浄順の英語

各洗浄ノズル３，４，７，５には、貯留部に貯留された洗浄水が順次供給される。例文帳に追加

The washing water stored in the storage part is supplied to each of the washing nozzles 3, 4, 7, and 5, sequentially. - 特許庁

各洗浄ノズル３，４，７，５には、貯留部に貯留された洗浄水が順次供給される。例文帳に追加

The washing water stored in the storing part is supplied to the respective nozzles 3, 4, 7, 5 one after the other. - 特許庁

未洗浄のウエハが１枚ずつ順次取り出され、両面ブラシ洗浄部５０に搬入される。例文帳に追加

Uncleaned wafers are removed sequentially one by one and carried into the both-side brush cleaning part 50. - 特許庁

ＳＰＭ洗浄，リンス洗浄，ＳＣ１洗浄，リンス洗浄，乾燥処理の順番でウェハＷに対して洗浄工程を施す洗浄装置１において，外洗浄室２と，内洗浄室４と，外洗浄室２内に内洗浄室４を出し入れする昇降機構６とを備えている。例文帳に追加

The cleaning device 1 for applying cleaning processes to the wafer W in the order of SPM cleaning, rinse cleaning, SCI cleaning, rinse cleaning and drying treatment is provided with an outside cleaning chamber 2, an inside cleaning chamber 4 and an elevator structure 6 for taking in and out the inside cleaning chamber 4 into and from the outside cleaning chamber 2. - 特許庁

正規の洗浄手順の前に器具を適正に浸漬することによって、洗浄手順の信頼性が改善される。例文帳に追加

Proper soaking of the instruments prior to a full cleaning procedure improves the reliability of the cleaning procedure. - 特許庁

洗浄液は順方向のみならず逆方向にも流れるようにしている。例文帳に追加

The cleaning liquid flows not only in the forward direction but also reversely. - 特許庁

基板の洗浄処理および乾燥処理を以下の手順で行う。例文帳に追加

A process of cleaning and drying a substrate is carried out as follows. - 特許庁

該処理チャンバは、該基板の順次移送の間に洗浄される。例文帳に追加

The processing chamber is cleaned between sequential transfers of the substrates. - 特許庁