かさんかすとろんちうむの英語

２−ビニルナフタレンを有機系過酸、有機系過酸化物、無機系酸化剤又は過酸化水素等の酸化剤により酸化して２−ナフチルオキシランに変換して、次に、得られた２−ナフチルオキシランを水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、ナトリウムシアノボロハイドライド、水素化ナトリウムアルミニウム、ボラン、水素ガス等の水素化剤により水素化して２−ナフチルエタノールとする。例文帳に追加

The method for producing 2-naphthylethanol comprises oxidizing 2-vinylnaphthalene with an oxidizing agent such as an organic peracid, organic peroxide, inorganic oxidizing agent or hydrogen peroxide into 2-naphthyloxirane, which is then hydrogenated with a hydrogenating agent such as lithium aluminum hydride, sodium borohydride, potassium borohydride, sodium cyanoborohydride, sodium aluminum hydride, borane or hydrogen gas. - 特許庁

シリカ粒子、無機アンモニウム塩、過酸化水素及び水よりなり、該過酸化水素の濃度が２〜８重量％であり、且つ、ｐＨが８．５〜１０．２の範囲であるシリカスラリーよりなることを特徴とする金属膜用研磨剤。例文帳に追加

This polishing agent consists of silica particles, inorganic ammonium salt, a hydrogen peroxide, and water, and the concentration of that hydrogen peroxide is 2-8 wt.%, and besides pH of the silica slurry is in the range of 8.5 to 10.2. - 特許庁

少なくとも蓚酸アンモニウム、過酸化水素、及びアミノ酸を含有し、ｐＨが６．０〜８．５である銅エッチング液。例文帳に追加

The copper etchant contains at least ammonium oxalate, hydrogen peroxide and amino acid and has 6.0 to 8.5 pH. - 特許庁

次亜塩素酸ナトリウム水溶液又は過酸化水素水からなる洗浄剤を用いることを特徴とするゴム用ロールの洗浄方法。例文帳に追加

The method for cleaning the roll for rubber uses a cleaning agent including an aqueous solution of sodium hypochlorite or hydrogen peroxide. - 特許庁

カルシウムキレート剤と、過酸化水素または過酸化水素誘導体を含んでいる組成物を歯面に１０秒〜１０分間接触させることによる歯面清掃方法とする。例文帳に追加

The method for cleaning tooth surfaces comprises bringing a composition containing a calcium chelating agent and hydrogen peroxide or a hydrogen peroxide derivative into contact with tooth surfaces for 10 seconds-10 minutes. - 特許庁

銀１モル部およびヒスチジンなどのアミノ酸１〜３モル部からなる銀−アミノ酸錯体と、 過酸化水素または過酸化ナトリウムなどの過酸化水素を発生させる化合物とを、 銀１モルに対して過酸化水素が０．００２〜１０００モルとなる割合で含有し、且つｐＨが６以上である、抗菌、殺菌若しくは抗ウイルス性組成物。例文帳に追加

There is provided the antibacterial, bactericidal or antiviral composition containing a silver-amino acid complex comprising 1 pt.mol of silver and 1 to 3 pts.mol of an amino acid such as histidine, and hydrogen peroxide or a compound, such as sodium peroxide, for generating the hydrogen peroxide in a silver:hydrogen peroxide ratio of 1 mol:0.002 to 1,000 mols, and having ≥6 pH. - 特許庁

テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩の過酸化水素化物に、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジン等のヒンダードアミンを添加する。例文帳に追加

A hindered amine such as 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidine, etc., is added to a peroxyhydrate of a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium hydroxide, etc. - 特許庁

半導体基板用洗浄液は、フッ化水素０．０８〜０．１重量％、フッ化アンモニウム０．５〜０．６重量％、過酸化水素２４．９〜４９．７重量％及び水４９．６〜７４．５重量％を含む。例文帳に追加

This cleaning solution for semiconductor substrates contains 0.08-0.1 wt.% of hydrogen fluoride, 0.5-0.6 wt.% of ammonium fluoride, 24.9-49.7 wt.% of hydrogen peroxide, and 49.6-74.5 wt.% of water. - 特許庁