「phase shift method」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of repairing a phase shift mask, comprising a substrate and a phase shift pattern formed on the substrate includes a step S42 of forming a protective film on the exposed surfaces of the phase shift mask and a step S43 of cleaning the phase shift mask.例文帳に追加

基板及び前記基板上に形成された位相シフトパターンを有する位相シフトマスクを修理する方法において、位相シフトマスクの露出された表面に保護膜を形成する段階Ｓ４２と、位相シフトマスクを洗浄する段階Ｓ４３と、を含むことを特徴とする位相シフトマスクの修理方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a halftone type phase shift mask in which black defects of a light shield layer are removed and black defects in a phase shift layer are not generated and transmissivity is not deduced due to gallium stain and phase difference due to decrease in thickness of a phase shift layer pattern is not varied.例文帳に追加

遮光層の黒欠陥は除去され、位相シフト層の黒欠陥は発生させず、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層パターンの厚みの低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

OPTICAL RECEIVER AND OPTICAL RECEIVING METHOD CORRESPONDING TO DIFFERENTIAL M-PHASE SHIFT MODULATION SYSTEM例文帳に追加

差分Ｍ位相偏移変調方式に対応した光受信器および光受信方法 - 特許庁

Height data are obtained by the phase shift method at a three-dimensional measurement apparatus control section 7.例文帳に追加

三次元計測装置制御部７では位相シフト法により高さデータが求められる。 - 特許庁

HALFTONE PHASE SHIFT MASK, AND EXPOSURE METHOD OF RESIST AND EXPOSURE APPARATUS OF RESIST USING THE SAME例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスク及びそれを用いたレジスト露光方法並びにレジスト露光装置 - 特許庁

To provide a method and apparatus for transmitting alternate-polarization phase-shift-keyed data.例文帳に追加

交代偏光位相シフトキード・データを伝送するための方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transmission method for a QAM/QPSK(quadrature amplitude modulation/quadrature phase shift keying) modulation analog information signal.例文帳に追加

ＱＡＭ／ＱＰＳＫ変調アナログ情報信号の伝送方法を提供すること。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK BY USING IT例文帳に追加

レジスト組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

ENCODER USING DIRECT OPTICAL N-STATE PHASE SHIFT KEYING, ITS SYSTEM, AND METHOD FOR ENCODING例文帳に追加

ダイレクト光学Ｎ相位相シフトキーイングを用いたエンコーダ、そのシステム及びエンコード方法 - 特許庁

ADJUSTING METHOD OF BRANCHED IMAGING MECHANISM IN PHASE SHIFT INTERFERENCE FRINGE SIMULTANEOUS IMAGING DEVICE例文帳に追加

位相シフト干渉縞同時撮像装置における分枝撮像機構の調整方法 - 特許庁

OPTICAL RECEIVER AND OPTICAL RECEPTION METHOD ADAPTABLE TO DIFFERENTIAL M PHASE SHIFT KEYING MODULATION SYSTEM例文帳に追加

差分Ｍ位相偏移変調方式に対応した光受信器および光受信方法 - 特許庁

To provide a method for accurately adjusting the phase contrast of a phase shift mask by appropriately selecting materials used for the phase shift mask (a transparent substrate and a phase shifter film) and an etching solution.例文帳に追加

位相シフトマスクに使用される材料（透明基板及び位相シフタ膜）及びエッチング薬液を適宜選定することにより、位相シフトマスクの位相差を精度良く調整する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a phase shift mask that prevents the dimension of a pattern transferred to a photoresist from changing even if the exposure frequency increases, a method of manufacturing the phase shift mask, and a method of manufacturing a semiconductor device using the phase shift mask.例文帳に追加

本発明は、フォトレジストに転写されたパターンの寸法が、露光回数が多くなっても変化しない位相シフトマスク、その製造方法、および、その位相シフトマスクを使用した半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an inspecting method for phase shift mask and an inspecting device for phase shift mask for optimizing a criterion for size of a defect to be detected according to results (individual differences of optical characteristics) of transmissivity, phase difference, etc., by phase shift masks, and the manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

位相シフトマスク毎の透過率や位相差などの出来映え（光学的特性の個体差）に応じて、検出すべき欠陥サイズの判定基準を適正化する位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの検査装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To easily apply the phase shift method to a stereoscopic lattice type moire method without any difficulty.例文帳に追加

実体格子型のモアレ法に対して位相シフト法を簡単かつ支障なく適用できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for solving the problem of phase coupling at the time of computing a phase by an inverse tangent function in three- dimensional measurements by phase shift method.例文帳に追加

位相シフト法による３次元計測において、逆正接関数により位相導出を行う際の位相連結の問題を解決する方法を提供する。 - 特許庁

To provide the method for manufacturing a phase shift mask of a carved substrate type which can precisely set a phase difference between transparent regions to set a specified phase difference.例文帳に追加

基板彫り込み型の位相シフトマスクの所定の位相差を設ける透明領域間の位相差を正確に設定することができ製造方法。 - 特許庁

To provide a light receiving device and light receiving method, for reducing a sampling phase shift by implementing detection of the sampling phase shift immune to waveform distortion of received signal light.例文帳に追加

受信信号光の波形歪みに強いサンプリング位相ずれの検出を実現し、サンプリング位相ずれを減少させるる光受信器および光受信方法を提供する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank having a halftone phase shift film which can control the retardation and transmittance as a phase shift mask for exposure light and the transmittance at an inspection wavelength, which has excellent chemical resistance and excellent patterning property by etching, and to provide a phase shift mask and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

露光光での位相シフトマスクとしての位相差，透過率や検査波長での透過率を制御でき、耐薬品性に優れ、さらにエッチングによるパターニング性に優れたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

METHOD FOR DECIDING MASK CROSS SECTION STRUCTURE IN SUBSTRATE ENGRAVED TYPE PHASE SHIFT MASK OF ONE-SIDE ENGRAVED TYPE例文帳に追加

片掘り型の基板掘り込み型位相シフトマスクにおけるマスク断面構造の決定方法 - 特許庁

To apply a phase shift method to a workpiece having a rough surface to accurately detect an abnormal concave-convex irregularity.例文帳に追加

粗表面ワークに位相シフト法を適用し、その異常凹凸を精度良く検出する。 - 特許庁

A controller 7 computes a height of the cream soldering by the phase shift method, based on an image- pick-up data.例文帳に追加

制御装置７は、撮像データに基づき位相シフト法によりクリームハンダの高さを演算する。 - 特許庁

To provide a method for estimating a phase shift of a signal S_1 to a reference signal S_0.例文帳に追加

基準信号Ｓ_０に対する信号Ｓ_１の位相シフトを推定する方法を提供する。 - 特許庁

REFLECTOR FOR EXTREME UV LIGHT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

極短紫外光の反射体およびその製造方法、位相シフトマスク、並びに露光装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING MULTIPLEX DOCUMENT USING PHASE SHIFT AND AMPLITUDE OF ULTRASONIC WAVE例文帳に追加

超音波の位相シフト及び振幅を使用して多重文書を検出する方法及び装置 - 特許庁

NTH-ORDER ARBITRARY-PHASE-SHIFT SINUSOIDAL OSCILLATOR STRUCTURE AND ANALYTICAL SYNTHESIS METHOD OF MAKING THE SAME例文帳に追加

Ｎ次の任意のフェース・シフト正弦波オシレータの構造とその分析合成による製作方法 - 特許庁

A controller 7 calculates a the height of the solder paste by the phase shift method, based on imaging data.例文帳に追加

制御装置７は、撮像データに基づき位相シフト法によりクリームハンダの高さを演算する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for generating a mask pattern for alternating phase-shift mask lithography.例文帳に追加

交番位相シフト・マスク・リソグラフィのマスク・パターンを生成する方法および装置を提供すること。 - 特許庁

REPRODUCING METHOD FOR PHASE SHIFT DIGITAL HOLOGRAPHY USING SPHERICAL WAVE REFERENCE BEAM, AND DISPLACEMENT DISTRIBUTION MEASURING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

球面波参照光を用いた位相シフトデジタルホログラフィの再生方法及び変位分布計測方法及び装置 - 特許庁

ADJUSTING DEVICE AND METHOD, MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL DISK DRIVE, AND ITS PHASE SHIFT AMOUNT ADJUSTING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

光ディスク装置の調整装置、調整方法及び製造方法、並びに位相ずらし量調整方法及び調整装置 - 特許庁

To provide a method and a device for high-speed shape measurement by applying a phase shift method to an entity grid-type moire method and then obtaining a phase shifted image via a single series of imaging.例文帳に追加

実体格子型のモアレ法に位相シフト法を適用して、１回の１連の撮像により位相シフトした画像を得ることを可能とし、高速に形状測定を行う。 - 特許庁

To provide a method for correcting a phase-shift mask, wherein the method can accurately correct a micropattern without degrading throughput, damaging glass substrates and other half-tone patterns, or leaving correction traces, when correcting black defects in a half-tone phase-shift mask, and to provide a corrected phase-shift mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの黒欠陥修正において、スループットを低下させずに、ガラス基板や他のハーフトーンパターンに損傷を与えず、修正痕を残さずに、微細パターンの修正を精度良く行うことができる位相シフトマスクの修正方法および修正された位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a phase shift mask which has a binary pattern region and a plurality of phase shift pattern regions on one mask and also has superior size precision and positioning precision and high quality using photolithography of ≤65 nm in half pitch on a wafer, and the phase shift mask obtained by the manufacturing method.例文帳に追加

ウェハ上のハーフピッチ６５ｎｍ以下のフォトリソグラフィにおいて、１枚のマスク上にバイナリパターン領域と、複数の位相シフトパターン領域とを有し、寸法精度、位置合わせ精度に優れた高品質の位相シフトマスクの製造方法とその製造方法による位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To continuously shift a phase while using a microscope without using many different modulators in a phase shift method and device for realizing phase difference observation or modulation contrast observation in the microscope.例文帳に追加

顕微鏡で位相差観察または変調コントラスト観察を実現するための位相シフト方法および装置において、多数の異なる変調器を使用せずに、顕微鏡の使用中に連続的な位相シフトを可能にさせる。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a phase shift mask, which never detects a false defect of a pattern as a pattern defect by mistake when a pattern defect of the phase shift mask is inspected.例文帳に追加

位相シフトマスクのパターン欠陥検査に際し、パターンの疑似欠陥を誤ってパターン欠陥として検出することがないようにした、位相シフトマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

MOBILE COMMUNICATION SYSTEM, BASE STATION CONTROLLER, PHASE SHIFT CORRECTION METHOD USED THEREFOR, AND PROGRAM THEREFOR例文帳に追加

移動体通信システム、基地局制御装置及びそれらに用いる位相ずれ補正方法並びにそのプログラム - 特許庁

To provide a method for producing a phase shift mask, capable of contributing to fineness and high accuracy of a circuit pattern.例文帳に追加

回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chromeless phase shift mask that can significantly improve CD (Critical Dimension) performance, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

CDパフォーマンスが大幅に改善されたクロムレス位相シフトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR PROCESSING DATA USING COMPLEX QUADRATURE PHASE SHIFT KEYING OF WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM例文帳に追加

無線通信システムにおける複合直交位相シフト方式を利用したデータ処理装置及びその方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask that can contribute to a finer circuit pattern and higher accuracy.例文帳に追加

回路パターンの微細化や高精度化に貢献し得る位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Other features of this method are that the amorphous silicon islands and contact holes are formed with a phase shift mask.例文帳に追加

本方法の他の特徴は、アモルファスシリコンアイランドとコンタクトホールを位相シフトマスクで形成することにある。 - 特許庁

Further, it can be discriminated whether the flaw is a recessed or projected one by utilizing a phase shift method.例文帳に追加

さらに、欠陥が凹状か凸状かは位相シフト法を利用することにより判別することができる。 - 特許庁

To provide a measurement device of phase shift method of high measurement precision with a reduced size of the device.例文帳に追加

装置を小型化するとともに測定精度も高い位相シフト法による計測装置を提供する。 - 特許庁

To determine the material constitution and the content ratio of the constituent elements of a halftone phase shift mask and a halftone phase shift mask blank adapted to ArF or F2 excimer laser exposure in consideration of film properties such as optical properties and resistance, to provide a halftone phase shift mask and a halftone phase shift mask blank and to provide a method for producing those.例文帳に追加

ＡｒＦ、Ｆ２エキシマレーデー露光に対応したハーフトーン型位相シフトマスクおよびハーフトーン型位相シフトマスクブランクの材料構成および構成元素の含有比率を、光学特性や耐性等の膜特性等から鑑みて定め、ハーフトーン型位相シフトマスクおよびハーフトーン型位相シフトマスクブランク並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

SHAPE MEASURING METHOD AND SHAPE MEASURING DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD, COMPLEX AMPLITUDE MEASURING METHOD, AND COMPLEX AMPLITUDE MEASURING DEVICE例文帳に追加

位相シフト法による形状測定方法及び形状測定装置、並びに複素振幅計測方法及び複素振幅計測装置 - 特許庁