レーザ励起プラズマの英語

ガスレーザー発振器の放電励起部におけるプラズマ状態を適確に監視することにより、アーク放電などの不均一なプラズマ状態を正確に検知して、ガスレーザー発振器や周辺機器を保護したり、それらを早期回復させるための情報を得ることができるガスレーザー発振器のプラズマ監視装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma monitor for a gas laser oscillator that can acquire information for protecting the gas laser oscillator and peripheral equipment and recovering them early by accurately monitoring the plasma state in a discharge exciting part of the gas laser oscillator to correctly detect an uneven plasma state such as arc discharge. - 特許庁

真空容器１内で発生させた放電プラズマＰによって前記真空容器１内の物質蒸気を励起してレーザを発生させる蒸気レーザ装置である。例文帳に追加

In this vapor laser apparatus, the material vapor in a vacuum container 1 is excited by the electric discharge plasma P produced in the vacuum container 1 to produce lasers. - 特許庁

レーザ光の照射により試料上に生成したプラズマからの励起光を分光して分析するレーザ発光分光分析装置において、分光器をエシェル分光器および、検出器をＣＣＤ検出器とする。例文帳に追加

In this laser emission spectroscopic analyzer for spectroscopically analyzing the excited light from plasma produced on a sample by the irradiation of laser beam, a spectrograph is an echelle spectrograph, and the detector is a CCD detector. - 特許庁

有機高分子膜６に対してエキシマレーザ励起装置１を用いてレーザ光を局所的に照射することにより有機高分子膜６の一部を除去した後、窒素原子を含むガスによるプラズマ処理を行う。例文帳に追加

A portion of an organic polymer film 6 is removed by locally irradiating the organic polymer film 6 with a laser beam by the use of an eximer laser excitation device 1, and then, a plasma treatment with a gas containing a nitrogen atom is carried out. - 特許庁

本発明による元素分析装置は、パルスレーザ光４を分析対象試料１の表面に照射してこの試料１を気化・励起させるプラズマ生成手段２と、生成したプラズマ７中の定量対象元素から放出する蛍光８を集光する蛍光集光レンズ９とを備えている。例文帳に追加

This element analyzer includes: a plasma generation means 2 for irradiating pulse laser light 4 onto the surface of an analysis object sample 1, and vaporizing and exciting the sample 1; and a fluorescence condensing lens 9 for condensing fluorescence 8 emitted from a determination object element in the generated plasma 7. - 特許庁

レーザー装置は、集光点における複数のレーザー光の干渉を調整する干渉調整装置２６を有し、集光点２においてレーザー光によりターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。例文帳に追加

The laser device includes an interference adjusting device 26 for adjusting interference of a plurality of laser beams at the condensing point, and generates plasma by exciting the target material by the laser beam at the condensing point 2 to emit extreme ultraviolet light 4 from there. - 特許庁

プラズマからの飛散微粒子の付着を阻止することができ、ターゲットを容易に交換できて、安定したＸ線出力を得ることができるレーザ励起型Ｘ線源を提供する。例文帳に追加

To obtain a laser excitated X-ray source which can inhibit the adhesion of fine particles scattering from plasma, where it is easy to replace targets and which can obtain stable X-ray output. - 特許庁

プラズマ放電中に、ある励起波長のレーザを処理基板表面に照射し、処理基板表面の不純物濃度及び結晶状態を、散乱光によって測定する。例文帳に追加

During plasma discharging, the surface of a treatment substrate is irradiated with lasers having a certain excitation wavelength, and the concentration of an impurity on the surface of the treatment substrate and the crystallized state are measured by scattered light. - 特許庁