MMNとは 意味・読み方・使い方

This aqueous water and oil repellent composition is characterized in that dynamic surface tension measured under the following conditions is ≥55 mmN/m in maximum foaming pressure method.例文帳に追加

最大泡圧法において、下記条件で測定した動的表面張力が５５ミリＮ／ｍ以上である水系撥水撥油剤組成物。 - 特許庁

The photoresist composition for the circuit of the liquid crystal display can solves a problem of unevenness appeared in the MMN coater being applicable to a large-sized substrate glass, can improve coating characteristic, can be easily applied to a real industrial site and has large effect in improvement of productivity and yield.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置回路用フォトレジスト組成物は、大型基板のガラスに対応可能なＭＭＮコーターで発生するむらの問題を改善し、塗布特性を向上させ、実際産業現場に容易に適用することができ、生産性及び収率向上に大きな効果がある。 - 特許庁

The address control part 21 selects a first redundant word line 8-1' from among the redundant word lines 8-1' to 8-m' connected to redundant memory cells 25;M11'-Mmn', in place of the first word line 8-1, in accordance with the first address and the first address change instruction.例文帳に追加

アドレス制御部２１は、第１アドレスと第１アドレス変更指示とに従って、第１ワード線８−１に代えて、冗長メモリセル２５；Ｍ１１’〜Ｍｍｎ’に接続された冗長ワード線８−１’〜８−ｍ’のうちの第１冗長ワード線８−１’を選択する。 - 特許庁

The nonvolatile semiconductor memory device 10 includes a constant current circuit 500 to which write or erase is performed by a current which is subjected to constant current control in writing or erasure in electric processing to the memory cell Mmn in a memory cell array section 100.例文帳に追加

不揮発性半導体メモリ装置１０は、メモリセルアレイ部１００におけるメモリセルＭｍｎに対しての電気的処理による書き込みあるいは消去において、定電流制御された電流によって書き込みあるいは消去が行われる定電流回路５００を備える。 - 特許庁

A vertical direction decoder 3 outputs vertical direction selection signals Y1 to Ym, a horizontal direction decoder 4 outputs horizontal direction selection signals X1 to Xn to sequentially select amplifier transistors M11a to Mmna provided to a pixel 11 to a pixel mn by controlling switches M11 to Mmn and switches M1 to Mn.例文帳に追加

垂直方向デコーダ３から垂直方向選択信号Ｙ１〜Ｙｍを出力し、水平方向デコーダ４から水平方向選択信号Ｘ１〜Ｘｎを出力して、スイッチＭ１１〜ＭｍｎおよびスイッチＭ１〜Ｍｎを制御することにより、画素１１〜画素ｍｎに設けられた増幅トランジスタＭ１１ａ〜Ｍｍｎａを順次選択する。 - 特許庁

The prepreg fitted with protection film includes: a prepreg formed by impregnating a fiber-reinforced base material with an epoxy resin composition whose 25-°C viscosity lies in the range 5×10^5 to 1×10^7 Pa s: and a protection film tightly attached to one or both surfaces of the prepreg, wherein the surface wettability of the protection film lies within the range of 32-45 mmN/m.例文帳に追加

２５℃での粘度が ５×１０^５ 〜１×１０^７Ｐａ・Ｓの範囲にあるエポキシ樹脂組成物を、強化繊維基材に含浸せしめてなるプリプレグと、その片面又は両面に密着した保護フィルムとからなる保護フィルム付プリプレグにおいて、前記保護フィルムの表面濡れ性が３２〜４５ｍｍＮ／ｍの範囲内にある保護フィルム付プリプレグ。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a MMN (Multi Micro Nozzle) coater which contains a novolak resin having molecular weight of 2,000 to 12,000 and a diazide photosensitive agent, in which furtherance and content of an organic solvent and a Si series surfactant are adjusted and which is used for a circuit of a liquid crystal display.例文帳に追加

本発明は、ＭＭＮコーター用フォトレジスト組成物に関し、さらに詳しくは２０００乃至１２０００の分子量を有するノボラック樹脂、及びジアジド系感光剤を含み、有機溶媒とＳｉ系界面活性剤の助成と含量を調節し、液晶表示装置の回路用として用いられるフォトレジスト組成物に関する。 - 特許庁