ピッチパターンの英語

ピッチパターン生成手段は、所定の規則にしたがって入力テキストの解析情報から第１のピッチパターンもしくはその特徴量を生成し、この第１のピッチパターンもしくはその特徴量からピッチパターン生成過程モデルに基づいて補正した第２のピッチパターンを生成し、この第２のピッチパターンを出力する。例文帳に追加

A pitch pattern generation means generates a first pitch pattern or its feature quantity from analysis information of an input text in accordance with a prescribed rule and generates a second pitch pattern, which is obtained by correction based on a pitch pattern generation process model, from the first pitch pattern or its feature quantity and outputs this second pitch pattern. - 特許庁

パターン接続部１５は韻律制御単位毎に生成されたピッチパターンを接続して文ピッチパターンを出力する。例文帳に追加

A pattern connection section 15 connects pitch patterns generated in prosody control units and outputs a sentence pitch pattern. - 特許庁

より自然な音声を合成することのできるピッチパターンを生成することのできるピッチパターン生成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a pitch pattern generating apparatus capable of generating a pitch pattern with which a more natural speech can be synthesized. - 特許庁

さらに、変形可能範囲に捕われることなく、基本のピッチパターンの概形を保ったまま周波数変形して変形ピッチパターンを設定する。例文帳に追加

Moreover, the deformed pitch pattern is set by conducting frequency deformation while holding the approximate shape of the basic pitch pattern without considering a deformation possible range. - 特許庁

自然性が高く安定したピッチパターンを生成することができるピッチパターン生成装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a device for pitch pattern formation capable of forming a stable pitch pattern with high naturalness. - 特許庁

所定の処理単位分の入力信号ピッチパターンIPPと目標ピッチパターンTPPとを入力して、入力信号ピッチパターンIPPから目標ピッチパターンTPPへのピッチ変換を行う際に入力信号の波形が劣化する劣化度DGRを算出する。例文帳に追加

An input signal pitch pattern IPP of a prescribed processing unit component and a target pitch pattern TPP are input and a deterioration degree DGR at which the waveform of the input signal in performing the pitch conversion from the input signal pitch pattern IPP to the target pitch pattern TPP is calculated. - 特許庁

密ピッチパターンが形成され、疎ピッチパターン形成部位がマスキングされた第１のフォトマスク１００と、疎ピッチパターンが形成され、密ピッチパターン形成部位がマスキングされた第２のフォトマスク１１０とを有する構成である。例文帳に追加

The mask includes a first photomask 100 where a dense pitch pattern is formed and a portion where a coarse pitch pattern is to be formed is masked, and a second photomask 110 where a coarse pitch pattern is formed and a portion where a dense pitch pattern is to be formed is masked. - 特許庁

自然なピッチ変化を実現するためのピッチパターン生成装置等を提供する。例文帳に追加

To provide a pitch pattern generating device etc., for realizing natural pitch variation. - 特許庁