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レジストはがれの英語
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「レジストはがれ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 150件
本発明の目的は、バネに押圧されたレジスト部材が、レジスト時に比べて、レジスト後に必要以上にシートを押圧してしまうことにより発生する現象を軽減することである。例文帳に追加
To reduce a phenomenon occurring when a resist member pressed by a spring presses a sheet more than necessary after resist as compared with a time of the resist. - 特許庁
フォトリソグラフィーを用いた半導体装置の製造において、金属膜とレジスト膜との密着性を一層向上し、レジストの剥がれを防止する。例文帳に追加
To improve adhesion between a metallic film and a resist film and prevent resist from peeling in manufacturing of a semiconductor device using photolithograpy. - 特許庁
この犠牲層４がレジストからなる場合、絶縁膜５の成膜はレジストの剥離性を阻害しない程度に低い温度で行う。例文帳に追加
When the film 4 is made of a resist, the film 5 is formed at such a low temperature as not to damage the peel-off property of the resist. - 特許庁
ウエハ上にネガレジスト膜を形成後、ウエハ外周部のレジスト上にレジストの感光あるいは感光反応を阻害する物質を被着する。例文帳に追加
After a negative resist film is formed on a wafer, the resist in the peripheral part of the wafer is coated with a substance which inhibits photosensitivity of the resist or its photosensitive reaction. - 特許庁
レジストの下層に設けることにより、レジストはがれがなくパターンの再現性を向上させ、アルカリおよびレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有するレジスト下層膜を得るための、保存安定性に優れたレジスト下層膜用組成物を提供することを目的としている。例文帳に追加
To provide a composition for a resist lower layer film excellent in storage stability for obtaining a resist lower layer film which suppresses resist peeling, improves reproducibility of a pattern, and has alkali resistance and resistance to oxygen ashing in resist removal, by disposal under a resist. - 特許庁
通常は、供給バルブ２２が開放され、供給ラインＬ１、Ｌ２をレジストが流れる。例文帳に追加
Normally, the valve 22 is opened, and a resist liquid flows in the lines L1 and L2. - 特許庁
また、第２のレジスト剥離液によって溶解すべきレジスト量を大幅に低減することができるので、第２のレジスト剥離液のレジスト溶解能力が劣化しにくいようにすることができ、第２のレジスト剥離液の寿命を延ばすことができ、コストを低減することができる。例文帳に追加
The amount of the resist dissolved in the second resist separating liquid can be markedly reduced, so that the second resist separating liquid can be prevented from deteriorating in resist dissolving capacity, the second resist separating liquid can be elongated in service life, and the semiconductor device can be reduced in cost. - 特許庁
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「レジストはがれ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 150件
このため、エッジ部６Ｂの剥がれを抑制でき、レジスト層６の絶縁信頼性を確保することができる。例文帳に追加
Consequently, peeling of the edge 6B can be suppressed and the insulation reliability of the resist layer 6 can be secured. - 特許庁
ここで、エッチングガスと、レジスト膜４との反応により生じる反応生成物がレジスト膜４の表面に堆積する前に、半導体ウエハ１を加熱し、レジスト膜４中に存在するガス８を膜外へ放出させる。例文帳に追加
In this method, the semiconductor wafer 1 is heated for releasing the gas 8 out of the resist film 4 before the reaction products between the etching gas and the resist film 4 are deposited on the surface of the resist film 4. - 特許庁
リソグラフィー工程に於ける露光前加熱処理後のレジスト膜に於いて、レジスト膜の膜厚が、３５０ｎｍ以下であり、且つレジスト膜中に残留する溶剤量が、レジスト膜に対して２．００〜１０．０体積％の範囲にあるレジスト膜及びその形成方法。例文帳に追加
The resist film after pre-exposure heat treatment in lithographic processes has ≤350 nm film thickness and 2.00 to 10.0 vol.% solvent content remaining in the resist film with respect to the resist film, and manufacturing method of the resist film. - 特許庁
照明条件は、レクチルの開口数、レジストの開口数、光がレジストに達するまでに通る照明光学系のコヒーレンシーまたはそれらの組み合わせからなる。例文帳に追加
The illumination condition includes a numerical aperture of a reticle, that of the resist, coherency of an illumination optical system through which the light passes until reaching the resist, or a combination of them. - 特許庁
この硬化層破壊工程の後に、レジストパターン４２および保護レジスト膜４５が、レジスト剥離液によって基板Ｗ表面から除去される。例文帳に追加
After the solidified layer breaking process, the resist pattern 42 and the protective resist film 45 are removed from the surface of the substrate W using a resist separation agent. - 特許庁
スリットノズル４１がレジスト液を吐出する場合には、駆動部８２０によりレジストポンプ８１を駆動してレジスト液を第１配管８５に吐出するとともに、駆動部８４０によりレジストポンプ８４０を駆動してレジスト液を第２配管８６に吐出する。例文帳に追加
When the slit nozzle 41 discharges the resist liquid, the resist liquid is discharged to the first pipeline 85 by driving the resist pump 81 by means of the driving section 820 and, at the same time, to the second pipeline 86 by driving the resist pump 83 by means of the driving section 840. - 特許庁
リードフレームとフォトマスクの接触時に生じるレジスト剥がれを防止し、めっき付着不良を無くすようにする。例文帳に追加
To prevent resist peel-off that is generated when a lead frame is brought into contact with a photomask, and to eliminate plating adhesion failures. - 特許庁
気泡検出部５にて配管チューブ内を流れるレジスト液に含まれる気泡が検出されると、気泡粉砕部６は、超音波振動をレジスト液Ｒに印加し、レジスト液Ｒに含まれる気泡を粉砕してから、レジスト液Ｒをノズル７に送る。例文帳に追加
When a bubble detecting section 5 detects bubbles contained in a resist liquid R flowing through a pipeline tube, a bubble-smashing section 6 sends the resist liquid R to a nozzle 7 after pulverizing the bubbles contained in the liquid R by impressing ultrasonic vibrations to the liquid R. - 特許庁
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