遠紫外レーザの英語

レーザ光源１１から出射された遠紫外線領域の波長である短波長の２２０ｎｍ〜２８０ｎｍの記録再生用レーザ光Ｌにより光記録媒体２０について情報の再生および／または記録を行う。例文帳に追加

Information recording or reproducing on an optical recording medium 20 is carried out by using a laser light source 11 emitting a short wavelength recording/reproducing laser beam L of 220nm to 280nm in the ultraviolet ray range. - 特許庁

本発明は、紫外レーザーに対する海水および流出油の各特性の差に着目して、海面における流出油の検出を上空からの紫外レーザーの照射と赤外線撮影とにより遠隔的に行えるようにした海上流出油リモートセンシング装置を提供することを課題とする。例文帳に追加

To enable the remote detection of oil spilled at sea by the irradiation of a UV laser beam and IR ray photographing made from the above utilizing the difference between the characteristics of seawater and the spilled oil exhibited for the UV laser beam. - 特許庁

活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_2 エキシマレーザーあるいはEUVに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、高解像度で、放射線透過率が高い感放射性樹脂組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition having a high resolution and a high radiation transmittance as a chemically amplified resist sensitive to an actinic radiation such as KrF excimer laser, ArF excimer laser, F_2 excimer laser or far UV typified by EUV (extreme-ultraviolet radiation). - 特許庁

ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーあるいはＦ_2エキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、解像度およびＬＥＦ耐性に優れた感放射線性樹脂組成物、およびこの感放射線性樹脂組成物に使用できる共重合体を提供する。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition which is excellent in resolving power and LEF resistance as a chemically amplified photoresist responding to far-ultraviolet radiation represented by KrF excimer laser, ArF excimer laser and F_2 excimer laser, and a copolymer which can be used for the radiation-sensitive resin composition. - 特許庁

活性放射線、例えば、ｇ線、ｉ線等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーもしくはＦ_２ エキシマレーザー、ＥＵＶに代表される遠紫外線、もしくは電子線などに感応する化学増幅型レジストとして、解像度、環境耐性に加え、保存安定性に優れる感放射性組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a radiation sensitive composition excellent in storage stability as well as in resolution and environmental resistance as a chemical amplification type resist sensitive to active radiations, e.g. UV rays such as g- or i-line, KrF, ArF or F_2 excimer laser light, far UV typified by EUV (extreme-ultraviolet radiation) or an electron beam. - 特許庁

活性放射線、例えば、ｇ線、ｉ線等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザーもしくはＦ２エキシマレーザー、ＥＵＶに代表される遠紫外線、もしくは電子線などに感応する化学増幅型レジストとして、解像度、環境耐性に加え、保存安定性に優れる感放射性組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive composition which is excellent in resolution, environmental durability and storage stability as a chemically amplified resist sensitive to active radiation, for example, ultraviolet radiation such as g-line or i-line, far-ultraviolet radiation typified by KrF excimer laser, ArF excimer laser or F2 excimer laser, and EUV (Extreme Ultra Violet), or electron beam or the like. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、具体的には、コンタクトホールパターンの疎密依存性に優れた遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV excellent in density dependence of a contact hole pattern. - 特許庁

ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の（極）遠紫外線等に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なネガ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物。例文帳に追加

To provide a radiation-sensitive resin composition achieving formation of a negative resist film that effectively responds to (extreme) far UV light of a KrF excimer laser, ArF excimer laser or the like, has excellent nano-edge roughness, sensitivity and resolution, and enables a fine pattern with high accuracy stably to be formed. - 特許庁