time of depositionとは 意味・読み方・使い方

Film deposition time required for depositing thin films having the characteristics of the thin films deposited by thin film deposition processes for at least two or more times performed heretofore and desired characteristics based on the film deposition time required for the thin film deposition is calculated, and, in accordance with the calculated film deposition time, thin films are deposited.例文帳に追加

以前に行われた少なくとも２回以上の薄膜形成工程で形成された薄膜の特性と、その薄膜形成に要した成膜時間に基づいて所望の特性を有する薄膜を形成するために必要な成膜時間を算出し、算出された成膜時間にしたがって薄膜を形成する。 - 特許庁

To minimize the time from the deposition of a magnetic film to the start of the deposition of the next dielectric film and to maintain the specified time thereof.例文帳に追加

磁性膜の成膜から次の誘電体膜の成膜を開始するまでの時間を最小かつ一定に保つ。 - 特許庁

To provide a vapor stream ejecting device for vapor deposition capable of switching the starting time and the ending time of vapor stream ejection in a short period of time, also capable of suppressing useless consumption of vapor deposition materials, and also to provide a vapor deposition apparatus.例文帳に追加

蒸気流の放出の開始時および終了時の切り換えを短時間に行なうことができ、かつ、蒸着材料の無駄な消費を抑えることができる蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

The inorganic vapor deposition film includes properties such that pre-tilt changes with the passage of time.例文帳に追加

無機蒸着膜は、経時的にプレチルトが変化する性質を有する。 - 特許庁

To stop film deposition reaction in an extreme short period of time and suppress overshoot.例文帳に追加

成膜反応を極めて短時間で停止させ、オーバーシュートを抑制する。 - 特許庁

To provide a method for removal of contaminants during electron beam-induced deposition, ion beam-induced deposition and laser beam-induced deposition, or a method for real-time inhibition of oxidation during deposition or etching of oxidizable materials.例文帳に追加

電子ビーム誘起付着、イオンビーム誘起付着およびレーザビーム誘起付着中に汚染物を除去する、または酸化可能な材料の付着またはエッチング中の酸化をリアルタイムで抑制する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of shortening its stop time needed for cleaning its electrodes and its peripheral part, thereby enhancing the production efficiency of a film deposition process, and to provide a film deposition system using the film deposition apparatus.例文帳に追加

成膜装置の電極およびその周辺部をクリーニングすることによる成膜装置の停止時間を短くすることができ、成膜工程の生産能率を高くすることができる成膜装置および成膜システムを提供する。 - 特許庁

Accordingly, even if the substrate is not take out of the deposition system 200, the wait time can be provided between the prescribed deposition and deposition simply by changing the operating conditions of the conventional deposition system.例文帳に追加

従って、成膜装置２００から基板を取り出さなくても、従来の成膜装置の運転条件を変更するだけで、所定の成膜と成膜との間にウエイトタイムを設けることができる。 - 特許庁