「プラズマあわ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

低温プラズマとマンガン系触媒を組み合わせたプラズマ触媒反応器(20)におけるプラズマの活性を高め、被処理流体の化学反応を十分に促進して処理性能を高める。例文帳に追加

To sufficiently promote the chemical reaction of fluid to be treated and to enhance treatment performance by enhancing the activity of a plasma in a plasma catalyst reactor (20) combining a low-temperature plasma and a manganese catalyst. - 特許庁

低温プラズマと貴金属系触媒を組み合わせたプラズマ触媒反応器(20)におけるプラズマの活性を高め、被処理流体の化学反応を十分に促進して処理性能を高める。例文帳に追加

To sufficiently promote the chemical reaction of fluid to be treated and to enhance treatment performance by enhancing the activity of the plasma in a plasma catalyst reactor (20) combining a low-temperature plasma and a noble metal-base catalyst. - 特許庁

ＤＣプラズマと高周波プラズマを組合わせたり、２段高周波プラズマ等の複雑なプロセスを用いることなく、より簡便な方法により平滑な表面のセラミックスビーズの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a ceramic bead having a smooth surface by a simpler method without combining DC plasma and high frequency plasma or using a complicated process such as two step high frequency plasma. - 特許庁

プラズマヘッド（１０）を基板（４）に対してしかるべく位置合わせすること、及び／または対応する必要な数のプラズマヘッド（１０）を動作させて、１列の互いに隣接して配置したいくつかのプラズマヘッド（１０）または修正可能な断面を有する１つのプラズマヘッドから、望ましい層除去幅でプラズマを基板に向けることによって、層を除去するゾーン（１１）の幅を調整すればよい。例文帳に追加

With the plasma head (10) being aligned with the substrate (4) and/or a corresponding and required number of plasma heads (10) being operated, the width of the zone (11) from which a layer is removed can be adjusted by directing plasma onto the substrate at the desired layer-removing width from a row of several plasma heads (10) disposed adjacent to one another or one plasma head having a modifiable cross section. - 特許庁

プラズマガスはクセノン、クリプトンあるいはこれらの組合せから選択されるのが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the plasma gas is selected from xenon, krypton and combination thereof. - 特許庁

高密度で耐プラズマ性に優れたイットリア（Ｙ_２Ｏ_３）焼結体を提供する。例文帳に追加

To provide a yttria (Y_2O_3) sintered compact of high density excelling in plasma resistance. - 特許庁

位相調整方法とその装置及び素子分割組み合せ方法とその装置及びプラズマ加工装置例文帳に追加

PHASE ADJUSTING METHOD AND APPARATUS, ELEMENT SEPARATING AND COMBINING METHOD AND APPARATUS, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS - 特許庁

プラズマディスプレイパネル用基板の製造のための成形型とリブ前駆体の組み合わせ物例文帳に追加

COMBINED OBJECT OF FORMING DIE FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR PLASMA DISPLAY PANEL AND RIB PRECURSOR - 特許庁

透光性と耐プラズマ性とを併せ持つセラミックス材料、及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a ceramic material having both translucency and plasma resistance, and to provide a method for producing the same. - 特許庁

剥がし装置１０は、貼り合わせ体１８をＯ_２プラズマ処理するプラズマ処理部６０と、プラズマ処理部６０にて処理された貼り合わせ体１８を、サポートプレート１４とウエハ１２とに剥離する剥がし部７０とを備えている。例文帳に追加

The peeling device 10 is provided with a plasma treatment section 60 for applying O_2 plasma treatment to the pasted product 18, and a peeling section 70 for peeling the pasted product 18 treated in the plasma treatment section 60 into the support plate 14 and the wafer 12. - 特許庁

ウエハ１２とサポートプレート１４とを接着剤１６を介して貼り合わせ、貼り合わせ体１８を形成する貼り合わせ部２０と、貼り合わせ体１８をプラズマ処理するプラズマ処理部２２とを備えている。例文帳に追加

A pasting device is provided with a pasting section 20 for pasting a wafer 12 and a support plate 14 via an adhesive 16 to form a pasted product 18, and a plasma treatment section 22 for applying plasma treatment to the pasted product 18. - 特許庁

処理容器にマイクロ波窓を介してマイクロ波アンテナを係合させ、励起された高密度マイクロ波プラズマにより被処理基板を処理するマイクロ波プラズマ基板処理装置において、基板のプラズマ処理速度を向上させる。例文帳に追加

To improve a plasma treatment rate of a substrate in an apparatus for treating the substrate with microwave plasma where a microwave antenna is engaged with a treatment chamber through a microwave window and the substrate to be treated is treated with excited high density microwave plasma. - 特許庁

プラズマ電位を、プローブ計測器に頼ることなく、質量分析器を応用して、イオン種の分析と併せて計測でき、質量分析とプラズマ電位計測の双方を行える割りには安価に済むプラズマ電位計測方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma potential measuring method and device for measuring plasma potential along with an analysis of ion species applying a mass spectrometer without depending on a probe measuring instrument at a low cost considering that both mass spectrometry and plasma potential measurement can be performed. - 特許庁

ＤＣプラズマと高周波プラズマを組合わせたり、２段高周波プラズマ等の複雑なプロセスを用いることなく、より簡便な方法により平滑な表面のセラミックビーズが得られるセラミックビーズの製造方法およびセラミックスビーズを提供する。例文帳に追加

To provide a ceramic bead manufacturing method for obtaining ceramic beads with smooth surfaces using a simpler method without using any complicated processes, such as combining a DC plasma and a high-frequency plasma or using two-stage high-frequency plasma, and the ceramic beads. - 特許庁

プラズマ処理による改質のみ、熱アニール処理のみによる改質による効果を向上する為に、希ガスと酸素原子を含む処理ガスに基ずくプラズマを用いて、絶縁膜にプラズマ処理と熱アニール処理を組み合わせた改質処理を施すことで、該絶縁膜を改質する。例文帳に追加

In order to enhance an effect by only a modification by a plasma processing and only a modification by a thermal annealing processing, a plasma based on a processing gas containing a rare gas and an oxygen atom is used, and a modification processing which combines the plasma processing with the thermal annealing processing is performed on the insulating film, to modify the insulating film. - 特許庁

胛部と底部を接着剤で貼り合わせる履物において、常温大気圧でプラズマを発生してプラズマ照射可能なプラズマ照射機により表面処理した底部を水系接着剤を用いて胛部に接着した履物及び履物の製造法。例文帳に追加

The footgear which is the one formed by bonding uppers and the bottoms by the adhesives and is constituted by adhering the bottoms subjected to surface treatment by a plasma irradiation machine capable of generating a plasma at and under an ordinary temperature and atmosphere pressure and making irradiation with the plasma to the uppers by using the water base adhesives and the method for manufacturing such footgear are provided. - 特許庁

交流放電プラズマ発生手段により発生させたプラズマの作用と、触媒の作用とを相乗的に組み合わせることで、ガス中の酸化エチレンを無害化する。例文帳に追加

The safening of ethylene oxide in a gas is accomplished by synergistically combining the action of plasma generated by an AC discharge plasma generation means and the action of catalyst. - 特許庁

窒化は、急速熱窒化（ＲＴＮ）、炉窒化、リモート・プラズマ窒化（ＲＰＮ）、デカップルド・プラズマ窒化（ＤＰＮ）、ウェル注入またはポリシリコン注入、あるいはこれらの組合せを含むさまざまな技法によって選択的に実施することができる。例文帳に追加

Nitriding can be selectively carried out by rapid thermal nitridation (RTN), furnace nitriding, remote plasma nitriding (RPN), decoupled plasma nitriding (DPN), and wale implantation or polysilicon implantation, or by various techniques, including combinations of these methods. - 特許庁

列状の信号電極を備えた表示セルと、露出電極及び誘電体で覆われた被覆電極を有する行状の放電チャンネルを備えたプラズマセルとが重ね合わされてなるプラズマアドレス表示装置の駆動方法である。例文帳に追加

The driving method is for a plasma address display in which display cells having column shaped signal electrodes and plasma cells having row shaped discharging channels that have exposed electrodes and electrodes covered by dielectric material are overlapped. - 特許庁

低温プラズマと触媒とを組み合わせて化学反応を促進するプラズマ触媒反応器(20)において、触媒の存在下での反応活性をより高めるようにする。例文帳に追加

To improve reaction acitivity in the presence of a catalyst in a plasma catalytic reactor (20) in which a chemical reaction is accelerated by combining a low temperature plasma with the catalyst. - 特許庁

波長の選択は、プラズマチャンバからのイオン化光子（３８）の窓なし放射と組み合わせられるプラズマ形成ガス（３４）の選択によって可能となる。例文帳に追加

The wavelength selection can be performed by selecting plasma formation gas (34) to be combined with the windowless emission of an ionization photon (38) from a plasma chamber. - 特許庁

プラズマアドレス表示装置を構成するプラズマセルにおいて、放電電極上に重ねて形成される誘電体層と、フリットシールとの位置合わせを容易化する。例文帳に追加

To facilitate alignment of a flit seal with a dielectric layer to be formed on discharge electrodes in superposed state, in a plasma cell constituting a plasma address display device. - 特許庁

プラズマ重合工程で、第一基材１１にプラズマ重合膜１３を形成し、貼合工程で、第一基材１１と第二基材１２とを貼り合わせる。例文帳に追加

In a plasma polymerization process, a plasma polymerization film 13 is formed on the first substrate 11, and in a lamination process, the first substrate 11 and the second substrate 12 are laminated together. - 特許庁

ロングスロースパッタリング、自己イオン化プラズマ（ＳＩＰ）スパッタリング、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）再スパッタリング及びコイルスパッタリングを１つのチャンバ内で組み合わせたリアクタ１５０を使う。例文帳に追加

The method uses a reactor 150 in which long throw sputtering, self-ionized plasma (SIP) sputtering, induction coupling plasma (ICP) resputtering and coil sputtering are combined in one chamber. - 特許庁

プラズマダイシングとダイアタッチフィルムによるボンディングを両立させることができ、併せてプラズマ処理用の真空チャンバ内の汚損も抑えることができる半導体チップの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a semiconductor chip capable of both plasma-dicing and bonding with a die attach film, and also preventing the inside of a vacuum chamber for plasma processing from getting smeared. - 特許庁

磁場発生器１，２とアンテナ７との組合せは、アンテナの内側の領域のうちの外側領域に誘導結合プラズマ１３を生成し、且つ、その領域のうちの内側領域に波動励起プラズマ１２を生成する。例文帳に追加

The combination of the magnetic field generators 1 and 2 and the antenna 7 generates inductively coupled plasma 13 on the outer area in an area inside the antenna and generates wave-excited plasma 12 in the inner area. - 特許庁

加工ツールの姿勢に対する制限やプラズマ発光部への位置合わせを行う必要がなく、高精度でプラズマのモニタが可能なレーザ溶接装置。例文帳に追加

To provide a laser beam welding apparatus with which plasma can be monitored with high accuracy without the need of limiting the attitude of a working tool and positioning to a plasma emitting part. - 特許庁

プラズマの優れた反応性を超臨界流体中に重ね合わせる技術として、超臨界流体中での非平衡プラズマ生成装置と発生方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a nonequilibrium plasma generating device and a generating method in supercritical fluid, as a technology of superposing excellent reactivity of plasma in supercritical fluid. - 特許庁

被処理流体の流通空間で、コロナ放電、沿面放電、無声放電、または部分放電により低温プラズマを発生させ、この低温プラズマと貴金属系触媒とを組み合わせて被処理流体を処理する。例文帳に追加

The low-temperature plasma is generated by a corona discharge, creeping discharge, unvoiced discharge or partial discharge in a flow space of the fluid to be treated and the fluid to be treated is treated by combining the low-temperature plasma and the noble metal-base catalyst. - 特許庁

被処理流体の流通空間で、コロナ放電、沿面放電、無声放電、または部分放電により低温プラズマを発生させ、この低温プラズマとマンガン系触媒とを組み合わせて被処理流体を処理する。例文帳に追加

The low-temperature plasma is generated by a corona discharge, creeping discharge, unvoiced discharge or partial discharge in a flow space of the fluid to be treated and the fluid to be treated is treated by combining the low-temperature plasma and the manganese-base catalyst. - 特許庁

放電発生プラズマ（ＤＰＰ）放射線生成デバイスまたはソースの利点を、レーザ発生プラズマ（ＬＰＰ）ソースの利点の多くと組み合わせるＤＰＰ放射線生成デバイスまたはソースを提供すること。例文帳に追加

To provide a device or a source for generating discharge producing plasma (DPP) radiation for combining advantages of the device or the source for generating DPP radiation and many of advantages of a laser producing plasma (LPP) source. - 特許庁

また、このプラズマ溶接は、リード端子４の先端部の嵌合孔４ａに外部端子７の接続部７ａの凸部７ｂを嵌合させた状態で、この凸部７ｂの頂部に放電プラズマを照射することにより行う。例文帳に追加

The plasma welding is executed by irradiating a top part of a projecting part 7b of the connection part 7a of the external terminal 7 with discharge plasma in a state where the projecting part 7b is fitted to a fitting hole 4a at a tip part of the lead terminal 4. - 特許庁

プラズマディスプレイ製造工程中、特に前面板と背面板とを貼り合わせて封着を行う際、放電表示セルを構成する隔壁の欠けや損壊を抑制し、表示品位の優れたプラズマディスプレイを提供する。例文帳に追加

To prevent the partitions forming the discharge display cells from chipping and breaking during a manufacturing process of a plasma display panel, especially when a front substrate and a back substrate are stuck for sealing, and to provide a plasma display panel of excellent display qualities. - 特許庁

アークプラズマ電極（２７）は、また、独立アーク電圧およびアーク電流制御にあわせて構成され得る。例文帳に追加

The arc plasma electrode(s) (27) can also be configured for independent arc voltage and arc current control. - 特許庁

プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の少なくとも一方の面に、樹脂製フィルムを貼合した状態で、該ガラス基板を輸送する。例文帳に追加

The glass substrate for use as the plasma display panel is transported with a resin film sticking to at least one of surfaces of the glass substrate. - 特許庁

平板の重ね合わせ方法及びその装置並びにこれを用いるプラズマディスプレイパネルの組立方法及びその装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR SUPERPOSING FLAT PANELS, AND METHOD AND DEVICE FOR ASSEMBLING PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME - 特許庁

半導体ウエーハと外周リングとの位置合せ用治具及び半導体ウエーハのプラズマエッチング方法例文帳に追加

JIG FOR ALIGNMENT BETWEEN SEMICONDUCTOR WAFER AND EXTERNAL CIRCUMFERENTIAL RING, AND PLASMA ETCHING METEHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER - 特許庁

イオン注入したウェーハを、研磨した支持基板用ウェーハと共に、貼り合わせ界面の接着強度が大きくなるようにプラズマ処理を施す。例文帳に追加

The ion-implanted wafer is plasma-processed together with a polished support substrate wafer such that the strength of the lamination interface becomes greater. - 特許庁

誘電体領域１０８、１１０は、プラズマチャンバ１００の組み合わせ面１１６を分離する誘電体スペーサを有してなっていてもよい。例文帳に追加

The dielectric regions 108, 110 may contain a dielectric spacer for separating a combination face 116 of the plasma chamber 100. - 特許庁

簡易に，高い位置合わせ精度で遮光膜を形成することができるプラズマディスプレイパネル用基板構体の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a substrate structure for a plasma display panel capable of simply forming a shading film with high positioning accuracy. - 特許庁

高圧力蒸着及び低圧力エッチング処理の組み合わせにおける均一プラズマのためのＩＰＶＤのためのＩＣＰ源例文帳に追加

IPC SOURCE FOR IPVD FOR UNIFORM PLASMA IN COMBINATION OF HIGH PRESSURE DEPOSITION AND LOW PRESSURE ETCHING PROCESS - 特許庁

ＡＣ駆動型のプラズマアドレス表示装置に形成される誘電体層の脱泡処理を効率化する。例文帳に追加

To improve efficiency of degassing processing of a dielectric layer formed for an AC drive type plasma address display device. - 特許庁

電極３との間で放電してプラズマアークを発生するノズル７と外筒13に螺合したキャップ12との間に絶縁部材11を配置する。例文帳に追加

An insulation member 11 is arranged between a nozzle 7, which generates a plasma arc by discharging electricity between an electrode, and a cap 12 being screwed in an outer cylinder. - 特許庁

焼成時に泡が抜けやすく、しかも優れた化学耐久性を有するプラズマディスプレーパネル用誘電体材料を提供する。例文帳に追加

To provide a dielectric material for a plasma display panel in which foams are easily disappeared upon firing and chemical durability is excellent. - 特許庁

プラズマディスプレイパネルの前面に光書き込み型液晶パネルを組み合わせて表示パネル部を構成する。例文帳に追加

An optical write type liquid crystal panel is combined with a front face of the plasma display panel to constitute a display panel part. - 特許庁