「レーザ励起プラズマ」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置において、プラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を速やかにチャンバ外に排出する。例文帳に追加

To provide an extreme ultraviolet light source apparatus of a laser exciting plasma type for quickly discharging charged particles such as ions released from plasma to the outside of a chamber. - 特許庁

ガスレーザー発振器の電極２，３の間の放電励起部からの光をフォトセンサ１１によって検知し、そのフォトセンサ１１の検知情報に基づいて、信号処理部１２が放電励起部のプラズマ状態を判定する。例文帳に追加

Light from a discharge exciting part between electrodes 2, 3 of the gas laser oscillator is detected by a photosensor 11, and a signal processing part 12 determine the plasma state of the discharge exciting part on the basis of the detection information of the photosensor 11. - 特許庁

ガスレーザー発振器の放電励起部におけるプラズマ状態を適確に監視することにより、アーク放電などの不均一なプラズマ状態を正確に検知して、ガスレーザー発振器や周辺機器を保護したり、それらを早期回復させるための情報を得ることができるガスレーザー発振器のプラズマ監視装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma monitor for a gas laser oscillator that can acquire information for protecting the gas laser oscillator and peripheral equipment and recovering them early by accurately monitoring the plasma state in a discharge exciting part of the gas laser oscillator to correctly detect an uneven plasma state such as arc discharge. - 特許庁

真空容器１内で発生させた放電プラズマＰによって前記真空容器１内の物質蒸気を励起してレーザを発生させる蒸気レーザ装置である。例文帳に追加

In this vapor laser apparatus, the material vapor in a vacuum container 1 is excited by the electric discharge plasma P produced in the vacuum container 1 to produce lasers. - 特許庁

レーザ光の照射により試料上に生成したプラズマからの励起光を分光して分析するレーザ発光分光分析装置において、分光器をエシェル分光器および、検出器をＣＣＤ検出器とする。例文帳に追加

In this laser emission spectroscopic analyzer for spectroscopically analyzing the excited light from plasma produced on a sample by the irradiation of laser beam, a spectrograph is an echelle spectrograph, and the detector is a CCD detector. - 特許庁

有機高分子膜６に対してエキシマレーザ励起装置１を用いてレーザ光を局所的に照射することにより有機高分子膜６の一部を除去した後、窒素原子を含むガスによるプラズマ処理を行う。例文帳に追加

A portion of an organic polymer film 6 is removed by locally irradiating the organic polymer film 6 with a laser beam by the use of an eximer laser excitation device 1, and then, a plasma treatment with a gas containing a nitrogen atom is carried out. - 特許庁

本発明による元素分析装置は、パルスレーザ光４を分析対象試料１の表面に照射してこの試料１を気化・励起させるプラズマ生成手段２と、生成したプラズマ７中の定量対象元素から放出する蛍光８を集光する蛍光集光レンズ９とを備えている。例文帳に追加

This element analyzer includes: a plasma generation means 2 for irradiating pulse laser light 4 onto the surface of an analysis object sample 1, and vaporizing and exciting the sample 1; and a fluorescence condensing lens 9 for condensing fluorescence 8 emitted from a determination object element in the generated plasma 7. - 特許庁

レーザー装置は、集光点における複数のレーザー光の干渉を調整する干渉調整装置２６を有し、集光点２においてレーザー光によりターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。例文帳に追加

The laser device includes an interference adjusting device 26 for adjusting interference of a plurality of laser beams at the condensing point, and generates plasma by exciting the target material by the laser beam at the condensing point 2 to emit extreme ultraviolet light 4 from there. - 特許庁

プラズマからの飛散微粒子の付着を阻止することができ、ターゲットを容易に交換できて、安定したＸ線出力を得ることができるレーザ励起型Ｘ線源を提供する。例文帳に追加

To obtain a laser excitated X-ray source which can inhibit the adhesion of fine particles scattering from plasma, where it is easy to replace targets and which can obtain stable X-ray output. - 特許庁

プラズマ放電中に、ある励起波長のレーザを処理基板表面に照射し、処理基板表面の不純物濃度及び結晶状態を、散乱光によって測定する。例文帳に追加

During plasma discharging, the surface of a treatment substrate is irradiated with lasers having a certain excitation wavelength, and the concentration of an impurity on the surface of the treatment substrate and the crystallized state are measured by scattered light. - 特許庁

原料は、原料保持容器２０が回転することによってレーザ照射位置まで運ばれ、レーザ照射によって気化され、放電電極２ａ，２ｂ間の放電領域に移動し、放電により加熱励起されて高温プラズマとなり、ＥＵＶ光を発生する。例文帳に追加

The raw material is conveyed to a laser irradiation position by the raw material retaining container 20 being rotated, is gasified by laser irradiation, moves to the discharge region between the discharge electrodes 2a, 2b, is heated and excited by discharge to become the high temperature plasma, and emits the EUV light. - 特許庁

この原料に対して、レーザ装置（エネルギービーム照射手段）２からレーザビーム２ａを照射し、原料を気化させ、上記コンデンサＣ１に充電された電圧により放電を発生させ、気化された上記原料を加熱励起し高湿プラズマを発生させる。例文帳に追加

On the raw material, laser beams 2a are irradiated from a laser device (energy beam irradiation means) 2 to have the raw material vaporized to generate discharge by voltage charged on the capacitor C1, and to have the vaporized material heated and excited and generate a high-temperature plasma. - 特許庁

ヒータツール１０の有機汚染物付着面１２に炭酸ガスレーザー２０を照射して有機汚染物を加熱し炭化する第一段階の処理工程と、ii）大気圧プラズマ装置３０がプロセスガスを励起して射出するプラズマを、有機汚染物の付着面１２に導き、炭化した有機汚染物を除去する第二段階の処理工程、とを有する。例文帳に追加

The method includes: a treatment step at the first stage of heating and carbonizing organic contaminations by irradiating an organic contamination adhesion face 12 of a heater tool 10 with carbon dioxide gas laser 20; and a treatment step at the second stage of introducing plasma, which an atmospheric pressure plasma apparatus 30 excites processing gas to inject, onto the adhesion face 12 of the organic contaminations to remove carbonized organic contaminations. - 特許庁

ＥＵＶ光源装置において、チャンバ内のターゲットをレーザビームで励起することによって生成されるプラズマからＥＵＶ光と共に放出されるデブリが、チャンバ内に設けられた光学素子に付着し金属膜が形成されることを防止して、光学素子の耐用期間を延ばす。例文帳に追加

To elongate the useful life of an optical element by preventing debris, discharged from plasma produced by exciting a target in a chamber by laser beam together with EUV (extreme ultra violet) light, from adhering to an optical element provided in the chamber and forming a metal film, in an EUV light source device. - 特許庁

パターンのうちで除去すべき部分に窒素と水素とを含有させる工程と、パターンを励起された酸素を含む雰囲気に晒すことにより、除去すべき部分をエッチングする工程と、を備え、前記水素は、イオン注入またはレーザドーピングによって除去すべき部分に導入され、雰囲気は、励起された酸素を含有したプラズマを含むことを特徴とする。例文帳に追加

A method of repairing a pattern comprises a step of making a portion of the pattern to be removed contain nitrogen and hydrogen, and a step of etching the portion to be removed by exposing the pattern to an atmosphere containing excited oxygen, wherein the hydrogen is introduced into the portion to be removed by ion implantation or laser doping, and the atmosphere contains plasma containing the excited oxygen. - 特許庁