phenacylを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
PRODUCTION METHOD OF PHENACYL BROMIDE DERIVATIVE例文帳に追加
フェナシルブロマイド誘導体の製造方法 - 特許庁
PHENACYL DERIVATIVE, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND PEST CONTROL AGENT CONTAINING THEREOF例文帳に追加
フェナシルアミン誘導体、それらの製造方法及びそれらを含有する有害生物防除剤 - 特許庁
To provide an induction production method of a phenacyl bromide derivative (II) useful as a synthetic intermediate body of a 2-isoindole derivative which is an excellent thrombin receptor antagonistic agent.例文帳に追加
本発明は、優れたトロンビン受容体拮抗剤である２−イソインドール誘導体の合成中間体として有用なフェナシルブロマイド誘導体（ＩＩ）の工業的製造方法を提供する。 - 特許庁
The positive resist composition comprises a resin (A) which is degraded by the action of acid and increases the solubility in an alkaline development solution, a specified phenacyl sulfonium compound (B) and a specified Meldrum's acid compound (C).例文帳に追加
（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）特定のフェナシルスルホニウム化合物、及び、（Ｃ）特定のメルドラム酸化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁
The trifluoromethyl-substituted 2-alkoxyacetophenone derivative is obtained by reacting a trifluoromethyl-substituted phenacyl halide with a water-containing lower alcohol solution under acidic or neutral conditions or by brominating a trifluoromethyl-substituted acetophenone with Br_2 in the presence of an alkylenediol to give a cyclic acetal of a trifluoromethyl-substituted phenacyl bromide and then reacting the cyclic acetal with a water-containing lower alcohol solution under acidic or neutral conditions.例文帳に追加
トリフルオロメチル置換フェナシルハライドを酸性または中性条件下、低級アルコールの含水溶液と反応させることにより、または、トリフルオロメチル置換アセトフェノンをアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、トリフルオロメチル置換フェナシルブロマイドの環状アセタールに変換し、次いで酸性または中性条件下、低級アルコールの含水溶液と反応させることにより、トリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を製造する。 - 特許庁
The composition includes (A) alkaline solubility polymer, (B) cross-linker which cross links with the polymer by the effect of acid and (C) a compound which includes a phenacyl sulfonium structure that generates acid by the irradiation of activating light beams or radioactive rays.例文帳に追加
（Ａ）アルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、フェナシルスルホニウム構造を有する化合物を含有するネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
The negative resist composition contains: (A) an alkali-soluble polymer; (B) a crosslinking agent which crosslinks with the alkali-soluble polymer (A) by the effect of an acid; (C) a compound having a specified phenacyl group which generates sulfonic acid by irradiation of radiation or active rays; and (D) a compound which generates carboxylic acid by irradiation of radiation or active rays.例文帳に追加
（Ａ）アルカリ可溶性ポリマー、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性ポリマー（Ａ）と架橋する架橋剤、（Ｃ）放射線又は活性光線の照射によりスルホン酸を発生する特定のフェナシル基を有する化合物、及び、（Ｄ）放射線又は活性光線の照射によりカルボン酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁
The positive type photoresist composition contains a resin which is dissolved by the action of acid and of which resin the solubility in an alkalyne developing liquid is increased, an oxim sulfonate compound and a compound having a phenacyl sulfonium salt structure as compounds which generate the acid with an irradiation of activating light or a radioactive ray.例文帳に追加
酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物として、オキシムスルホネート化合物及びフェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁
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