加正膜法の英語

損傷した膜を有する浸漬型中空糸膜モジュールの損傷膜を特定する方法において、正常な中空糸膜を傷つけるリスクを低減させ、また精巧な加圧容器無しで行える特定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for specifying a damaged membrane in an immersion type hollow fiber membrane module having a damaged membrane capable of reducing a risk to damage a normal hollow fiber membrane, and performing without an elaborate pressurized container. - 特許庁

膜厚測定用ウエハの再生使用に際して、無用な費用の増加を招くことなく、酸化膜の形成工程により形成される膜厚を正確に把握できる膜厚測定用ウエハの再生処理方法を得る。例文帳に追加

To obtain an accurate film thickness formed through an oxide film forming process when a wafer for measuring film thickness is reproduced and used without incurring unnecessary cost increase. - 特許庁

バイアスパワーを印加して成膜した窒化珪素膜から離脱する水素を適正に制御する半導体素子の窒化珪素膜、窒化珪素膜の製造方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a silicon nitride film of a semiconductor element in which hydrogen desorbed from a silicon nitride film deposited by applying a bias power is controlled properly, and to provide a method and an apparatus for producing the silicon nitride film. - 特許庁

多層膜を除去加工して波面収差を補正する補正精度をより向上さた多層膜反射鏡、その製造方法、軟Ｘ線光学系及び露光装置を提供する。例文帳に追加

To enhance correction precision for correcting wave front aberration by removing-working a multi-layer film. - 特許庁

上記問題を解決する方法として、正極上や負極上に被膜を生成させるための添加剤を含んだ電解液が多く提案されてきた。例文帳に追加

For solving these problems, many kinds of electrolytic solutions containing additives for generating coating films on a positive electrode and on a negative electrode have been proposed. - 特許庁

記録されたディスクの反射膜に対して追加記録する方法をエラー訂正符号化領域に対しても行えるようにする。例文帳に追加

To apply a method for additionally recording to a reflection film of a recorded disk even to an error correction encoding region. - 特許庁

パターニングラインの正確な位置合わせ及びレーザ加工が行える薄膜太陽電池の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a thin film solar cell in which accurate positioning and laser processing of a patterning line can be performed. - 特許庁

本発明では、基板表面の加工によって薄膜化された基板の厚さを正確に測定することが可能で、膜厚のばらつきが少ない高品質の薄膜基板の製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of a thin film substrate of high quality with less variation in film thickness, which is capable of accurately measuring the thickness of the substrate made into a thin film by treatment of a substrate surface. - 特許庁