CDV-1とは 意味・読み方・使い方

14. The Class I Designated Chemical Substance listed in (cdv) of Appended Table 1: boron発音を聞く 例文帳に追加

（１４）　別表第一第四百五号に掲げる第一種指定化学物質　ほう素 - 日本法令外国語訳データベースシステム

A wafer W is stored into a chamber 1, a cuprous carbonate complex, e.g., CH_3COOCu and a reducing agent reducing the same are introduced into the chamber 1 in a vapor phase state, and a Cu film is deposited on the wafer W by a CDV process.例文帳に追加

チャンバー１内にウエハＷを収容し、チャンバー１内にカルボン酸第１銅錯体、例えばＣＨ_３ＣＯＯＣｕとこれを還元する還元剤とを気相状態で導入して、ウエハＷ上にＣＶＤ法によりＣｕ膜を成膜する。 - 特許庁

The thin film resistor 5 is formed on a thermal oxidation film 3 formed on a semiconductor substrate 1 and a BPSG/NSG multiplayer film 7, a plasma CVD film 9, an organic SOG film 11, a plasma CDV film 13 and a resist pattern 19 are formed on the entire surface of the semiconductor substrate (A).例文帳に追加

半導体基板１上に形成した熱酸化膜３上に薄膜抵抗体５を形成し、半導体基板１上全面にＢＰＳＧ／ＮＳＧ積層膜７、プラズマＣＶＤ膜９、有機ＳＯＧ膜１１、プラズマＣＶＤ膜１３、レジストパターン１９を形成する（Ａ）。 - 特許庁

The manufacturing method for the magnetic recording medium is constituted to form the protective film 4 from a reaction gas incorporating hydrocarbon on a ferromagnetic metallic thin film 2 deposited on a nonmagnetic base material 1 by the plasma CDV process, in which positive DC voltage V1 and negative DC voltage V2 are alternately applied to the raction gas.例文帳に追加

非磁性基材（１）上に積層した強磁性金属薄膜（２）上に、炭化水素を含有する反応ガスからプラズマＣＤＶ法により保護膜（４）を形成する磁気記録媒体（２０）の製造方法であって、前記プラズマＣＤＶ法において反応ガスに正の直流電圧（Ｖ１）と負の直流電圧（Ｖ２）とを交互に印加することを特徴とする、磁気記録媒体（２０）の製造方法。 - 特許庁