また、プラズマ処理装置はプラズマガスＰｇを生成するプラズマ生成手段と、プラズマ生成手段から供給されたプラズマガスＰｇを射出するノズル部を有するプラズマヘッド６６０と、ノズル部とプラズマ処理されるべき画素とを対向させる位置合わせ手段と、を備え、ノズル部のプラズマ射出口の面積は画素の開口部面積以下である。例文帳に追加

And also, the plasma treatment device is provided with a plasma generator for generating plasma gas Pg, a plasma head 660 having a nozzle part for injecting the plasma gas Pg supplied from the plasma generator, and a positioner for facing the nozzle part to the pixel which needs to be put under plasma treatment, with an area of a plasma injection outlet of the nozzle part equivalent to or smaller than an opening area of the pixel. - 特許庁

プラズマとコールドスプレーとを組み合わせた方法および装置例文帳に追加

HYBRID PLASMA-COLD SPRAY METHOD AND APPARATUS - 特許庁

このため、かかる複数のプラズマ発生源２０を処理対象となる基板８の大きさや形状に合わせて均等に配置することで、基板８の大きさにかかわらず全面にわたって均一なプラズマ密度のプラズマを生成し、プラズマ処理をすることができる。例文帳に追加

Therefore, a substrate 8 to be treated can be treated with plasma by generating a uniform high density plasma over the whole surface of the substrate 8, regardless of the size of the substrate 8 by evenly arranging the plasma generating sources 20 in accordance with the size or the shape of the substrate 8. - 特許庁

低温プラズマとマンガン系触媒を組み合わせたプラズマ触媒反応器(20)におけるプラズマの活性を高め、被処理流体の化学反応を十分に促進して処理性能を高める。例文帳に追加

To sufficiently promote the chemical reaction of fluid to be treated and to enhance treatment performance by enhancing the activity of a plasma in a plasma catalyst reactor (20) combining a low-temperature plasma and a manganese catalyst. - 特許庁

例文

低温プラズマと貴金属系触媒を組み合わせたプラズマ触媒反応器(20)におけるプラズマの活性を高め、被処理流体の化学反応を十分に促進して処理性能を高める。例文帳に追加

To sufficiently promote the chemical reaction of fluid to be treated and to enhance treatment performance by enhancing the activity of the plasma in a plasma catalyst reactor (20) combining a low-temperature plasma and a noble metal-base catalyst. - 特許庁

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「プラズマあわ」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 215件

例文

ＤＣプラズマと高周波プラズマを組合わせたり、２段高周波プラズマ等の複雑なプロセスを用いることなく、より簡便な方法により平滑な表面のセラミックスビーズの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a ceramic bead having a smooth surface by a simpler method without combining DC plasma and high frequency plasma or using a complicated process such as two step high frequency plasma. - 特許庁

プラズマヘッド（１０）を基板（４）に対してしかるべく位置合わせすること、及び／または対応する必要な数のプラズマヘッド（１０）を動作させて、１列の互いに隣接して配置したいくつかのプラズマヘッド（１０）または修正可能な断面を有する１つのプラズマヘッドから、望ましい層除去幅でプラズマを基板に向けることによって、層を除去するゾーン（１１）の幅を調整すればよい。例文帳に追加

With the plasma head (10) being aligned with the substrate (4) and/or a corresponding and required number of plasma heads (10) being operated, the width of the zone (11) from which a layer is removed can be adjusted by directing plasma onto the substrate at the desired layer-removing width from a row of several plasma heads (10) disposed adjacent to one another or one plasma head having a modifiable cross section. - 特許庁