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An Geとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 アンジュ; アンジェ
「An Ge」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 363件
To form an excellent Ge oxide film on a boundary surface of a Ge substrate and an insulating film.例文帳に追加
Ge基板と絶縁膜との界面に、良好なGe酸化膜を形成する。 - 特許庁
This negative electrode material consists of an amorphous phase of Si and/or Ge, or of this amorphous phase and a solid solution or a phase of intermetallic compound of Si and/or Ge.例文帳に追加
Siおよび/またはGeの非結晶質相、またはこれとSiおよび/またはGeの固溶体または金属間化合物の相とからなる負極材料。 - 特許庁
array( 'name' = package name 'type' = 'pkg' - anything else is an error 'rel' = 'has', 'ge', 'le', 'lt', 'le', 'not', 'ne' ['version' = specific version to retrieve,] )発音を聞く 例文帳に追加
array('name' = パッケージ名,'type' = 'pkg' - これ以外はエラー,'rel' = 'has', 'ge', 'le', 'lt', 'le', 'not', 'ne'['version' = 取得したい特定のバージョン,]) - PEAR
Thus, a substitution of a Ge atom to a Ga atom position and a suppression of generation of an N vacancy are sufficiently executed, and hence an activity as a toner of an impurity Ge atom can be improved.例文帳に追加
これによりGe原子のGa原子位置への置換と、N原子の空孔発生の抑制を十分に行い、不純物Ge原子のドナーとしての活性を向上させることができる。 - 特許庁
To form a Ge oxide film on a surface of a Ge substrate without generating an in-film deficit.例文帳に追加
膜中欠損を生じさせることなくGe基板の表面にGe酸化膜を形成する。 - 特許庁
In a bipolar transistor using an SiGe mixed crystal layer as a base, the Ge compsns. of an emitter-base junction region and base-collector junction region which is adjacent the base layer are made higher than the Ge compsn. of the base layer.例文帳に追加
SiGe混晶層をベースに用いたバイポーラトランジスタにおいて、ベース層に隣接するエミッタ-ベース接合領域とベース−コレクタ接合領域のGe組成を、ベース層のGe組成よりも高くした構造。 - 特許庁
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「An Ge」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 363件
A Ge solar cell layer may be formed on the other surface of the Si solar cell layer to include a solar cell layer having an InGaP/(In)GaAs/Si/Ge 4-junction structure.例文帳に追加
前記Si太陽電池層の他面にGe太陽電池層を形成し、InGaP/(In)GaAs/Si/Ge4接合構造の太陽電池層を含む構成としてもよい。 - 特許庁
Then, the substrate is heated to form an (Ni_1-xPt_x)Ge thin film made of three elements, e.g. Ni, Pt and Ge on the Ge substrate.例文帳に追加
その後、熱処理を加えることによって、Ge基板上にNi、Pt、Geの三元素からなる(Ni_1-xPt_x)Ge薄膜が形成された。 - 特許庁
The highly concentrated Ge layer 8 is formed on an upper surface of the SiGe layer 7, and has a Ge concentration that is higher than the Ge concentration in the SiGe layer 7.例文帳に追加
高濃度Ge層8は、SiGe層上面に形成され、SiGe層7内におけるGe濃度よりも高いGe濃度を有する。 - 特許庁
To provide a Ge light receiving element having high photosensitivity and low dark current characteristics, and to provide a method for manufacturing the same by establishing a method for forming a Ge of a large area and low defect density on an Si substrate.例文帳に追加
Si基板上に大面積且つ低欠陥密度のGeを形成する手法を確立し、高い受光感度と低暗電流特性を有するGe受光素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To suppress Ge atom from intruding into a compound semiconductor when a Ge crystal as an intermediate layer is used.例文帳に追加
中間層としてGe結晶を用いる場合の化合物半導体へのGe原子の混入を抑制する。 - 特許庁
When a Ge+ ion is, for example, implanted to the III nitride semiconductor to set an n type, an N+ ion is simultaneously implanted, its surface is covered with an SiO2, and heat-annealed.例文帳に追加
III族窒化物半導体に例えばGe^+イオンを打ち込みn型にする際、N^+イオンを同時に打ち込み、表面をSiO_2で被覆した上、熱アニールをする。 - 特許庁
By this manner, an oxygen combined to Ge in the nonlinear optical silica material is substituted by H or X, and in the portion Ge.providing non-linearity to this silicon material, one Ge has two Ge-O bonds and one Ge-H (or Ge-X) bond.例文帳に追加
これにより非線形光学シリカ材料中のGeと結合する酸素がH又はXで置換され、このシリカ材料に非線形性を発現させる部分Ge・では、1つのGeが、2本のGe−O結合と1本のGe−H(又はGe−X)結合を備える。 - 特許庁
An impurity as an acceptor is any one of C, Si, Ge, and Sn.例文帳に追加
そのアクセプタとしての不純物としては、C、Si、Ge、Snのいずれかを用いる。 - 特許庁
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