ジクロロシランの英語

反応管１１は、ＴＥＯＳの分解によりシリコン酸化膜を形成し、アンモニアとジクロロシランの反応によりシリコン窒化膜を形成する。例文帳に追加

A silicon oxide film is formed by resolving TEOS(tetra ethoxy silane), and a silicon nitride film is formed by reacting ammonia and dichlorosilane in a reacting tube 11. - 特許庁

反応管２内にジクロロシランおよびイソプロピルアミンが導入されると、これらが反応管２内で加熱される。例文帳に追加

When the dichlorosilane and the isopropylamine are introduced into the reaction tube 2, they are heated in the reaction tube 2. - 特許庁

ジメチルジクロロシランの製造に対して改善を示す、ミュラー−ロッショーによるメチルクロロシランの直接合成法を提供する。例文帳に追加

To provide a direct synthetic method for methylchlorosilane with a Mueller-Rochow method which exhibits an improvement in the production of dimethyldichlorosilane. - 特許庁

次に、反応管２内を所定の温度に昇温し、昇温した反応管２内にジクロロシランを供給する。例文帳に追加

Then, the temperature of the inside of the reaction tube 2 is made to rise to a predetermined temperature, and dichlorosilane is supplied to the inside of the reaction tube 2 whose temperature has been made to rise. - 特許庁

この方法では、トリメチルクロロシラン存在下でオルガノハイドロジェンジクロロシランを水と接触させてＭ停止加水分解物を形成する。例文帳に追加

This method for the production of the linear organohydrogensiloxane comprises contacting an organohydrogendichlorosilane with water in the presence of trimethylchlorosilane to form an M-stopped hydrolyzate. - 特許庁

ミュラー・ロッショーによるメチルクロロシランの直接合成のための方法において、ジメチルジクロロシランの製造に関して改良を示す方法を提供する。例文帳に追加

To provide a improved method for production of dimethyldichlorosilane in a method for direct synthesis of methylchlorosilane by Mueller-Rochow. - 特許庁

トリクロロシラン（ＴＣＳ）からホウ素化合物を除去するとともに、再利用可能な化合物をＴＣＳに変換して、ジクロロシラン（ＤＣＳ）およびその他の化合物を効果的に再利用する。例文帳に追加

To remove boron compounds from trichlorosilane (TCS) and to effectively reuse dichlorosilane (DCS) and other compounds by converting such reusable compounds into TCS. - 特許庁

窒素を含有するガスとジクロロシランとを反応させて一方の窒化シリコン膜２０１を形成し、窒素を含有するガスとシリコンおよび塩素からなる化合物とを反応させて他方の窒化シリコン膜２０３を形成する。例文帳に追加

The method of manufacturing a semiconductor device includes a step of forming one silicon nitride film 201 by reacting a gas containing a nitrogen with a dichlorosilane, and forming the other silicon nitride film 203 by reacting the gas containing the nitrogen with a compound containing silicon and chlorine. - 特許庁