リーマスの英語

このバイナリーマスク１２を用い、基板上に形成したフォトレジスト層を露光、現像する。例文帳に追加

The photoresist layer, formed on a substrate, is exposed and developed using the binary mask 12. - 特許庁

マスク１は、バイナリーマスクまたは位相シフトマスクの何れを用いてもよい。例文帳に追加

The mask 1 may use any of a binary mask and a phase shift mask. - 特許庁

電気式フォークリフトに適用される荷重表示装置に於て、フルフリーマストを装備したものであっても、容易に荷重を表示できる様にする。例文帳に追加

To easily display a load, in a device with a full free mast, in a load display device applied to an electric forklift. - 特許庁

バイナリーマスク１２のメインの孤立穴形状１１の隣に、より狭幅のダミー穴形状である付加穴形状２１を追加配置する。例文帳に追加

Additional hole shapes 21 as narrower dummy hole shapes are disposed additionally, next to a main isolated hole shape 11 of a binary mask 12. - 特許庁

光と電子線のミックス・アンド・マッチ方式の露光において、電子線転写露光をコンプリメンタリーマスクを使わないで１回の転写で済ませる方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method which disposes of electron beam transfer exposure with one transfer without using a complementary mask, in exposure of a mix and match system of light and electron beam. - 特許庁

ダミーパターンＰＤ１，ＰＤ２の振り分けを調整することにより、デバイス本体パターンＰＭの分割を最小限に保持し、複数のコンプリメンタリーマスクにおけるパターンの密度をほぼ等しくする。例文帳に追加

By controlling the distribution of the dummy pattern PD1 and PD2, the division in the device pattern PM kept as minimum to make the pattern density in a plurality of complementary masks almost equal to one another. - 特許庁

フルフリーマスト付きフォークリフトのフリーリフトシリンダ１０において、シリンダロッド１１の外周には、連通孔１１ｂからシリンダロッド１１の軸方向へ延びる溝部３０が形成されている。例文帳に追加

In this free lift cylinder 10 for a forklift truck with a full free mast, the periphery of the cylinder rod 11 is formed with a groove part 30 extending from a communication hole 11b to an axial direction of the cylinder rod 11. - 特許庁

コンプリメンタリーマスクで構成されるＥＢ（電子線）転写マスクデータの作成において、ＥＢ転写の際における空間電荷効果やレジストヒーティング等に起因する描画精度劣化を抑制し、かつ容易に製造可能なＥＢ転写マスクを提供する。例文帳に追加

To provide an easy-to-manufacture EB(electron beam) transfer mask which suppresses spatial charge effect in EB transfer and deterioration in drawing precision due to resist heating, etc., for the generation of EB transfer mask data composed of complementary masks. - 特許庁