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英訳・英語 oxygen exposure


JST科学技術用語日英対訳辞書での「酸素暴露」の英訳

酸素暴露


「酸素暴露」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 33



例文

酸化は,酸素プラズマ4への暴露や酸化雰囲気への暴露によりなされる。例文帳に追加

The oxidation is performed by exposure to oxygen plasma 4 or exposure to an oxidizing atmosphere. - 特許庁

試料は大気酸素暴露されてから全−Hbを予測する。例文帳に追加

The total-Hb is predicted after the sample is exposed to the atmospheric oxygen. - 特許庁

また、潤滑剤の蒸着前に、基板を酸素雰囲気に暴露することによって、暴露なしと比べて結合潤滑層を薄くすることができる。例文帳に追加

Additionally, by exposing the substrate in an oxygen atmosphere before the deposition of the lubricants, the coupled lubricant layer is made thinner compared with the case of non-exposure. - 特許庁

加えて、銅スペーサ層16は、酸素暴露処理のなされた銅層31aを含む。例文帳に追加

Also, a copper spacer layer 16 comprises a copper laminate 31a which is given the oxygen exposure treatment. - 特許庁

α−アミラーゼを、酸素濃度が25%以上の雰囲気中に30秒以上暴露する。例文帳に追加

The method for activating α-amylase comprises exposing α-amylase to an atmosphere having an oxygen concentration of25% for ≥30 seconds. - 特許庁

好ましくは、農産物に応じて、濃度及び/または時間を調整して活性酸素暴露する。例文帳に追加

Preferably, the field crops are exposed to active oxygen by adjusting the concentration and/or the time according to the field crops. - 特許庁

例文

CPP−GMR再生ヘッドにおいて、フリー層17は、酸素暴露処理された銅層31bと、酸素暴露処理がなされていない銅層20とを含む。例文帳に追加

A free layer 17 comprises a copper layer 31b which is given an oxygen exposure treatment and a copper layer 20 which is not given the oxygen exposure treatment in the CPP-GMR reproducing head. - 特許庁

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「酸素暴露」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 33



例文

グラフェン酸化物(GO)標的物を、GO標的物の脱酸素反応を開始させるのに足る出力を有する光に暴露し、光熱分解する。例文帳に追加

A graphene oxide (GO) target is exposed to light having power sufficient to initiate a deoxygenation reaction of the GO target and is photothermally decomposed. - 特許庁

プラズマ3の供給で被処理物4の表面を活性化して酸素分子が吸着しやすい状態にした後、酸素を含むガス6に暴露して被処理物4の表面に酸素分子を吸着させることができる。例文帳に追加

After the surface of the workpiece 4 is activated with the supply of the plasma 3 so that oxygen molecules tend to easily adsorb on the surface of the workpiece, the surface is exposed to the gas 6 containing oxygen and oxygen molecules can be adsorbed on the surface of the workpiece 4. - 特許庁

レジスト層もしくはアモルファスカーボン層を表面に有する基板にHMDSガスを曝すHMDSガス暴露工程と、基板に酸素含有ガスを曝す酸素含有ガス暴露工程と、を行うことにより、少なくともレジスト層もしくはアモルファスカーボン層の上にシリコン酸化膜を形成する。例文帳に追加

A method of manufacturing a semiconductor device carries out: an HMDS gas exposure step for exposing a substrate having a resist layer or an amorphous carbon layer on its surface to an HMDS gas; and an oxygen-containing gas exposure step for exposing the substrate to an oxygen-containing gas, thereby forming a silicon oxide film at least on the resist layer or the amorphous carbon layer. - 特許庁

ポリシリコンまたはアモルファスシリコン被膜を形成し;ハライド含有種を含む気相に該被膜を、その上の酸化物を全て除去するのに充分な時間暴露し;そして該被膜を酸素または酸素含有ガスに暴露することなく、該被膜を高温でアニーリングして、該ポリシリコンまたはアモルファスシリコンを半球形グレーンシリコンに変換する工程を含む半球形グレーンシリコンの形成方法。例文帳に追加

A method, through which hemispherical grain silicons are formed, comprises these processes in which a film of polyslicon or amorphous silicon is formed, exposed to a vapor which contains halide-containing seeds for a time long enough to remove all oxides on it, and is then annealed at high temperature without exposing it to oxygen or an oxygen-containing gas, to be transformed into hemispherical grain silicons. - 特許庁

農産物を代謝可能な環境で活性酸素、例えばオゾンの分解により生成されるものに暴露させてその中に含まれる抗酸化性の機能性成分としてのポリフェノール類化合物を増収させる。例文帳に追加

The yield of polyphenol compounds as antioxidative functional ingredients contained in field crops is increased by exposing the field crops to active oxygen, for example products of ozone degradation, in an environment in which the field crops can be metabolized. - 特許庁

酸素富化された空気に暴露される低合金鋼製部材の酸化を抑制し、これに伴う強度低下を抑制した高炉送風機を提供する。例文帳に追加

To provide a blast furnace blower which suppresses the oxidation of a low-alloy steel-made member exposed to oxygen-enriched air, and suppresses the lowering of the strength due to oxidation. - 特許庁

前記形成ステップの後、本方法は、前記誘電体層の一部における炭素の原子濃度が上昇し、前記誘電体層の一部における酸素の原子濃度が低下するように、前記電子デバイスをプラズマに暴露する(118)。例文帳に追加

After the forming step, the electronic device is exposed to plasma (118) so that the atomic concentration of carbon in a part of the dielectric layer rises, and the atomic concentration of oxygen in a part of the dielectric layer lowers. - 特許庁

例文

銅相互接続構造の銅の層5上に無機バリア膜11を形成する前に、相互接続半導体構造内の銅の層5を還元プラズマと炭素含有のプラズマに暴露する工程と無機バリア膜11を酸素含有プラズマに暴露する工程を含むことにより、絶縁膜の接着性を改良する。例文帳に追加

The adhesion of the insulation film is improved by including the steps of exposing a copper layer 5 in the interconnection of a semiconductor structure to reducing plasma and plasma containing carbon and exposing the inorganic barrier film 11 to plasma containing oxygen prior to forming the inorganic barrier film 11 on the copper layer 5 having the copper in the copper interconnection structure. - 特許庁

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