「impurity」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR REMOVING IMPURITY IN ETHYL LACTATE例文帳に追加

乳酸エチル中の不純物の除去方法 - 特許庁

ACTIVATING METHOD FOR IMPURITY ION IMPLANTED LAYER例文帳に追加

不純物イオン注入層の活性化法 - 特許庁

METHOD OF ELIMINATING CARBONACEOUS IMPURITY IN CARBON NANOTUBE例文帳に追加

炭素ナノチューブの炭素質不純物の除去方法 - 特許庁

METHOD FOR QUANTITATIVELY DETERMINING IMPURITY IN RUTHENIUM HYDROXIDE例文帳に追加

水酸化ルテニウム中の不純物の定量方法 - 特許庁

DETECTOR FOR DETECTING CONCENTRATION OF IMPURITY METAL IN LEADLESS SOLDER例文帳に追加

無鉛半田の不純物金属濃度検出装置 - 特許庁

First impurity gas adheres to the semiconductor layer.例文帳に追加

前記半導体層上に第１不純物ガスが吸着する。 - 特許庁

IMPURITY SEPARATION PIT AND RAINWATER STORAGE AND INFILTRATION SYSTEM例文帳に追加

夾雑物分離マス及び雨水貯留浸透システム - 特許庁

The first source/drain region includes a first n-type impurity layer and a second n-type impurity layer having an impurity concentration higher and a depth shallower than those of the first n-type impurity layer.例文帳に追加

そして、第１のソース・ドレイン領域が、第１のｎ型不純物層と、第１のｎ型不純物層よりも不純物濃度が高く深さの浅い第２のｎ型不純物層を備えている。 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING IONIC IMPURITY IN ORGANIC POLYMER例文帳に追加

有機ポリマー中のイオン性不純物の除去方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR WAFER IMPURITY ANALYSIS METHOD例文帳に追加

半導体ウエハの不純物分析方法 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING IMPURITY IN GLYCOSAMINOGLYCAN FRACTION例文帳に追加

グリコサミノグリカン画分中の不純物の除去方法 - 特許庁

EXTRACTION PROCESS FOR REMOVAL OF IMPURITY FROM AQUEOUS MIXTURE例文帳に追加

水性混合物から不純物を除去する抽出方法 - 特許庁

IMPURITY GAS REMOVING APPARATUS AND CLEAN ROOM APPARATUS例文帳に追加

不純物ガス除去装置及びクリーンルーム装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING SILICON FILM CONTAINING TRACE IMPURITY例文帳に追加

微量不純物を含むシリコン膜を形成する方法 - 特許庁

As a result, the impurity of hydrogen is increased.例文帳に追加

その結果、水素の純度が高められる。 - 特許庁

IMPURITY DIFFUSION METHOD TO SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板への不純物拡散方法 - 特許庁

IMPURITY ACTIVATING METHOD AND LASER IRRADIATION APPARATUS例文帳に追加

不純物活性化方法及びレーザ照射装置 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR ANALYSIS OF TRACE IMPURITY IN GAS例文帳に追加

ガス中の微量不純物の分析方法及び装置 - 特許庁

METHOD OF ANALYZING IMPURITY ELEMENT IN METALLIC SODIUM例文帳に追加

金属ナトリウム中の不純物元素の分析方法 - 特許庁

METHOD AND FILTRATION MEMBRANE FOR ANALYZING IMPURITY例文帳に追加

不純物分析方法及び不純物分析用濾過膜 - 特許庁

MICRO IMPURITY ANALYTICAL METHOD IN SILICON SUBSTRATE例文帳に追加

シリコン基板中の微量不純物分析方法 - 特許庁

The source region 3 has a p- impurity region 3a and an n+ impurity region 3b, and the drain region 4 has a p- impurity region 4a and an n+ impurity region 4b.例文帳に追加

ソース領域３は、ｐ^-不純物領域３ａと、ｎ^+不純物領域３ｂとを有し、ドレイン領域４は、ｐ^-不純物領域４ａと、ｎ^+不純物領域４ｂとを有する。 - 特許庁

REMOVING METHOD OF METALLIC IMPURITY FROM ELECTROLYTE MEMBRANE例文帳に追加

電解質膜からの金属不純物の除去方法 - 特許庁

For a range of impurity concentration in the impurity region, impurity addition is made within a concentration range so that the source and drain regions and the impurity region can form a pn junction diode.例文帳に追加

そして、不純物領域の不純物濃度の範囲は、ソース領域及びドレイン領域と、不純物領域と、がＰＮ接合ダイオードを形成できる濃度範囲で添加されているものとする。 - 特許庁

IMPURITY REMOVING STRUCTURE AND FLOWMETER例文帳に追加

不純物除去構造及び流量計 - 特許庁

METHOD OF SEPARATING IMPURITY ELEMENT FROM PLATINUM GROUP SOLUTION例文帳に追加

白金族溶解液からの不純物元素の分離方法 - 特許庁

EVALUATION OF FAULT AND IMPURITY ON SEMICONDUCTOR SURFACE例文帳に追加

半導体表面の欠陥及び不純物の評価法 - 特許庁

IMPURITY ELEMENT QUANTITY DETERMINATION METHOD ON SILICON WAFER SURFACE例文帳に追加

シリコンウェハ表面の不純物元素の定量方法 - 特許庁

PROCESSING METHOD AND DEVICE FOR WORKING FLUID CONTAINING FLOATING IMPURITY例文帳に追加

浮遊夾雑物を含む加工液の処理方法及び装置 - 特許庁

An impurity region 19 having the same impurity concentration with that of the impurity region 17 is formed at the same depth of that of the impurity region 17 from the surface of the semiconductor substrate 11 in the semiconductor substrate 11 under the diffusion layer 18.例文帳に追加

拡散層１８下で半導体基板１１の表面から不純物領域１７と同じ深さの半導体基板１１内に、不純物領域１７と同じ不純物濃度を持つ不純物領域１９が形成されている。 - 特許庁

IMPURITY DIFFUSION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

不純物拡散方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF IMPURITY ADDIDING DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

不純物添加装置および半導体装置の作製方法 - 特許庁

DISCHARGE TOOL OF IMPURITY IN TUBE AND INSERTION METHOD THEREOF例文帳に追加

管内夾雑物の排出具及びその挿入方法 - 特許庁

ANALYTICAL METHOD OF IMPURITY IN CARBON MATERIAL例文帳に追加

カーボン材料中不純物の分析方法 - 特許庁

An impurity layer is formed on the base of the shallow trench.例文帳に追加

浅いトレンチ底面に不純物層を形成する。 - 特許庁

LAMINATED MULTICELLULAR FOAMED GLASS CONTAINING IMPURITY AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

夾雑物含有積層泡ガラス及びその製造方法 - 特許庁

QUARTZ GLASS HAVING ABILITY TO INHIBIT DIFFUSION OF METAL IMPURITY例文帳に追加

金属不純物拡散阻止能を有する石英ガラス - 特許庁

VACUUM TREATMENT DEVICE AND ITS IMPURITY MONITORING METHOD例文帳に追加

真空処理装置及びその不純物監視方法 - 特許庁

ANALYZING METHOD AND ITS DEVICE FOR IMPURITY IN MIXED GAS例文帳に追加

混合ガス中の不純物の分析方法及び装置 - 特許庁

METHOD FOR ANALYZING IMPURITY ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加

半導体基板表面の不純物の分析方法 - 特許庁

METHOD FOR ANALYZING IMPURITY IN SEMICONDUCTOR SUBSTRATE OR CHEMICALS例文帳に追加

半導体基板又は薬品の不純物分析方法 - 特許庁

METHOD FOR REMOVING METAL IMPURITY IN BORON-BASED GAS例文帳に追加

ホウ素系ガス中の金属不純物の除去方法 - 特許庁

SAMPLING METHOD OF IMPURITY IN WATER-SOLUBLE GAS例文帳に追加

水溶性ガス中の不純物のサンプリング方法 - 特許庁

To suppress mixing of an impurity with which an impurity layer formed firstly is doped into an impurity layer formed secondly when the impurity layers of different conductivity types are formed in order.例文帳に追加

導電型が異なる不純物層を順に形成する場合に、先に形成した不純物層へのドーピング用の不純物が後に形成する不純物層に混入されることを抑制する。 - 特許庁

IMPURITY GAS ELIMINATING DEVICE FOR GAS DISCHARGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加

ガス放電表示装置の不純ガス除去装置 - 特許庁