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germanium; Geの英語
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「germanium; Ge」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 57件
Preferably, a molar ratio (Ti:Zn+Ge) of titanium (Ti) to zinc and germanium (Zn+Ge) are 1:3 to 3:1.例文帳に追加
チタン(Ti)と、亜鉛及びゲルマニウム(Zn+Ge)のモル比(Ti:Zn+Ge)が、1:3〜3:1であることが好ましい。 - 特許庁
To provide an additional source of germanium with high safety when manufacturing a Ge-doped compound semiconductor.例文帳に追加
Geドープ化合物半導体を製造する際の、安全性の高いゲルマニウムの添加源を提供する。 - 特許庁
The concentration of germanium in the silicon germanium film 2 is constant, and that in the Ge graded concentration silicon germanium film 3a is gradually reduced from a boundary with the silicon germanium 2 to a boundary with the silicon film 3b.例文帳に追加
シリコンゲルマニウム膜2のゲルマニウム濃度は一定であり、Ge濃度傾斜シリコンゲルマニウム膜3aのゲルマニウム濃度は、シリコンゲルマニウム膜2との界面からシリコン膜3bとの界面に向かって徐々に減少している。 - 特許庁
The solar light converter cell includes a triply-bonded semiconductor solar light converter cell formed on a germanium (Ge) substrate.例文帳に追加
太陽光変換器セルがゲルマニウム(Ge)基板上に作成された3重接合型半導体太陽光変換器セルを含むことができる。 - 特許庁
Either one or a plurality of germanium (Ge), titanium oxide (TiO_2) and silver (Ag) may be added, if necessary.例文帳に追加
必要に応じて、ゲルマニウム(Ge)や酸化チタン(TiO2),銀(Ag)のいずれか1つまたは複数を追加する。 - 特許庁
In some embodiments, nitriding of the germanium substrate forms a Ge_xN_y layer which functions as a barrier layer.例文帳に追加
特定の実施形態において、ゲルマニウム基板の窒化が、バリア層として機能するGe_xN_y層を形成する。 - 特許庁
Either or both of germanium Ge and niobium Nb are added to Sn-Zn based lead-free solder.例文帳に追加
Sn−Zn系無鉛はんだに、ゲルマニウムGeまたはニオブNbの何れかの金属または双方を添加する。 - 特許庁
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「germanium; Ge」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 57件
A negative electrode active material layer is formed by making tin (Sn) or germanium (Ge) deposited on the rolled foil.例文帳に追加
上記圧延箔上に、錫(Sn)またはゲルマニウム(Ge)を堆積させることにより負極活物質層を形成する。 - 特許庁
To provide a back electrode type photoelectric conversion element which obtains an electric power from long wavelength light which can not be absorbed by Ge (germanium).例文帳に追加
Geでは吸収することができない長波長光からも電力を得ることを可能とした裏面電極型光電変換素子を提供する。 - 特許庁
Preferably, the oxide sintered compact contains germanium at an atomic ratio Ge/In of 0.01-0.17.例文帳に追加
酸化物焼結体中のゲルマニウムの含有量は、Ge/In原子比で0.01以上0.17以下であることが好ましい。 - 特許庁
Further, the content of germanium is preferably controlled to 0.02 to 0.09 by a Ge/In atomic ratio.例文帳に追加
さらに、好ましくはゲルマニウムの含有量がGe/In原子比で0.02以上0.09以下であることを特徴とする。 - 特許庁
A Pt thin film 12 is formed on a germanium (Ge) substrate 11, and an Ni thin film 13 is formed above the Pt thin film 12.例文帳に追加
ゲルマニウム(Ge)基板11上に、Pt薄膜12が形成され、さらにPt薄膜12の上方にNi薄膜13が形成されている。 - 特許庁
The semiconductor device has a Ge semiconductor region and an insulating film region which directly contacts with the Ge semiconductor region and contains a metal, germanium, and oxygen.例文帳に追加
Ge半導体領域と、前記Ge半導体領域に直接接して形成され、金属、ゲルマニウムおよび酸素を含有する絶縁膜領域とを具備することを特徴とする。 - 特許庁
Control of a refractive index is performed by electromagnetic irradiation on the germanium containing photosensitive resin having Ge-Ge bond as the main chain and on a composition of such resin and a general purpose resin.例文帳に追加
Ge−Ge結合を主鎖とするゲルマニウム含有感光性樹脂、および、そのゲルマニウム含有感光性樹脂と汎用樹脂との組成物への電磁波照射により、屈折率の制御を行う。 - 特許庁
With the use of a silicon substrate 20 having a crystal face orientation of 110 and a thickness of 500 μm, germanium Ge is ion-injected to a surface of the silicon substrate 20, whereby a layer 30a having the Ge implanted is formed.例文帳に追加
結晶面方位110の厚さ500μmのシリコン基板20を用いて、このシリコン基板20の表面にゲルマニウムGeをイオン注入することによって、Geが打ち込まれた層30aを形成する。 - 特許庁
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