自在研磨の英語

ドレッシング板２２が回動自在に研磨パッド２０に接触させられて研磨パッドのドレッシングがなされる。例文帳に追加

The dressing plate 22 is brought in touch with the polishing pad 20 freely to turn for dressing. - 特許庁

第１の研磨ステージ１８において、キャリア５２の着脱自在な膜枠１４にガラス基板Ｇを貼着してガラス基板Ｇを研磨する。例文帳に追加

In a first polishing stage 18, the glass substrate G is polished by adhering the glass substrate G to an attachable/detachable film frame 14 of a carrier 52. - 特許庁

研磨布部１５には、研磨布が収納された使用前収納箱３０が着脱自在に装着される装着部２６が設けられる。例文帳に追加

The polishing cloth part 15 is provided with a mount part 26 on which an unused cloth storage box 30 storing polishing clothes is detachable mounted. - 特許庁

レール１１の腹部１１ａを研磨するレール研磨機１０であって、充電式の研磨機本体１５と、研磨機本体を支持するとともに、レールに取付可能に構成された台座１３と、研磨機本体に着脱自在に取り付けられる砥石１７と、を備えている。例文帳に追加

The rail grinder 10 for grinding a web 11a of a rail 11 includes a charging type grinder body 15, a pedestal 13 supporting the grinder body 15 and configured to be detachable to the rail 11, and a grinding wheel 17 detachably mounted on the grinder body 15. - 特許庁

ベース部２の上面には、研磨ヘッド８を有するヘッドユニット７が回転自在に支持されている。例文帳に追加

A head unit 7 having the polishing head 8 is rotatably supported on an upper face of the base part 2. - 特許庁

研磨皿の外周部に着脱自在なゴムシールを設けて、ダイヤモンド砥粒の流出を防ぐ。例文帳に追加

To prevent diamond abrasive grains from flowing out by installing a removable rubber seal on the periphery of a polishing tray. - 特許庁

研磨パッド１４０は回転自在に設けられ、半導体ウェーハ２１０の表面が接触される。例文帳に追加

The pad 140 is provided rotatably, and the surface of a semiconductor wafer 210 makes contact with the pad 140. - 特許庁

板状の被加工物１に対して相対移動自在な面取り研磨装置１０である。例文帳に追加

This chamfering and polishing device 10 is relatively movable to a plate workpiece 1. - 特許庁