マスク不良付着の英語

リードフレームとフォトマスクの接触時に生じるレジスト剥がれを防止し、めっき付着不良を無くすようにする。例文帳に追加

To prevent resist peel-off that is generated when a lead frame is brought into contact with a photomask, and to eliminate plating adhesion failures. - 特許庁

メタルマスクのエッチング残渣の再付着による吐出ノズルの形状不良や電極端子部分の電気接続不良が発生しない異方性エッチング方法を提供する。例文帳に追加

To provide an anisotropic etching method in which occurrence of an ejection nozzle having an incomplete shape or incomplete electrical connection at the electrode terminal part due to readhesion of the etching residue of metal mask is prevented. - 特許庁

着色組成物の塗布層が塗布されたガラス基板上に溜まる電荷を低減し、ゴミの付着、及び露光マスクパターンの破壊を防ぎ、異物不良、画像欠陥のない良好なカラーフィルターを提供する。例文帳に追加

To provide a satisfactory color filter having no foreign matter inferiority and no image defect by reducing charge gathering on a glass substrate where a coating layer of a colored composition is applied and preventing sticking of dirt and destruction of an exposure mask pattern. - 特許庁

異物付着の原因となる成膜時のマスクを用いることなく第１配向膜を形成し、配線不良の原因となるボンディングパッド部上への第１配向膜の付着を極力防止することが可能な液晶表示装置を提供する。例文帳に追加

To provide a liquid crystal display device in which a first alignment layer is formed without using a mask for layer formation causing the adhesion of foreign substances and the adhesion of the first alignment layer to the surfaces of bonding pad parts causing defective wiring can be consequently prevented as much as possible. - 特許庁

本発明は半導体装置の製造工程において、レジストなどのマスクパターンを用いる際に発生する反応生成物等のレジスト等への不均一な付着によるパターン形状等の不良を生じさせず、また、寸法精度が良好な微細パターンの形成方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a forming method of a fine pattern with improved size precision which does not gives rise to a failure in a pattern shape etc. due to the uneven adhesion of reaction products etc., manufactured when a mask pattern such as a resist is used, to the resist. - 特許庁