荷電数の英語

複数個の荷電デバイスを備える荷電システムにおけるグリッド電圧を自動的に且つ適切に設定可能にする。例文帳に追加

To automatically and appropriately set a grid voltage in a charging system equipped with a plurality of charging devices. - 特許庁

荷電装置６により荷電粒子となった微小粒子は分型電気移動度測定装置８に導入され、分級されて計数される。例文帳に追加

The minute particles are turned into charged particles by a charger 6 and introduced into a differential electrical mobility measuring instrument 8, and classified and counted. - 特許庁

この荷電粒子線描画装置１は、複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置である。例文帳に追加

A charged particle beam lithography apparatus 1 is a lithography apparatus for writing on a substrate with a plurality of charged particle beams. - 特許庁

設置面積が小さく、かつ複数の方向から荷電粒子を出射可能な荷電粒子照射システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a charged particle irradiation system whose area of installation is small and by which charged particles can be emitted from a plurality of directions. - 特許庁

ある層における荷電粒子の反射係数、透過係数および散乱長は、その層に入射する荷電粒子の前記エネルギー区分ごとで、かつその層を透過する荷電粒子またはその層で反射される荷電粒子の前記エネルギー区分ごとに与えられる。例文帳に追加

Reflectivity coefficients, permeation coefficients and scattering lengths of the charged particles in a certain layer are provided on the energy section basis of the charged particles entering the layer, and on the energy section basis of the charged particles permeating the layer or reflected on the layer. - 特許庁

複数の荷電ビーム用開口２０２ａが設けられた荷電ビーム通過領域２０２を有する複数枚の電極２０１ａ〜ｃが、ファイバーチップ２１２を介して荷電ビームの光軸方向に積層されて構成されたマルチ荷電ビームレンズが提供される。例文帳に追加

This multi-charged beam lens is constructed by layering a plurality of electrodes 201a-201c having a charged beam passage area 202 provided with a plurality of charged beam apertures 202a in the electron charged beam optical axis direction via fiber chips 212. - 特許庁

また、装置1007は、真空紫外光源600からの飛行距離が０以上の距離である荷電粒子の第１の荷電粒子数を検出する第１のコレクタと、上記距離よりも長い距離の荷電粒子の第２の荷電粒子数を検出する第２のコレクタとを備える。例文帳に追加

Further, the device 1007 includes: a first collector for detecting the number of first charged particles out of charged particles where a flying distance from the vacuum ultraviolet light source 600 is zero or more; and a second collector for detecting the number of second charged particles out of charged particles at a distance longer than the flying distance of the first charged particles. - 特許庁

荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画データ作成方法およびプログラム、荷電粒子ビームのショット数算出プログラム、荷電粒子ビーム描画装置の近接効果補正プログラム、荷電粒子ビーム描画装置のかぶり補正プログラム、並びに、荷電粒子ビームのショット分割プログラム例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE, METHOD AND PROGRAM FOR CREATING CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DATA, SHOT NUMBER CALCULATION PROGRAM OF CHARGED PARTICLE BEAM, PROXIMITY EFFECT CORRECTION PROGRAM OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE, FOGGING CORRECTION PROGRAM OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING DEVICE, AND SHOT DIVISION PROGRAM OF CHARGED PARTICLE BEAM - 特許庁