しのろしちじょう３ちょうめの英語

ついで、ｎ型半導体基板１およびｐ型エピタキシャル層３の露出面上にｎ型エピタキシャル層４をエピタキシャル成長させる。例文帳に追加

Then an n-type epitaxial layer 4 is grown on the exposed surfaces of the semiconductor substrate 1 and p-type epitaxial layer 3. - 特許庁

着脱可能な片開き戸12の縦枠８がその露出面側から木ねじやビス９により枠下地３に着脱可能に固定され、縦枠８を除去した際に露出する枠下地３の露出面に表面仕上げを施して構成したことを特徴とする。例文帳に追加

A vertical frame 8 of an attachable single wing door 12 is detachably fixed to a frame backing 3 by a wood screw and a machine screw 9 from the exposed surface side, and is constituted by applying surface finishing to an exposed surface of the frame backing 3 exposed when removing the vertical frame 8. - 特許庁

帽子の周囲に筒状の布１を設置し、これに伸縮性のあるひも２を通し、帽子表面部に露出したひも２の両端にひも２の露出部分の長さを調節可能な留め具３を設けた脱落防止装置付帽子を特徴とする。例文帳に追加

There is provided a hat having a dropout preventing device, which is provided by setting a cylindrical cloth 1 around the hat, passing a flexible string 2 through the cloth 1 and providing a fastener 3 capable of adjusting the length of the exposed parts of the string 2, at both the ends of the string 2 which ends are exposed on the hat surface part. - 特許庁

翌永仁2年（1294年）3月、兼時は「異国用心」のため、筑前国と肥前国で九州の御家人達と、とぶひ（狼煙）の訓練を行い、軍勢の注進、兵船の調達などを行って異国警固体制を強化した。例文帳に追加

In April, 1294, the following year, for 'a precaution against foreign countries,' Kanetoki conducted signal fire training with gokenin of Kyushu in the Provinces of Chikuzen and Hizen, and made a report of the force and increased procurement, strengthening the security guard against foreign countries.発音を聞く  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

分子線エピタキシー法を用いて基板２上にII−VI族半導体超格子１を形成し、基板の一部をエッチングにより除去して半導体超格子１を基板２側に露出させ、この露出面に光反射防止膜３を形成した。例文帳に追加

A II-VI semiconductor superlattice 1 is formed on a substrate 2 by a molecular beam epitaxy method, part of the substrate 2 is removed by etching to expose the semiconductor superlattice 1 to the substrate 2 side and an optical antireflection film 3 is formed on the exposed face. - 特許庁

基材上（１０）に形成した透明導電膜（１）の表面に互いに分離したパターンを有する透明絶縁材料（２）を形成し、該透明絶縁材料が付着していない透明導電膜の露出部分に電気めっき法により選択的に金属膜（３）を形成することを特徴とする。例文帳に追加

Transparent insulating materials (2) having patterns separated from one another are formed on a surface of the transparent conductive film (1) formed on a base material (10), and metal films (3) are selectively formed by an electroplating method at exposed parts of the transparent conductive film where no transparent insulating materials are attached. - 特許庁

基板１上に形成された配線３の断線箇所Ｄを含む基板１の露出面領域に、光照射によって濡れ性が変化する物質を用いた濡れ性調整層５を成膜する。例文帳に追加

A wettability adjusting layer 5 using a material that is changed in wettability with irradiation of light is formed within an exposed surface region of a circuit board 1 including a disconnection point D of the wiring 3 formed on the circuit board 1. - 特許庁