半乾式の英語

ウェーハ上でのプラズマの形成を均一にし、また工程チャンバーが占める体積を減らす乾式エッチング装置用排気エレクトロード及び半導体装置製造用乾式エッチング装置の工程チャンバーを提供する。例文帳に追加

To provide a dry etching device exhaust electrode which makes uniform formation of plasma on a wafer and reduces a volume occupied by a process chamber, and the process chamber of a semiconductor device manufacturing dry etching device. - 特許庁

無機質板は乾式法あるいは半乾式法や抄造法によって製造され、更に骨材や補強繊維が添加されているから、焼成による無機質板の膨張収縮が抑制される。例文帳に追加

The expansion/shrinkage of the inorganic board caused by firing can be suppressed because the inorganic board is produced by a dry method, a semi-dry method or a wet sheet forming method, and further, the aggregate and the reinforcing fiber are incorporated. - 特許庁

本発明は、乾式プレス成型法や半乾式プレス成型法によって、諸物性が良好で、かつ大きなサイズの焼成体を得ることのできる製造方法を提供するものである。例文帳に追加

To provide a manufacturing method capable of obtaining a large size baking object having excellent various physical properties by a dry type press shaping method or the semi dry press shaping method. - 特許庁

ロックウール及びセメント固化物を主とする半乾式又は乾式吹付けロックウール廃材を、ロックウールに対してセン断作用を有する粉砕機により微粉砕し、得られた微細ロックウールを含有する微粉砕物を半乾式吹付けロックウール施工に使用するセメントスラリー中に配合する。例文帳に追加

A semi-dry or dry sprayed rock wool waste material containing, as main components, the rock wool and a cement solidified material is pulverized by using a pulverizer capable of imparting a shear stress against the rock wool, and the obtained finely pulverized substance containing fine rock wool is blended with a cement slurry to be used in the execution of the semi-dry sprayed rock wool. - 特許庁

この時、スペクトル分析は、工程チェンバー内に半導体基板を投入する段階と、前記半導体基板をプラズマで乾式エッチングする段階と、乾式エッチングの間にビューポイントから投射された光を検出する段階と、前記光をスペクトル化することは勿論、スペクトルを乾式エッチング時間帯ごとに抽出して、一つ以上の特定波の強さを得る段階で構成される。例文帳に追加

At this time, the spectral analysis involves introduction of a semiconductor substrate into the process chamber, dry etching of the semiconductor substrate with a plasma, detection of the beam emitted from a viewpoint during dry etching, and turning of the beam into a spectrum, as well as sampling the spectrum per dry etching time zone, and aquisition of more than one specific wave strength. - 特許庁

０．１８ミクロン未満のパターンサイズを有する、半導体集積回路の形成に有効な乾式オートリソグラフィ技術を提供する。例文帳に追加

To provide a dry autolithography technique effective to form a semiconductor integrated circuit having a pattern size of <0.18 μm. - 特許庁

少なくとも表面部分を構成する半乾式組成物中に、着色顔料と木質材料としての漂白パルプとを混入する。例文帳に追加

Coloring pigment and bleached pulp as a wooden material are mixed in a half-dry composition constituting at least the surface portion. - 特許庁

また、上記微粉砕物よりなる半乾式吹付けロックウール用混合材あるいはセメント用混合材。例文帳に追加

Further, a mixed material for the semi-dry sprayed rock wool or an admixing material for cement comprising the finely pulverized substance mentioned above is also provided. - 特許庁