研磨摩耗の英語

化学的機械研磨の研磨布のドレッシングの際、研磨布が面内で均一な摩耗量分布を示すドレッシング方法を提供する。例文帳に追加

To provide a dressing method to indicate uniform wear amount distribution in a surface during dressing of the polishing cloth of a chemical mechanical polishing. - 特許庁

ケミカルマシンポリッシャの研磨盤用研磨ドレッサにおいて、研磨盤との接触部において面接触となるようにして使用時の摩耗を軽減し長寿命化を図ると共に、該研磨盤の研磨効率を向上する。例文帳に追加

To reduce wear in use to prolong life in a polishing dresser for a polishing machine of a chemical machine polisher by making a contact with the polishing machine a face-contact, and improve the polishing efficiency of the polishing machine. - 特許庁

ポリウレタン組成物よりなり、テーバー摩耗試験による摩耗量が１５０ｍｇ〜３５０ｍｇである研磨布。例文帳に追加

This abrasive cloth consists of polyurethane composition with an abrasion loss of 150 to 350 mg by a taper abrasion test. - 特許庁

成形性及び耐摩耗性に優れた研磨パッド用組成物及びこれを用いた研磨パッドを提供する。例文帳に追加

To provide a composition for a polishing pad superior in moldability and abrasion resistance, and the polishing pad using this composition. - 特許庁

最小限の摩耗性コンディショニングで再生することができ、ひいてはパッド耐用寿命を延ばす研磨面を有する研磨パッドを提供する。例文帳に追加

To provide a polishing pad having a polishing surface renewable with the minimum abrasive conditioning, and in its turn extending the useful pad life. - 特許庁

絡合不織布と高分子弾性体とを含む耐摩耗性及び研磨レートを向上させた研磨パッドを提供する。例文帳に追加

To provide a polishing pad which includes an entangled nonwoven fabric and a polymeric elastomer, and in which wear resistance and a polishing rate are enhanced. - 特許庁

演算部４７は、１回または複数回の研磨工程当たりの摩耗量に基づいて研磨工程が正常に行われているか否かを判断する。例文帳に追加

The operation part 47 determines whether or not the polishing process is normally performed based upon the abrasion loss per one or two or a plurality of polishing processes. - 特許庁

１台で２面の研磨を同時に行え、砥面の摩耗に迅速に対処できる面取り研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a chamfering and polishing device simultaneously polishing two faces by a single device and quickly responding to the abrasion of the grinding surface. - 特許庁