Amyl alcoholとは 意味・読み方・使い方

A transglycosylating reaction with an α-glucosidase can be utilized to thereby effectively produce an α-anomeric selective glycoside which is capsaicin, dihydrocapsaicin, nonylic acid vanillylamide catechin, epicatechin vanillin, hydroquinone, catechol, resorcinol, 3,4-dimethoxyphenol, propanol, butanol, isobutyl alcohol, amyl alcohol or 5-nonyl alcohol.例文帳に追加

α−グルコシダーゼによる糖転移反応を利用することにより、カプサイシン、ジヒドロカプサイシン、ノニル酸バニリルアミド、カテキン、エピカテキン、バニリン、ハイドロキノン、カテコール、レゾルシノール、３，４−ジメトキシフェノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、アミルアルコール、５−ノニルアルコールのαアノマー選択的な配糖体が効率よく製造できる。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes an alcohol solvent A, and a solvent B made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 - 特許庁

The releaser composition for a resin wax film layer comprises 85 wt.% to 98 wt.% of at least one volatile solvent selected from propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, and ethyl alcohol, 1 wt.% to 10 wt.% of benzyl alcohol, and 1 wt.% to 5 wt.% of amyl cinnamic aldehyde.例文帳に追加

プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチルアルコールから選ばれる少なくとも１種の揮発性溶剤８５重量％乃至９８重量％と、ベンジルアルコール１重量％乃至１０重量％と、アミルシナミックアルデヒド１重量％乃至５重量％とからなる樹脂ワックス皮膜層の剥離剤組成物。 - 特許庁

The method for decomposing thermosetting resin involves decomposing the thermosetting resin to the material soluble in the organic solvent by using at least one kind selected from the group of organic compounds consisting of an 11-18C aliphatic monohydric alcohol, a phenol substituted with a 12-18C alkyl group, a monoamine, amyl alcohol and an amino compound, and water at a supercritical or subcritical state.例文帳に追加

本発明の分解方法では、炭素数１１〜１８の脂肪族１価アルコール、炭素数１２〜１８のアルキル基で置換されたフェノール、モノアミン、アミノアルコール、およびアミノ化合物よりなる有機化合物の群から選択された少なくとも１種と、水とを用いて、超臨界または亜臨界状態において、熱硬化性樹脂を、有機溶媒可溶物質に分解する。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 - 特許庁

The raw solution material includes a raw material liquid prepared by mixing one or more raw organometallic compounds, and one or more organic solvents selected from the group consisting of tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, n-octane, iso-octane, hexane, cyclohexane, pyridine, lutidine, butyl acetate and amyl acetate, and alcohol of 0.1-1,000 ppm as an additive.例文帳に追加

１種又は２種以上の有機金属化合物原料と、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ｎ-オクタン、イソオクタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ピリジン、ルチジン、酢酸ブチル及び酢酸アミルからなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機溶媒とを混合してなる原料液に添加剤としてアルコールを０．１〜１０００ｐｐｍを含む。 - 特許庁