拡散活性化の英語

活性層上に形成された窒化物半導体層に含まれる不純物が、活性層に拡散することを防止する。例文帳に追加

To prevent impurities contained in a nitride semiconductor layer formed on an active layer from spreading into the active layer. - 特許庁

また、活性化学種は優れた拡散性で存在し、しかも溶剤が少量であっても多量の活性化学種が含まれる。例文帳に追加

Further, the active chemical species exists in an excellent diffusive way, and even if the solvent is of a small amount, a large amount of active chemical species is included. - 特許庁

これにより、ソース／ドレイン拡散層１６の活性化拡散がなされると共に、先のイオン注入工程におけるゲート酸化膜１４のダメージが緩和される。例文帳に追加

Thus, a source/drain diffusion layer 16 is diffused so as to activate, and also damages to the gate oxide film 14 are relaxed in a preceding ions implantation process. - 特許庁

次に、熱処理をすることでｐ型不純物を内部に拡散させ、ｐウェルを活性化する。例文帳に追加

Next, the p-type impurity is diffused inside by effecting heat treatment to activate the p-well. - 特許庁

その後、活性化熱処理により、ｐ型の深部膨張形拡散領域１５ａ，１５ｂを形成する。例文帳に追加

Then p-type deep expansion diffusion areas 15a and 15b are formed by activating heat-treatment. - 特許庁

その後、前記各ソース・ドレイン領域（拡散層）１Ａ，１Ｂを活性化するための加熱処理を施す。例文帳に追加

Afterward, the board is subjected to heat treatment to activate each source area and drain area (diffusion area) 1A, 1B. - 特許庁

不純物拡散長を増大させることなく、活性化率をさらに向上させる方法の提供。例文帳に追加

To provide a method which further enhances an activation rate without increasing an impurity diffusion length. - 特許庁

活性化熱処理を行い、ヒ素イオンを拡散してなるソース拡散層１５及びドレイン拡散層１６を形成すると共に、リンイオンを拡散してなる第１の層１７ａとヒ素イオンを拡散してなる第２の層１７ｂとの２層構造からなるオフセットドレイン拡散層１７を、ゲート電極１３とドレイン拡散層１６との間に形成する。例文帳に追加

With an activated heat-treatment, a source diffused layer 15 and a drain diffused layer 16 comprising diffused arsenic ion are formed, and an offset drain layer 17, comprising a two-layer structure of a first layer 17a comprising a diffused phosphorus ion and a second layer 17b which consists of diffused arsenic ions, is formed between the gate electrode 13 and the drain-diffused layer 16. - 特許庁