ぼるつまんぶんぷの英語

Tsallis分布などボルツマン−ギプス分布より、エネルギーの関数としてみた場合に、ゆっくり０に漸近する分布を再現する微分方程式を作成し、これを数値解法によって積分する。例文帳に追加

A differential equation reproducing a distribution more asymptotically closing to 0 in comparison with a Boltzmann-Gipps distribution such as Tsallis distribution, when as far as it is concerned that the distribution is an energy function, is created to be integrated by a numerical solution. - 特許庁

暗号化されたデータは、一様に分布している。 つまり、各情報源シンボルは最大のエントロピーを持っている。例文帳に追加

Encrypted data is uniformly distributed, i.e., has maximal entropy per symbol;発音を聞く  - FreeBSD

行動管理部７２は、報酬ｒに基づき、行動価値を更新し、その行動価値を、ボルツマン分布に適用して、行動選択確率を決定する。例文帳に追加

The action control unit 72 updates the action value based on the reward (r), and the action value is applied to the Boltzmann distribution to determine the action selection probability. - 特許庁

ＤＭＳによる高精度のエアロゾル測定のための、放射性イオナイザによるボルツマン分布と同様な電荷分布を発生できる電気イオナイザを提供すること。例文帳に追加

To provide an electrical ionizer that generates a charge distribution similar to Boltzmann distribution generated by a radioactive ionizer for an accurate measurement of aerosol by DMS. - 特許庁

本発明のディーリングシステムでは、金融工学のボルツマンモデルをエキゾチックオプション価格評価に用いて、線形ボルツマン方程式で価格変動分布のLeptokurcityとFat−tailの特徴を表現することにより、リスク中立でかつ一意的な確率測度を定義する。例文帳に追加

In this dealing system, Bortzmann model in an financial engineering is used for evaluating exotic optional prices to express the features of the Leptokurcity and Fat-tail of a price variation distribution by a linear Bortzmann equation so as to define a risk-neutral single probability measure. - 特許庁

物理量の平均を取る場合には、平均が任意の温度のボルツマン−ギプス分布によって計算したものとなるように式を構築することによって、物理系あるいは化学系の熱力学量を適切に計算することができる。例文帳に追加

When calculating the average of the physical amount, a physical or chemical thermodynamic amount can be calculated appropriately by configuring an equation in such a manner that the average becomes equal to that of any temperatures calculated by the Boltzmann-Gipps distribution. - 特許庁

これにより、半導体ウエハ等の被処理体の表面のみを浅く、且つ膜種に関係なく均一な温度分布の状態で高速昇温及び高速降温させる。例文帳に追加

Consequently, high speed shallow temperature rise or temperature drop can be carried out only on the surface of the workpiece, e.g. a semiconductor wafer, under a state of uniform temperature distribution regardless of the type of the film. - 特許庁