しのろしちじょう１ちょうめの英語

基板１上に形成された配線３の断線箇所Ｄを含む基板１の露出面領域に、光照射によって濡れ性が変化する物質を用いた濡れ性調整層５を成膜する。例文帳に追加

A wettability adjusting layer 5 using a material that is changed in wettability with irradiation of light is formed within an exposed surface region of a circuit board 1 including a disconnection point D of the wiring 3 formed on the circuit board 1. - 特許庁

同一の成長装置内で、基板１上に積層したサブコレクタ層およびコレクタ層の一部をエッチングにより除去してコレクタ領域６を形成するとともに、バッファ層２の一部を露出させ、その露出部分にＩｎＡｌＡｓからなる埋め込み領域を成長させる。例文帳に追加

In the same apparatus for growing the following regions, parts of a sub-collector layer and collector layer stacked on a substrate 1 are removed to form a collector region 6, part of a buffer layer 2 is made to expose, and a buried region consisting of InAlAs is made to grow. - 特許庁

基材上（１０）に形成した透明導電膜（１）の表面に互いに分離したパターンを有する透明絶縁材料（２）を形成し、該透明絶縁材料が付着していない透明導電膜の露出部分に電気めっき法により選択的に金属膜（３）を形成することを特徴とする。例文帳に追加

Transparent insulating materials (2) having patterns separated from one another are formed on a surface of the transparent conductive film (1) formed on a base material (10), and metal films (3) are selectively formed by an electroplating method at exposed parts of the transparent conductive film where no transparent insulating materials are attached. - 特許庁

単結晶製造装置１において、種結晶１０は、長さ方向がｃ軸配向した棒状の窒化アルミニウム単結晶からなり、窒化アルミニウム原料８が結晶成長する側部の露出面は｛０００１｝面に対し９０°の傾きを有する。例文帳に追加

In a device 1 for manufacturing a single crystal, a seed crystal 10 is formed of a rod-like aluminum nitride single crystal whose length direction is oriented to the c-axis direction and the exposed surface on the side portion thereof where alminum nitride material 8 is grown into a crystal has an inclination of 90° relative to the (0001) plane. - 特許庁

無機フィラーを含むエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体を成形してなるフッ素樹脂フィルム層１とその片面に積層された白色の裏打材２を有し、フッ素樹脂フィルム層１の露出面が無機フィラーに起因する凹凸を有し、かつその表面張力が３０〜４２ダイン／ｃｍである。例文帳に追加

The laminate for white board comprises a fluororesin film layer 1 prepared by molding an ethylene-tetrafluoroethylene copolymer containing inorganic fillers and a white backing material 2 superposed on one side of the layer 1, and an exposed surface of the layer 1 has irregularities due to the inorganic fillers and has a surface tension of 30-42 dyne/cm. - 特許庁

プロジェクタ１の外装筐体２には、投射光学装置から拡大投射される光束を通過させるための光束通過用開口部２１１と、投射光学装置を構成する画像調整部の少なくとも一部を外部に露出させるための露出用開口部２１２とが形成されている。例文帳に追加

A luminous flux passing aperture part 211 for making luminous flux enlarged and projected from the projection optical device pass, and an exposing aperture part 212 for exposing at least a part of an image adjustment part constituting the projection optical device to the outside are formed on the outside housing 2 of the projector 1. - 特許庁

オートストロボ機能や瞬間発光量の調整機能を有しないストロボ装置９が用いられ、絞り値等の露出パラメータが固定のデジタルカメラ１が用いられている場合であっても、ストロボ装置９の有効発光量Ｒを変化させることによって、適正露出を得ることができる。例文帳に追加

This makes it possible to obtain a suitable exposure, by changing the effective light emitting quantity R of the strobe device 9, even when a digital camera 1 having fixed exposure parameters such as orifice restriction value, etc., is used with a strobe device 9, having neither auto strobe function nor instantaneous exposure-adjusting functions. - 特許庁

タイル素地２の原料とガラスビーズなどの透明球体３とを混合して混合材料を生成する工程と、混合材料を成形して生素地１’を形成する工程と、生素地１’の表面をブラシ等で研磨して、透明球体３の露出度を高める工程と、を含むことを特徴とする。例文帳に追加

The method for manufacturing the reflector includes: a process of manufacturing a mixed material by mixing a raw material of a tile foundation 2 with transparent spheres 3 such as glass beads; a process of forming a raw foundation 1' by forming the mixed material; and a process of enhancing the degree of the exposure of the transparent spheres 3 by grinding the surface of the raw foundation 1' by a brush or the like. - 特許庁