はんだマスク除去の英語

メタルマスク版の表面にはみ出した半田等の付着物の拭き取りに使用した拭き取りシートから付着物を除去して、拭き取りシートを何度も再利用できるようにした付着物除去装置を提供する。例文帳に追加

To provide a deposit removing apparatus for removing deposit from a wiping sheet used for wiping the deposit such as a solder or the like coming out to the surface of metal mask plate to make the wiping sheet repeatedly usable. - 特許庁

印刷時のマスク除去後の形状保持性に優れ、且つ、その後の加熱時を含めたダレ防止性に優れた、はんだ粉末及び該粉末を用いたはんだペーストを提供する。例文帳に追加

To provide solder powder that excels in shape retentivity after removal of a mask in printing and that has excellent sagging prevention including subsequent heating time, and to provide a solder paste using the solder powder. - 特許庁

ボード上の構成要素のスタンドオフ空間は、構成要素パッケージの下にあるはんだマスクを選択的に省略することによって、または選択的に除去することによって、著しく拡大することができる。例文帳に追加

A standoff space of components on a board can be markedly increased, by selectively omitting or selectively removing solder masks under a component package. - 特許庁

また、ステップＳ９においては、残ボールを除去すると共に、マスクの開口パターンに充填された半田ボールをフラックスに押し付けて密着させることができる。例文帳に追加

Further, in the step S9, remaining balls are removed, and the solder balls with which the opening pattern of the mask is filled up can be pressed and closely attached to flux. - 特許庁

はんだバンプ５と有機絶縁膜２の分離層として、ＳｉＯ_２、ＳｉＮ、およびＳｉＯＮの１つを無機系絶縁膜３として用い、無機系絶縁膜３に、パターニングするマスクを形成し、その上からはんだの組成となる金属膜をそれぞれ蒸着し、このマスクを除去してバンプ前駆体を形成する。例文帳に追加

As an insulated layer of a solder bump 5 and an organic insulating film 2, one of SiO_2, SiN and SiON is used as an inorganic based insulating film 3 to form a mask for patterning on the inorganic based insulating film 3, metal films as a composition of a solder are deposited from thereon, respectively, and this mask is removed to form a bump precursor. - 特許庁

スキージ３４が穴２１配置領域の外側まで移動した後、チルトテーブル４をこれまでとは逆の方向に傾斜させ、穴２１に係合しなかったはんだボール１９をマスク２０上から除去した後、チルトテーブル４を水平に戻し、最後にスキージ３４を元の位置に戻す。例文帳に追加

After the squeegees 34 are moved to a point outside a region where the holes 21 are arranged, the tilting table 4 is tilted to the opposite side, the solder balls 19 which are not engaged with the holes 21 are removed from the mask 20, then the tilting table 4 is turned horizontal in position, and lastly the squeegees 34 are returned to their original positions. - 特許庁

また、前記クリーニング装置１は、前記調整手段１９を前記吸引用容器１８に対して回動・着脱・挿嵌・交換することで容易に前記マスク２上に形成されたパターン孔７の範囲に前記吸引口２１を合わせることができるので、あらゆるマスク２に対してクリームはんだＣの除去が可能である。例文帳に追加

Since the cleaning device 1 can make the suction port 21 correspond to the range of a pattern hole 7 formed on the mask 2 easily by the rotation, attachment/detachment, insertion, and exchange of the adjusting means 19 to the container 18, the removal of the creamy solder C is possible for all the masks 2. - 特許庁