「phase shift method」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a transmission type phase shift photomask which efficiently manufactures the high-quality photomask which is free of roughness in an etching surface, is improved in the overlap accuracy of a resist pattern and a light shielding layer pattern and has excellent resolution property.例文帳に追加

エッチング面に荒れがなく、レジストパターンと遮光層パターンの重ね合わせ精度が向上した、解像性に優れた高品質なフォトマスクを効率よく製造する透過型位相シフトフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a mask by which a pattern transferred onto a wafer can be prevented from being significantly deformed when a phase shift mask and oblique incidence lighting are combined with the mask having an asymmetrical layout to perform exposure.例文帳に追加

非対称なレイアウトのマスクに位相シフトマスクと斜入射照明を組み合わせて露光を行う場合に、ウエハ上に転写されるパターンが大きく変形することを防止できるパターン形成方法及びマスクを提供する。 - 特許庁

To prevent a phase shift between external radio wave received and relay radio wave transmitted in a time information transmitting and receiving apparatus such as a repeater for receiving/transmitting a signal of a predetermined amplitude modulation method conveying time information.例文帳に追加

時刻情報を搬送する所定の振幅変調方式の信号を受信／送信する中継器等の時刻情報送受信装置において、受信する外部電波と送信する中継電波との位相のずれを防止すること。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask having the high transmittance of over 6% (9 to 15%), suppressing side etching in a halftone film portion, and having the smooth horizontal plane of a quartz surface, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

６％を越える高透過率（９〜１５％）をもち、且つハーフトーン膜部のサイドエッチングを抑制できしかも石英面を平滑な水平面にすることができるハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a polarizing beam splitter film capable of reflecting s polarized light with high wave front accuracy while holding excellent polarized light separation characteristic having small incidence angle dependence, and to provide a phase shift adjustment method for easily manufacturing the film.例文帳に追加

入射角依存性の低い良好な偏光分離特性を保持しつつ、ｓ偏光を高い波面精度で反射させることができる偏光ビームスプリッター膜と、それを簡単に製造するための位相シフト調整方法を提供する。 - 特許庁

This method for detecting frame synchronization contains a phase shift process of generating L sample signal groups in which each phase of the sample signal groups is shifted by π/2L (L: a positive integer of 2 or more), and a determination process and detection process are performed for each of the thus-generated L sample signal groups to detect the synchronous word and symbol timing.例文帳に追加

サンプル信号群をπ／２Ｌ（Ｌは、２以上の正の整数）ずつ位相をずらしたＬ個のサンプル信号群を生成する移相処理を含み、このように生成されたＬ個のサンプル信号群の各々に対して判定処理及び検出処理を行い、同期ワード及びシンボルタイミングを検出する。 - 特許庁

The coherence light from a measuring light source is projected obliquely on a sample and interference fringes generated with lights reflected by the top, and reverse surfaces of the sample are inputted while shifted in phase; and thickness unevenness of the sample is analyzed by a phase shift method according to interference fringe images which are inputted.例文帳に追加

測定光源からの可干渉光を試料に向けて斜め方向から投光し、試料の表面と裏面での反射光により形成される干渉縞を、位相を変化させて取り込み、取り込んだ複数の干渉縞画像に基づいて位相シフト法によって試料の厚さむらを解析する。 - 特許庁

To provide an exposure method, and exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a device, where a pattern having a line width larger than resolution limit is transferred in desired contrast to secure desired resolution when a projection optical system clearing in midsection and a phase shift mask are used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系と位相シフトマスクを使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

In acquiring a magnetic resonance signal having an echo center at a point of time where the phase difference between two kinds of spin different in frequency is not 0 by chemical shift using a gradient echo method, a spin echo method or a fast spin echo method, a magnetic resonance signal is collected as a fractional echo.例文帳に追加

グラディエントエコー法、スピンエコー法またはファーストスピンエコー法のうちのいずれか１つを用いてケミカルシフトにより互いに周波数を異にする２種類のスピンの位相差が０でない時点にエコーセンタを持つ磁気共鳴信号を獲得するにあたり、磁気共鳴信号をフラクショナルエコーとして収集する。 - 特許庁

The form calculating section 32 measures the form of the spherical surface to be measured using an algorithm of a phase shift method, wherein a coefficient of the intensity of the interference light in an i-th position and a coefficient of the intensity of interference light in an (n-i+1)th position have the same value.例文帳に追加

形状測定部３２は、ｉ個目の位置における干渉光の強度、及び（ｎ−ｉ＋１）個目の位置における干渉光の強度の係数を同一とする位相シフト法のアルゴリズムで被測定球面の形状を測定する。 - 特許庁

To provide a photomask washing device and a washing method that reduce optical characteristic variation of a phase shift mask by carrying out a heat treatment after a washing stage, and then removing residual ions left on the surfaces of the mask to prevent haze.例文帳に追加

洗浄工程の後に熱処理を行うことにより、マスクの表面に残っている残留イオンを除去してヘイズを防止し、位相シフトマスクの光学的特性変化を減少させるフォトマスク洗浄装置及び洗浄方法を提供する。 - 特許庁

In each of sinusoidal stripe patterns required for measuring a three-dimensional shape utilizing a phase shift method, a projection pattern in which sinusoidal amplitude A_n is changed for each period is generated and projected to the object M to be measured for imaging.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンの各々において、１周期毎に正弦波の振幅Ａ_ｎを変化させた投影パターンを生成して被計測物Ｍに投影して撮像する。 - 特許庁

To provide a physical quantity measuring method which enables the detection of a phase shift quantity accurately even if the transmission precision or the like of microwaves is not two high and capable of measuring the stable physical quantity of an object to be measured at low cost, and a measuring instrument therefor.例文帳に追加

マイクロ波の発信精度等がそれほど高くなくても、正確に移相量を検出することができ、低コスト且つ安定した被測定物の物理量を測定することができる物理量の測定方法及び測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a three-dimensional shape measurement method and device using a phase shift process, capable of improving the measurement accuracy, using a simple constitution, even in measured bodies having mixed areas with different reflectances due to characters, patterns, or the like, on their surfaces.例文帳に追加

位相シフト法を用いる３次元形状計測方法および装置において、簡単な構成により、表面に文字や柄などによる反射率の異なる領域が混在する被計測物体についても計測精度を向上可能とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a stretched film reduced in the shift of the delay phase axial direction of the central part of a film with that of the end part of the film and capable of stably obtaining the stretched film reduced in thickness irregularity and irregularity of retardation, and a phase difference film manufactured thereby.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムをテンター延伸機によりフィルムを延伸する製造方法において、フィルム中央部の遅相軸方向とフィルム端部の遅相軸方向とのぶれが小さく、厚さむらとレターデーションむらの少ない延伸フィルムを安定的に得ることができる延伸フィルムの製造方法及び該方法により製造されてなる位相差フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask which gives a symmetric spatial image with respect to an image plane even when the dimension of a pattern formed on the mask is in the size of around wavelengths of light from a light source, and to provide an exposure method using the mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクであってこれに形成されたパターンの寸法が光源光の波長程度の大きさであっても、空中像が像面に関して対称となるようなハーフトーン型位相シフトマスク及びこれを用いた露光方法を提供すること。 - 特許庁

According to the method, phase shift between both histograms can be detected accurately even for a small electronic component where the peak shape of angle histogram picked up by means of camera would be obscured and the inclination angle of an object can be determined with good accuracy.例文帳に追加

これにより、撮像によって求められた角度ヒストグラムのピーク形状が不明瞭となりやすい小型の電子部品についても、両ヒストグラムの位相のずれを精度よく検出して、認識対象物の傾き角度を良好な精度で求めることができる。 - 特許庁

To provide an optical disk utilizing a phase change recording method and an optical disk device, in which a synchronizing mark is surely detected by using a random shift even though user data are being recorded on a recording area, and the user data are surely reproducible on the basis of the detected synchronizing mark.例文帳に追加

ランダムシフトを用いて記録領域にユーザデータが記録されていても同期マークを確実に検出し、検出した同期マークに基づいてユーザデータを確実に再生することができる相変化記録方式の光ディスク及び光ディスク装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a highly-accurate interference measuring device for changing at high speed an optical path difference of an interferometer into a sine wave shape, allowing a light source to emit light at a timing when the optical path difference is on a prescribed position necessary for a phase shift method, and acquiring an interference image of an object surface.例文帳に追加

干渉計の光路差を正弦波状に高速変化させ、光路差が位相シフト法に必要な所定の位置となるタイミングで光源を発光して物体表面の干渉画像を取得する高精度な干渉計測装置を提供する。 - 特許庁

A controlling device 7 prescribes a region where the solder paste H exists from image data obtained by irradiation with the white light illumination L and the height of the solder paste H is operated by using the phase shift method from the image data obtained by irradiation of the illumination device 3.例文帳に追加

制御装置７は、白色光照明Ｌの照射によって得られる画像データからクリームハンダＨの存在する領域を特定し、照明装置３照射によって得られる画像データから位相シフト法を用いて、クリームハンダＨの高さを演算する。 - 特許庁

To detect a correct defocusing amount by eliminating false focusing when there are three or more amounts of shift at which the degree of correlation between a pair of signal data strings output from an image sensor is equal to or more than a predetermined value, concerning a pupil dividing type phase difference detection method.例文帳に追加

瞳分割型位相差検出方式において、イメージセンサーから出力される一対の信号データ列の相関度が所定値以上となるずらし量が３つ以上存在した場合、偽合焦を排除して正確なデフォーカス量を検出する。 - 特許庁

To provide a driving control circuit and a driving control method for an ultrasonic motor capable of determining a phase shift of a driving signal of the ultrasonic motor using a plurality of resonant modes by detecting a beat generated after the abrupt stop of driving.例文帳に追加

駆動を急激に停止した後に発生するうなりを検出することにより、複数の共振モードを利用する超音波モータの駆動信号の移相量を決定することができる超音波モータの駆動制御回路及び駆動制御方法を提供する。 - 特許庁

The three-dimensional shape measuring device 200 includes a communication control section 201 that controls communication with the mobile phone 100, and a three-dimensional shape computing section 202 that computes shape measurement data indicative of the three-dimensional shape of the object WK to be measured on the basis of the captured image data by using a phase shift method or a space code method.例文帳に追加

３次元形状測定装置２００は、携帯電話機１００との通信を制御する通信制御部２０１と、撮像画像データに基づいて被測定物ＷＫの３次元形状を表す形状測定データを位相シフト法や空間コード法を用いて計算する３次元形状計算部２０２とを備えている。 - 特許庁

In the drive method for controlling one AC motor 1 by a plurality of inverters 111, 112, 113, 114, the phase of a triangular wave generating section 29 that is a reference signal is changed for each inverter by a phase shift sections 281, 282, 283, 284, and respective signals are provided to PWM control units 271, 272, 273, 274 and signals for performing PWM control of the inverters are obtained.例文帳に追加

複数のインバータ１１１、１１２、１１３、１１４により一つの交流モータ１を制御する駆動方法において、基準信号である三角波発生部２９の位相を移相部２８１、２８２、２８３，２８４によりインバータ毎に変え、それぞれの信号をＰＷＭ制御部２７１，２７２、２７３，２７４に与え、各インバータをＰＷＭ制御する信号を得る。 - 特許庁

To provide the method for controlling amplification gain and phase shift applied to the input signal of an amplifier under changeable condition in a control system by which the distortion of a high output linear amplifier is reduced by using a feed/forward in the high output linear amplifier, and to provide a feed/forward circuit incorporated with an automatic gain and phase controller.例文帳に追加

本発明は、高出力線形増幅器におけるフィード・フォワードを用いて高出力線形増幅器の歪みを減じる制御システムに関し、特に変化する条件のもとにある増幅器の入力信号に適用されている振幅利得および移相を制御するための方法ならびに自動利得および位相制御器を組み込んだフィード・フォワード回路を提供する。 - 特許庁

To provide a pulse signal generating device, a transport device, an image forming apparatus and a pulse generating method, capable of effectively minimizing periodic turbulence of a pulse signal caused by a phase shift when switching a pulse output signal, even when pulse period abnormality is caused in an encoder signal.例文帳に追加

エンコーダ信号にパルス周期異常が発生した場合でも、パルス出力信号の切り換え時の位相ずれに起因するパルス信号の周期の乱れを効果的に小さく抑えることができるパルス信号生成装置、搬送装置、画像形成装置及びパルス信号生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recording timing adjusting method and program which suppresses the generation of color shift and color difference and enables the recording of an image recording with a high quality of image even when phase difference between a plurality of nozzle rows is generated when respective color recording units arrange a plurality of the nozzle rows, and to provide an image recording apparatus and controlling equipment.例文帳に追加

各色記録ユニットが複数のノズル列を配設する際に、複数のノズル列間に位相差が生じた場合にも、色ずれや色差の発生を抑え、高画質な画像記録を可能とする記録タイミング調整方法及びプログラム、画像記録装置、制御機器を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for inspecting foreign matter, capable of easily and stably separating the fine foreign matter of a micron order bonded to a transparent or translucent substrate having a circuit pattern, especially, a reticle having a phase shift film from the circuit pattern by optically simple constitution to detect the same.例文帳に追加

回路パターンを有する透明または半透明の基板、特に位相シフト膜を有するレチクル等上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物を、光学的に簡単な構成で、容易に安定して回路パターンから分離して検出できる異物検査装置およびその方法を提供する。 - 特許庁

A stripe pattern A_k having a sine wave shape indispensable for three-dimensional shape measurement utilizing a phase shift method, and a space code pattern C_k for deciding a fringe order n of the stripe pattern A_k by coding a space are projected onto the measuring object simultaneously as a projection pattern P_k and imaged.例文帳に追加

位相シフト法を利用した３次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンＡ_kと、空間をコード化して縞パターンＡ_kの縞次数ｎを確定するための空間コードパターンＣ_kとを投影パターンＰ_kとして被計測物に同時に投影して撮像する。 - 特許庁

This method is for manufacturing of semiconductor devices by using the phase shift mask.例文帳に追加

本方法は、複数の実質的に透明な領域と複数の実質的に不透明な領域を含むパターンを有する位相シフトマスクを用いたリソグラフィー法であって、マスクパターンが少なくとも入射光の一部の位相をシフトし、かつ位相が実質的に等しく隔てられ、それによって与えられたリソグラフィーシステムの解像力が増加する。 - 特許庁

A method of manufacturing a photomask comprises: a step S12 of preparing a half-tone-type phase shift mask on which a mask pattern is formed; and a step S15 of forming a light-shielding frame by selectively applying a light-shielding material onto a region around the region in which the mask pattern is formed.例文帳に追加

実施形態に係るフォトマスクの製造方法は、マスクパターンが形成されたハーフトーン型位相シフトマスクを用意する工程Ｓ１２と、マスクパターンが形成された領域の周囲の領域に選択的に遮光材を塗布して遮光枠を形成する工程Ｓ１５とを備える。 - 特許庁

To provide a method for exposure and a phase shift mask in which the resolution of an image formed on a resist according to a two-dimensional random pattern can be improved and the dimensional accuracy of the two-dimensional random pattern projected onto the resist can be improved.例文帳に追加

本発明は、二次元ランダムパターンに対してレジストに結ばれる像の解像度の向上をさせることができ、併せてレジストに露光される二次元ランダムパターンの寸法精度を向上させることができる露光方法および位相シフトマスクを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an optical film which has suitable phase shift characteristics meeting various demand for optical compensation and being maintained in high temperature environment of equal to or more than 100° and facilitates design and production of a liquid crystal display device and to provide its manufacturing method and a liquid crystal display device.例文帳に追加

多様な光学補償の要望に対する好適な位相シフト特性が１００°以上の高温環境下でも保持され、又、液晶表示装置の設計、生産の容易化を図ることができる光学フィルム、その製造方法及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask with steps, a photomask which is greatly improved in size precision of an auxiliary pattern by coating even a substrate, obtained by forming a shifter-dug step part on a transparent substrate by etching, with photosensitive resin so that the surface is smooth and the film thickness is uniform, or a photomask with a Levenson type phase shift.例文帳に追加

段差を持つフォトマスクや、透明基板にエッチングによってシフター掘り込みの段差部を形成した基板にも、表面平滑で、且つ膜厚を均一に感光性樹脂を塗布し、補助パターンの寸法精度を格段に向上させるようにしたフォトマスク、又はレベンソン型の位相シフトのフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the mask pattern uses techniques of optical proximity correction of the mask pattern having a phase shift region with a plurality off transmittance.例文帳に追加

複数の透過率の位相シフト領域を有するマスクパターンの光近接効果補正技術を用いたマスクパターン形成方法であって、単層の位相シフトマスクを想定した光近接効果補正を行うＯＰＣ処理工程と、光近接効果補正後に透過率を決定する工程と、透過率の決定後透過率に対応するマスクバイアスをかける工程を含む。 - 特許庁

To provides method and device for exposure capable of exposing a pattern, having a fine hole diameter and patterns of rows of contact holes or mixed independent contact holes with the rows of contact holes, with a high degree of resolution (or the degree of resolution equal to L-and-S pattern employing a phase shift mask for the rows of contact holes) without exchanging any mask.例文帳に追加

微細なホール径を持ち、コンタクトホール列のパターン、あるいは孤立コンタクトホールとコンタクトホール列とが混在するパターンを、マスクを交換せずに、高解像度（即ち、コンタクトホール列については位相シフトマスクを用いたＬ＆Ｓパターンと同等の解像度）で露光可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method to suppress roughening or production of a rugged pattern on the surface of a substrate of a halftone phase shift mask consisting of a single layer film of a translucent light shielding layer comprising one of metal-silicon oxide, metal-silicon nitride and metal-silicon oxynitride or consisting of a multilayer film comprising a transparent layer and a light shielding layer.例文帳に追加

金属−シリコンの酸化物、金属−シリコンの窒化物、金属−シリコンの酸化窒化膜のいずれかからなる半透明遮光層の単層膜、もしくは透明層と遮光層からなる多層膜で構成するハーフトーン型位相シフトマスクの基板表面の荒れや凹凸の発生を抑制した製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method and the apparatus for decomposing methane gas hydrate and taking out methane gas comprise feeding nitrogen into the methane gas hydrate which is stabilized in a phase equilibrium state to shift the methane gas hydrate into a decomposition area and carrying out decomposition reaction of the methane gas hydrate and recovering the methane gas, in the method for taking out methane gas by decomposing the methane gas hydrate kept in low-temperature and high-pressure conditions.例文帳に追加

低温高圧下にあるメタンガスハイドレートを分解させてメタンガスを取り出す方法において、相平衡状態で安定しているメタンガスハイドレート中に窒素を送入することにより、メタンガスハイドレートが分解領域となり、前記メタンガスハイドレートの分解反応によるメタンガスを取り出して回収することを特徴とするメタンガスハイドレートを分解してメタンガスを取り出す方法及び装置。 - 特許庁

The method for executing magnetic resonance imaging includes a step of adding N sets (1<N<6) of steady-state free precession(SSFP) sequences respectively containing starting radio frequency(RF) exciting pulses each of which has a prescribed phase shift to the other RF exciting pulses than a starting RF exciting pulse for a subject to be photographed.例文帳に追加

ＭＲＩの実行方法は、撮像対象の被検体に対して、その各々が始発以外のＲＦ励起パルスに対して所定の位相シフトを有しているような始発無線周波数（ＲＦ）励起パルスをそれぞれ含んだＮ組の定常自由歳差運動（ＳＳＦＰ）シーケンス（Ｎは１を超えかつ６未満の整数）を加えることを含む。 - 特許庁

This shape evaluation method of the diffraction grating having the phase shift part includes an interference fringe detection process for detecting an interference fringe, corresponding to the irregularities of the diffraction grating, and a shape evaluation process for evaluating the shape of the diffraction grating, based on the interference fringe detected in the interference fringe detection process.例文帳に追加

本発明に係る回折格子の形状評価方法は、位相シフト部を有する回折格子の形状評価方法であって、回折格子の凹凸に対応する干渉縞を検出する干渉縞検出工程と、干渉縞検出工程で検出した干渉縞に基づいて、回折格子の形状評価をおこなう形状評価工程とを含む。 - 特許庁

The moving quantity of the water is calculated from the interference fringe image of the other surface of the wafer, in synchronization with respect to the measurement of the shape of one surface of the wafer using a phase shift method, and the shape of one surface of the wafer is calculated using the calculated moving quantity to ensure high measurement accuracy, even when the wafer is moved.例文帳に追加

本発明は，位相シフト法を用いてウェーハの一方の面の形状を測定するのに同期してウェーハの他方の面の干渉縞画像から移動量を計算し，求めた移動量を用いて，ウェーハの一方の面の形状を計算することによって，ウェーハに移動がある場合にも高い測定精度を確保することを図ったものである。 - 特許庁

To provide a compression/expansion controller and a compression/ expansion control method that can cause no phase shift of video signals between fields even when compression/expansion processing whose ratio is changed depending on a position on an screen in a vertical direction to video signals whose phases are deviated for each field like an interlace scanning signal.例文帳に追加

この発明は、飛び越し走査信号のようにフィールド毎に位相のずれた映像信号に対して、垂直方向に画面上の位置に応じて比率を変える圧縮伸長処理を施した場合にも、フィールド間で映像信号の位相ずれが生じることのない圧縮伸長制御装置及び圧縮伸長制御方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

The vascular pulse wave measuring system 10 includes: an optical probe 12 attached to a region of a blood vessel 8 suitable for acquiring the pulse wave of a subject 6; a pulsation waveform output part 30 connected to the optical probe 12 via an optical probe circuit 20 for outputting the pulsation waveform as temporal variation of frequency by using a phase shift method; and an arithmetic operation processing part 50.例文帳に追加

血管脈波測定システム１０は、被測定者６の血管８の脈動取得に適した部位に取り付けられる光探触子１２と、光探触子回路２０を介して光探触子１２に接続され位相シフト法を用いることで周波数の時間変化として脈動波形を出力する脈動波形出力部３０と、演算処理部５０を備える。 - 特許庁

The method for manufacturing diffraction lenses comprises a step for forming a stack having at least two phase shift layers which are separated from each other by an etching stop layer on the first face of each of transparent substrates 34, 144 capable of transmitting light of selected wavelengths between infrared rays and ultraviolet rays and a step for forming a pattern on the stack in order to form a layer of a diffracting optical element 50.例文帳に追加

赤外線から紫外線の間で選択された波長の光を透過する透明な基板３４、１４４の第１の面上に、エッチング停止層で分離された少なくとも２つの位相シフト層を有するスタックを形成するステップと、回折光学素子５０の層を形成するために、前記スタックにパターン形成するステップとを含んでなる、回折レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting drift in phase shift (Δψ, θ) between two signals (S1) and (S2), which are generated from a signal having a standard frequency Fe or the cycle Ω corresponding thereto, generated from the drift of the frequency Fe or the cycle, on the basis of a prescribed relational expres sion R[(F, Ω), (θ, Δψ)].例文帳に追加

二信号（Ｓ_１）及び（Ｓ_２）が基準周波数Ｆｅ又はそれ相当の周期Ωを有する信号から発生し、前記二信号間の位相ずれ（Δψ，θ）が前記周波数Ｆｅ又は前記周期のドリフトから生じ前記二信号間の前記位相ずれ（Δψ，θ）のドリフトを所定の関係式Ｒ（（Ｆ，Ω），（θ，Δψ））に基づき補正する方法を開示している。 - 特許庁