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メサ型トランジスタの英語
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「メサ型トランジスタ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
メサ型バイポーラトランジスタ例文帳に追加
MESA BIPOLAR TRANSISTOR - 特許庁
メサ型化合物半導体電界効果トランジスタ及びその作製方法例文帳に追加
MESA-TYPE COMPOUND SEMICONDUCTOR FIELD EFFECT TRANSISTOR AND ITS PREPARATION - 特許庁
メサ型トランジスタを製造する時にメサ溝に保護膜を形成すると半導体基板6に撓みが生じる。例文帳に追加
To solve a problem that a semiconductor substrate 6 is flexed when a protective film is formed in a mesa trench at the time of fabricating a mesa type transistor. - 特許庁
種々の実施形態により、3重メサ型構造よりも平面的なプロフィルを有するバイポーラ・トランジスタの垂直構造を提供すること。例文帳に追加
To provide a vertical construction of a bipolar transistor having a flatter profile than triple mesa structure according to various embodiments. - 特許庁
トレンチゲート型蓄積モード電界効果トランジスタにおいて、N型ドレインの低濃度ドープされたドリフト領域をトレンチ間のメサに設ける。例文帳に追加
In a trench gate type storage mode field-effect transistor, a lightly-doped drift region of an N-type drain is provided on a mesa between trenches. - 特許庁
エミッタメサを有するヘテロ接合型バイポーラトランジスタにおいて、ベース−コレクタ間の寄生容量Cbcを低減させ、最大発振周波数fmaxを向上させること。例文帳に追加
To improve the maximum oscillation frequency fmax by reducing the parasitic capacity Cbc between a base and collector in the hetero-junction bipolar transistor having a mesa of emitter. - 特許庁
本発明に係るバイポーラ接合トランジスタでは、第1の導電型のエピタキシャル炭化ケイ素保護層が、炭化ケイ素エミッタメサの外側にあるエピタキシャル炭化ケイ素ベース層の少なくとも一部に設けられる。例文帳に追加
In this bipolar junction transistor, an epitaxial silicon carbide passivation layer 350 of the first conductivity type is provided on at least a portion of the epitaxial silicon carbide base layer 320 outside the silicon carbide emitter mesa. - 特許庁
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「メサ型トランジスタ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
この電界効果トランジスタにおける窒化物半導体積層構造部5には、n型GaN層6、p型GaN層7およびn型GaN層8に跨る壁面16を側面とするメサ状積層部15が形成されている。例文帳に追加
A mesa shape lamination unit 15, having a side surface or a wall surface 16 which is extended over an n-type GaN layer 6, a p-type GaN layer 7 and another n-type GaN layer 8, is formed on a nitride semiconductor lamination structural unit 5 in this field effect transistor. - 特許庁
本発明のヘテロ接合バイポーラトランジスタ1は、コレクタ層2、ベース層3、エミッタ層4及びエミッタキャップ層5を積層し、エミッタキャップ層5のメサ7端部にほぼ一致する断面T字型のエミッタ電極12bを有することを特徴とする。例文帳に追加
The heterojunction bipolar transistor 1 comprises a multilayer of a collector layer 2, a base layer 3, an emitter layer 4 and an emitter cap layer 5, and an emitter electrode 12b having a T-shaped cross-section substantially aligned with the end of a mesa 7 of the emitter cap layer 5. - 特許庁
SOI活性層とメサ型素子分離領域との境界のゲート電極で覆われた部分における、閾値電圧の低い寄生トランジスタの発生を効果的に防止できる半導体装置およびその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a semiconductor device in which the occurrence of a parasitic transistor, having low threshold voltage in a portion covered with a gate electrode at the boundary between an SOI active layer and a mesa-type element separating region can be prevented effectively, and to provide a method of manufacturing the device. - 特許庁
半絶縁性基板上に第1導電型サブコレクタ層3と、第1導電型コレクタコンタクト層およびコレクタ層と、第2導電型たベース層7と、該ベース層7よりもバンドギャップの大きいエミッタ層と、第1導電型エミッタコンタクト層9とで、メサ型ヘテロ接合バイポーラトランジスタを構成している。例文帳に追加
The mesa hetero-jumction bipolar transistor consists of a first conductivity sub-collector layer 3, a first conductivity collector contact layer and a collector layer, a second conductivity base layer 7, an emitter layer whose band gap is larger than the base layer 7, and a first conductivity emitter contact layer 9 on a semi-insulating substrate. - 特許庁
第1の導電型の炭化ケイ素(SiC)コレクタ層、炭化ケイ素コレクタ層上の第2の導電型のエピタキシャル炭化ケイ素ベース層、およびエピタキシャル炭化ケイ素ベース層上の第1の導電型のエピタキシャル炭化ケイ素エミッタメサを含むバイポーラ接合トランジスタ(BJT)を提供する。例文帳に追加
To provide a bipolar junction transistor (BJT) comprising a silicon carbide (SiC) collector layer of first conductivity type an epitaxial silicon carbide base layer of second conductivity type on the silicon carbide collector layer, and an epitaxial silicon carbide emitter mesa of the first conductivity type on the epitaxial silicon carbide base layer. - 特許庁
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