Cr multilayerとは 意味・読み方・使い方

Here, the I/O branch wiring 17 is, for example, such a wiring as being comprised of a multilayer structure where Au/Ni/Cu/Cr are laminated, and Au/Ni/Cu is etched at a part of the wiring to provide Cr resistor.例文帳に追加

この場合、例えば、Ｉ／Ｏ分岐配線１７をＡｕ／Ｎｉ／Ｃｕ／Ｃｒを積層した多層構造を有する配線とし、この配線の一部においてＡｕ／Ｎｉ／ＣｕをエッチングしてＣｒ抵抗を設ける。 - 特許庁

The rolled Fe-Cr-Ni alloy foil for a resistor of a multilayer board has a chemical composition comprising, by mass, 12 to 26% Cr and 6 to 21% Ni, and the balance Fe , inevitable impurities, has a thickness of ≤50 μm, and has a volume resistivity of ≥500 nΩ×m.例文帳に追加

化学組成が質量割合にて１２〜２６％のＣｒおよび６〜２１％のＮｉを含有し残部がＦｅ及び不可避不純物からなり、厚さが５０μｍ以下、体積抵抗率が５００ｎΩ・ｍ以上であることを特徴とする多層基板の抵抗体用圧延Ｆｅ−Ｃｒ−Ｎｉ合金箔。 - 特許庁

The forming die comprises cemented carbide as a base metal 10 and has the multilayer film 20 comprising a TiN film 21, a Cr film 22 and a precious metal film 23 as a release film on its surface.例文帳に追加

成形型の母材１０は超硬合金であり、その表面の離型膜として、ＴｉＮ膜２１、Ｃｒ膜２２、貴金属膜２３からなる多層膜２０が設けられる。 - 特許庁

To provide a CR element where manufacturing is possible similarly to a method for manufacturing a multilayer ceramic capacitor, and inner defects such as delamination and defects of an external electrode are hardly generated.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサの製造方法と同様に製造が可能であり、デラミネーション等の内部欠陥や外部電極の欠陥が生じにくいＣＲ素子を提供する。 - 特許庁

A multilayer film of a Cr film 6a and an Au film 6b is formed on the entire surface of a crystal wafer 5, and a resist pattern 10 is formed thereon in the profile of crystal piece.例文帳に追加

水晶ウエハー５全面にＣｒ膜６ａとＡｕ膜６ｂの積層膜を形成し、その上に水晶片形状のレジストパターン１０を形成する。 - 特許庁

As the transparent conductive film, a multilayer film of TiO/Cr/SnO, TiO/stainless-steel/SnO, stainless-steel/TiN, stainless-steel/TiO, TiN/TiO or a singlelayer film of TiN is formed from the transparent plate material by a sputtering method or the like.例文帳に追加

透明導電膜は透明板状体からＴｉＯ／Ｃｒ／ＳｎＯ、ＴｉＯ／ステンレス鋼／ＳｎＯ、ステンレス鋼／ＴｉＮ、ステンレス鋼／ＴｉＯ、ＴｉＮ／ＴｉＯの多層膜、またはＴｉＮの単層膜をスパッタリング法などで形成する。 - 特許庁

To provide a process for producing a metal multilayer film where the upper surface of a metal film (e.g. a Cu film) at a lower layer portion is covered with a metal film (e.g. a Cr film) at an upper layer portion neither too much nor too less.例文帳に追加

下層部の金属膜（例えば、Ｃｕ膜）の上面が上層部の金属膜（例えば、Ｃｒ膜）によって過不足無く覆われた金属多層膜の製造方法を提供する。 - 特許庁