たんたるさんなとりうむの英語

結晶格子欠陥は、水素イオン、リチウムイオン、酸素イオン、タンタルイオン、ナトリウムイオンまたはカリウムイオンの注入により形成する。例文帳に追加

The crystal lattice defects are formed by implanting ions of hydrogen, oxygen, tantalum, sodium or potassium. - 特許庁

金属タンタル又は窒化タンタル等の金属材料の研磨方法において、α−アルミナからなる研磨砥粒、過酸化水素からなる酸化剤並びに炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム及び炭酸水素アンモニウムからなる群より選ばれた少なくとも１種である炭酸塩を含有し、残部が水である研磨用組成物を用いる。例文帳に追加

In the grinding method of metallic materials, for example, metallic tantalum or tantalum nitride, a grinding composition that includes abrasive grains of α-alumina, an oxidant consisting of hydrogen peroxide, and at least one carbonate salt selected from sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate and ammonium hydrogen carbonate, and the balance water is employed. - 特許庁

酸化イットリウム、酸化タンタルそして随意的に炭酸ストロンチウムの酸化物混合物を形成し、該酸化物混合物に硫酸リチウム−硫酸ナトリウムの混合フラックスを添加し、そして混合物を蛍光体を形成するに十分の温度及び時間において焼成する。例文帳に追加

A method of preparing a phosphor comprises forming an oxide mixture of yttrium oxide, tantalum oxide and, optionally, strontium carbonate, adding a mixed flux of lithium sulfate and sodium sulfate to the oxide mixture and firing the resulting mixture at a sufficient temperature for a sufficient period of time to form a phosphor. - 特許庁

このような下部物質層または上部物質層はアルミニウム、シリコン、ジルコニウム、セリウム、チタニウム、イットリウム、タンタルまたはニオビウムの酸化物または窒化物よりなる。例文帳に追加

A lower material layer or upper material layer like this is made of an oxide or nitride of niobium or tantalum, aluminum, silicon, zirconium, cerium, titanium, and yttrium. - 特許庁

第一酸化物を含むマトリックス材料、及び金属性成分を含む組成物を有するスパッタリングターゲットであって、高屈折率を有する第一酸化物が、任意の酸化物変態にある、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化バナジウム、酸化イットリウム、酸化モリブデン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化タングステン及び酸化ハフニウムからなる酸化物の群、又はその混合物から選択される。例文帳に追加

The sputtering target has a composition composed of a matrix material comprising a first oxide and a metallic component, wherein the first oxide having a high refractive index is selected from a group of oxides consisting of titanium oxide, niobium oxide, vanadium oxide, yttrium oxide, molybdenum oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide and hafnium oxide which are in an arbitrary transformation, or a mixture of them. - 特許庁

この粒状材料は、（１）アルミナ、（２）イットリア、（３）ケイ酸アルミニウム、（４）希土類元素、アルカリ土類元素、アルミニウム、酸素、イットリウム、窒素、ニオブ、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム、炭素、およびケイ素のそれぞれの化合物、およびこれらの混合物からなる群から選択される。例文帳に追加

The granular material is selected from the group consisting of alumina (1), yttria (2), aluminum silicate (3), a rare earth metal element (4), an alkali earth metal element, aluminum, oxygen, yttrium, nitrogen, niobium, tantalum, hafnium, zirconium, carbon, silicon and their mixture. - 特許庁

スパッタリングターゲットを構成する元素および／または化合物の少なくとも粒子の表面に、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化第二スズ、酸化ランタン、五酸化タンタルおよび一酸化鉛からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸化物を有することを特徴とするスパッタリングターゲット用沈殿物とする。例文帳に追加

The precipitate for a sputtering target is obtained by providing at least the surface of the particle of an element and/or a compound composing a sputtering target with at least one oxide selected from the group consisting of silicon dioxide, aluminum oxide, titanium dioxide, zinc oxide, yttrium oxide, zirconium oxide, indium oxide, stannic oxide, lanthanum oxide, tantalum pentoxide and lead monoxide. - 特許庁

タンタル切粉等のタンタルスクラップをフッ化水素酸又はフッ化水素酸と硝酸との混酸で溶解し、未溶解残渣を除去した後、カリウム含有塩を添加しフッ化タンタルカリウム結晶を析出させ、さらにこのフッ化タンタルカリウム結晶をナトリウム還元して金属タンタル粉を得ることを特徴とする高純度タンタルの回収方法。例文帳に追加

The method for recovering high-purity tantalum comprises steps of: dissolving tantalum scrap, such as tantalum chips, by means of hydrofluoric acid or mixed acid of hydrofluoric acid and nitric acid and removing an undissolved residue; adding a potassium-containing salt to precipitate a tantalum fluoride potassium crystal; and further subjecting this tantalum fluoride potassium crystal to sodium reduction to obtain metal tantalum powder. - 特許庁