露光むらの英語

好適な露光むら補正を行う撮影装置を提供する。例文帳に追加

To provide a photographing device which suitably corrects uneven exposure. - 特許庁

投影露光装置の一括露光領域内における照度むらを抑制すること。例文帳に追加

To restrain illuminance irregularities inside a batch exposure region of a projection aligner. - 特許庁

スループットを向上させるとともに、露光むらを低減した露光装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a scanning exposure apparatus that reduces uneven exposure while improving throughput. - 特許庁

複数のビームを用いて被露光面の露光制御を行う際、濃度むらを低減する。例文帳に追加

To reduce the density unevenness when controlling a light exposure on an exposed surface using a plurality of beams. - 特許庁

突き上げピンによるマスクの損傷を防止し、かつ露光時の露光むらを抑制する。例文帳に追加

To suppress uneven exposure during exposure by preventing a mask from being damaged by pushing-up pins. - 特許庁

露光モードへの移行から少ないタイムラグまたはタイムラグなしで露光を開始する撮像装置および露光方法の提供。例文帳に追加

To provide an imaging apparatus and an exposing method which start exposure with a small time lag or no time lag after an exposure mode is entered. - 特許庁

マスクを使って露光する露光装置において、露光ムラの発生原因のうち、装置に起因する項目がどの程度影響しているかを精度良く把握することができる露光評価用マスクおよび露光評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide a mask for exposure evaluation and an exposure evaluation method for securing to what degree items resulting from a device among causes of generation of exposure unevenness affect with sufficient accuracy in an exposure device which performs exposure using the mask. - 特許庁

マスクを使って露光する露光装置において、露光ムラの発生原因のうち、装置に起因する項目がどの程度影響しているかを精度良く把握することができる露光評価用マスクおよび露光評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure evaluation mask capable of highly accurately acquiring how much items derived from a device affect thereon out of causes of exposure unevenness in an exposure device exposing using the mask; and to provide an exposure evaluation method. - 特許庁