意味 | 例文 (7件) |
接触回転板処理装置の英語
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英訳・英語 rotating biological contactor
「接触回転板処理装置」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 7件
基板処理装置では、ノズル34から吐出された処理液が基板9に接触する位置における処理液の接触方向の水平成分が、接触位置における基板9の回転の接線方向を向く、または、当該接線方向から径方向外側に傾斜する。例文帳に追加
In the substrate processing device, a horizontal component in a contact direction of the processing liquid at a position, where the processing liquid emitted from the nozzle 34 comes into contact with the substrate 9, is directed to a tangential direction of rotation of the substrate 9 at a contact position, or is inclined outward in a radial direction from the tangential direction. - 特許庁
非接触式シールを用いた構成において、非回転環と回転環との非接触状態を確実に維持することができる基板処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide a substrate treating apparatus capable of surely keeping non-contact state between a non-rotary ring and a rotary ring in a configuration using a non-contact type seal. - 特許庁
この基板載置台を、チャンバー2内にあるモータを内蔵した回転駆動装置10の回転力で、毎分1〜2回転させ、被処理シリコン基板1に均一にエッチングガスが接触するようにする。例文帳に追加
The rotation of the silicon board prevents a formation of a part where the concentration of the etching gas/deposition gas is high on the silicon board, thus enables the formation of the via-holes having the uniform depth on the silicon board. - 特許庁
簡単な構成で、基板の主面に接触することなく基板を保持することができる基板保持回転機構およびそのような基板保持回転機構を備えた基板処理装置を提供すること。例文帳に追加
To provide a substrate-holding/rotating mechanism, and a substrate treatment device provided with the substrate-holding/rotating mechanism, capable of holding a substrate without contacting the main surface of the substrate, using a simple structure. - 特許庁
長時間にわたって処理を行なう場合に、基板および基板に接触する回転ローラーや合紙等に異物が再付着することを防止し、基板および処理面に疵や欠陥を発生させることなく、生産性の高い基板処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide a substrate treatment apparatus which prevents foreign matters from re-depositing on a substrate, a roller, a slip sheet or the like in contact with the substrate when performing treatment for a long time, and is high in productivity without causing flaws or defects on the substrate and a treatment surface. - 特許庁
回転する基板支持体に、非接触で温度を検出する温度検出手段において、校正に必要な作業時間を短縮することのできる基板処理装置を提供する。例文帳に追加
To provide substrate treatment equipment which can reduce working time necessary for calibration in a temperature detecting means which detects the temperature in noncontact with a rotating substrate retainer. - 特許庁
基板を汚染することなく非接触で保持する基板保持装置では、基板の自重によるたわみが発生したり、使用条件の中で回転動作の風圧による基板のたわみが発生するために、各種処理の障害になっている。例文帳に追加
To improve a problem wherein a substrate holding apparatuses that hold substrates in noncontact manner, without contaminating the substrates cause troubles by various processes due to the fact that the substrates are warped with the weight thereof and are warped due to wind pressure generated by rotational movement, under working conditions. - 特許庁
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