁

DEVICE PROVIDING REPRODUCED IMAGE OF OBJECT, PHASE SHIFT DIGITAL HOLOGRAPHY DISPLACEMENT DISTRIBUTION MEASURING DEVICE, AND METHOD FOR IDENTIFYING PARAMETER例文帳に追加

物体の再生像を得る装置、位相シフトデジタルホログラフィ変位分布計測装置及びパラメータを同定する方法 - 特許庁

To provide a field-effect transistor that can suppress the phase shift of an amplifying signal, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

増幅信号の位相シフトを抑えることができる電界効果トランジスタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask that can significantly improve CD (critical dimension) performance, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

CDパフォーマンスが大幅に改善されたハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method, etc., of manufacturing phase shift mask blanks which is capable of decreasing the variations in phase angle and transmittance among the blanks as far as possible and good in yield.例文帳に追加

ブランクス間における位相角及び透過率のばらつきを極力低減でき、歩留まりの良い位相シフトマスクブランクの製造方法等を提供する。 - 特許庁

The method for phase-shifting bits in a digital signal pattern combines a bit-wise phase shift signal and an external clock signal, to generate a perturbed clock signal (402).例文帳に追加

ディジタル信号パターンにおけるビット移相方法は、ビット毎移相信号を外部クロック信号と結合して、摂動クロック信号を生成する（４０２）。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask blank which can reduce variances in phase angle and transmissivity between blanks as much as possible and has a good yield.例文帳に追加

ブランクス間における位相角及び透過率のばらつきを極力低減でき、歩留まりの良い位相シフトマスクブランクの製造方法等を提供する。 - 特許庁

To surely detect a location, where unwrap failure has occurred, to a phase image in a surface shape measurement by a phase shift method.例文帳に追加

本発明の目的は、位相シフト法による面形状測定において、位相画像に対するアンラップの失敗箇所を確実に検出することにある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask, by which changes in optical characteristics of a phase shift film upon modifying the phase shift mask and cleaning the mask can be suppressed, and dimensional changes and film reduction of a patterned light-shielding film made of a chromium material occurring upon modifying the phase shift mask can be suppressed.例文帳に追加

本発明は、位相シフト膜改質時およびマスク洗浄時に生じる位相シフト膜の光学特性変動を抑制することができ、かつ、位相シフト膜改質時に生じる、クロム系材料からなるパターン状の遮光膜の寸法変動および膜減りを抑制することができるハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

The method of inspecting the phase shift mask comprises using the light of the wavelength different from the wavelength used in performing exposure with the mask as the wavelength of the measuring light in measurement of the phase difference in the phase shifter section or translucent phase shifter section of the phase shift mask having at least the phase shifter section or translucent phase shifter section on a transparent substrate or the transmittance of the translucent phase shifter section.例文帳に追加

透明基板上に、少なくとも、位相シフター部又は半透光性位相シフター部を有する位相シフトマスクにおいて、前記位相シフター部又は半透光性位相シフター部の位相差及び前記半透光性位相シフター部の透過率の測定における測定光波長として、マスクで露光する際に用いる波長とは異なる波長の光を用いることを特徴とする位相シフトマスクの検査方法。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for forming a pattern having excellent dimensional uniformity at a low cost without decreasing the integration degree, and to provide a method for forming a pattern by using the above phase shift mask and a method for manufacturing an electronic device.例文帳に追加

集積度を低下させることなく、かつ低コストで、寸法均一性に優れたパターンを形成できる位相シフトマスク、その位相シフトマスクを用いたパターンの形成方法および電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask that can be manufactured while suppressing increase in the cost or the number of processes, and to provide a method for manufacturing the phase shift mask and a method for manufacturing a semiconductor device that can suppress increase in the cost and the number of processes.例文帳に追加

費用や工程数の増加を抑えつつ製造することが可能な位相シフトマスク、費用や工程数の増加を抑えることが可能な位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a phase shift reticle by which an overlap positional precision between a light shielding film of the phase shift reticle and a phase shifter can be evaluated highly precisely, and a overlap plotting is conducted again when the overlapped positional precision is judged to be insufficient.例文帳に追加

位相シフトレチクルの遮光膜と位相シフタ−との精度の良い重ね合わせ位置精度の評価が可能で、仮に重ね合わせ位置精度が良くない場合には、重ね合わせ描画のやり直しができる位相シフトレチクルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a semiconductor device, by which a fine pattern is formed even without using an assist pattern method or a phase shift mask and defect inspection on a mask is easily performed.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

To provide a programming method that minimizes the set time of phase shift memory and a writing driver circuit that realizes the programming method.例文帳に追加

相変化メモリのセット時間を最小化するプログラミング方法およびプログラミング方法を具現する書込みドライバ回路を提供する。 - 特許庁

The method includes the steps of: creating essentially parallel alternating phase shift regions aligned with the critical width segments and extending beyond ends of at least some of the critical width segments; enclosing the integrated circuit layout and the alternating phase shift regions with a boundary; extending the alternating phase shift regions to an edge of the boundary; and creating the alternating phase shift/mask based on the alternating phase shift regions.例文帳に追加

この方法は、これらのクリティカルな幅のセグメントに整列し、かつこれらクリティカルな幅のセグメントの少なくとも一部の端部を越えて延長する本質的に平行な交互位相シフト領域を生成することと、集積回路レイアウトおよび交互位相シフト領域をバウンダリで取り囲むことと、交互位相シフト領域をこのバウンダリのエッジまで延長することと、その後、これらの交互位相シフト領域に基づいて交互位相シフト・マスクを生成することとを含む。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus wherein a phase shift method can be applied to a stereolattice-type moire method simply and without any trouble, without a need of the movement operation of a lattice pattern in order to change the phase of moire fringes.例文帳に追加

モアレ縞の位相を変化させるために格子パターンの移動動作を必要とせず、実体格子型のモアレ法に対して位相シフト法を簡単かつ支障なく適用できるようにする。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a phase shift reticle with which high superposition position accuracy of a light shielding film and a phase shifter can be evaluated in a manufacturing stage of the phase shift reticle, a supperposition drawing can be restarted if the superposition position accuracy is not good and the evaluation of an accurate superposition is possible also after the manufacture of the phase shift reticle is completed.例文帳に追加

位相シフトレチクルの製造段階から遮光膜と位相シフタ−との精度の良い重ね合わせ位置精度の評価が可能で、仮に重ね合わせ位置精度が良くない場合には、重ね合わせ描画のやり直しができ、位相シフトレチクルが完成してからも精度の良い重ね合わせ評価のできる位相シフトレチクルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of efficiently preventing a charge-up phenomenon and manufacturing a phase shift mask with high accuracy.例文帳に追加

チャージアップ現象を効率良く防止し、高精度の位相シフトマスクを製造することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce an error caused by a speckle pattern or halation in a displacement distribution measuring method utilizing a phase shift digital holography.例文帳に追加

位相シフトデジタルホログラフィを利用した変位分布計測方法において、スペックルパターンやハレーションによる誤差を低減する。 - 特許庁

To provide a method for producing a phase-shift mask free from lowering of the quality caused by the deviation in the alignment of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクのアライメントずれによって品質の低下を招くことのない位相シフトマスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask blank easily realizing desired transmittance and having favorable chemical resistance.例文帳に追加

簡便に所望の透過率を得ることができ、薬品耐性が良い位相シフトマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To achieve exposure with high resolution by performing phase shift with high accuracy in a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、高い精度で位相シフトを行なわせて高い解像度での露光を可能とする。 - 特許庁

To provide an eaves type Levenson phase shift mask for transferring a fine pattern in which fragments of eaves are restored with high accuracy, and to provide a mask defect modifying method for restoring broken parts of the eaves of the eaves type phase shift mask.例文帳に追加

ひさし折れが修復された、微細パターンを高精度に転写できるひさし型レベンソン位相シフトマスクと、ひさし型位相シフトマスクのひさし折れ部分を修復できるマスク欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for easily manufacturing an ND filter having an inclination function, to prevent the occurrence of a phase shift due to an optical path difference, and to provide an ND filter having the gradient function which does not generate phase shift due to optical path difference.例文帳に追加

光路差による位相ズレの生じない傾斜機能を有するＮＤフィルターを容易に製造する製造方法および、光路差による位相ズレの生じない傾斜機能を有するＮＤフィルターを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which no correction scum of a residual defect is left when the residual defect of a halftone phase shift mask is removed by using an AFM (atomic force microscope) correcting device.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの残留欠陥をＡＦＭ型修正機を用いて除去する際、残留欠陥の修正カスを残さないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

At phase detection calculation with phase shift, amplitude is calculated at the same time, and an approximate surface form value is obtained by a shape-from-focus method using the amplitude information, and unlapping of phase is performed using the value.例文帳に追加

位相シフトによる位相検出演算時に、振幅も同時に演算し、振幅情報を用いてShape from Focus法から概略の表面形状値を求め、その値を用いて位相のアンラッピングを行う。 - 特許庁

The method includes a step for forming at least one non-critical feature on a mask by utilizing one of a low transmittance phase shift mask (pattern) and a non-phase shift mask (pattern) and a step for forming at least one critical feature on the mask by utilizing a high transmittance phase shift mask (pattern).例文帳に追加

この方法は、低透過率位相シフト・マスク（パターン）と非位相シフト・マスク（パターン）の一方を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルでないフィーチャを形成するステップと、高透過率位相シフト・マスク（パターン）を利用してマスク上に少なくとも１つのクリティカルなフィーチャを形成するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a negative feedback amplifier phase controlling method which is capable of detecting a phase shift and adjusting the phase of local signals without using a phase control circuit composed of a high-accuracy phase difference detection circuit and a pulse circuit in a negative feedback amplifier of Cartesian loop system in which the amplifier is set stable by adjusting the phase shift of local signals.例文帳に追加

ローカル信号の位相シフト量を調節して負帰還増幅器を安定化させる、カーテシアンループ方式の負帰還増幅器において、高精度の位相差検出回路やパルス回路から構成される位相制御回路を使用せずに位相回りを検出してローカル信号の位相を調整することが可能な、負帰還増幅器の位相制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for wavelength independent phase modulation which generates a phase shift without depending on wavelength and does not assume the presence of a theoretically ideal optical element.例文帳に追加

波長に依存しない位相シフトを与えられ、かつ、理論的に理想的な光学素子の存在を仮定しない波長非依存型位相変調装置及び方法を実現する。 - 特許庁

To form a fine pattern without using an auxiliary pattern method and a phase shift mask or the like, and to easily inspect the fault of the mask.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

An analysis unit uses the image data obtained by scanning the board to inspect the height of the surface to be inspected by a phase shift method.例文帳に追加

解析ユニットは、基板を走査して得られた画像データを利用して、位相シフト法により被検査面の高さを検査する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which enables a light shielding film to uniformly be deposited even at a step part of a substrate and its manufacturing method.例文帳に追加

基板の段差部にも遮光膜の成膜を均一に行うことができる位相シフトマスクと、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for designing a new phase shift mask with less dimensional change in a pattern even in a random logic pattern.例文帳に追加

ランダムロジックパターンにおいてもパターンの寸法変動が少ない新たな位相シフトマスクの設計方法を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a display adjustment method and a display device which accurately and easily adjust a phase shift without requiring a dedicated circuit.例文帳に追加

専用回路を必要とせず、精度良く簡易に位相ズレを調整可能な表示調整方法、表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a Levenson type phase shift mask having excellent balance of quantity of transmitted light and free of defects.例文帳に追加

透過光量バランスに優れた欠陥のないレベンソン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁