DIFFUSION CONTROLLINGとは 意味・読み方・使い方

To provide a method of controlling effects of interlayer diffusion when producing a multilayer optical film.例文帳に追加

多層光学フィルムの製作において、層間拡散の影響を制御する方法を提供する。 - 特許庁

Projection positions are changed in a depth direction by controlling the opacity of the respective diffusion plates 2.例文帳に追加

各光拡散板２の不透明度を制御することにより、投影位置を奥行き方向に変化させる。 - 特許庁

To provide a phosphorus diffusion method for a poly Si film, capable of performing the phosphorus diffusion of a low temperature and easily controlling the phosphorus density, without generating at the same time an excess PSG(phosphorus silicate glass) film with the phosphorus diffusion.例文帳に追加

リン拡散と同時に余計なＰＳＧ膜が生成されることがなく、低温のリン拡散ができ、リン濃度の制御が容易なｐｏｌｙＳｉ膜へのリン拡散方法を提供することにある。 - 特許庁

Flow rate adjusting valves 32 controlling the amount air supplied to the air diffusion plates 26 of the respective groups are provided to indivisually control the air diffusion amount from the air diffusion plates 26 at groups.例文帳に追加

そして、各グループの散気板２６に供給するエア量を制御する流量調整バルブ３２を設けて、散気板２６からの散気量をグループごとに個別に制御できるようにした。 - 特許庁

The diffusion depth of Zn is controlled by controlling the partial pressure of the Zn at difference of a Zn partial pressure in the case of the diffusion of the diffusion speed of Zn to AlGaAs or the like.例文帳に追加

また、ＡｌＧａＡｓ等に対するＺｎの拡散速度が拡散時のＺｎ分圧によって異なることに着目し、このＺｎの分圧を制御することでＺｎの拡散深さを制御する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing light diffusion film capable of seamlessly and continuously producing a long-size light diffusion film whose light diffusion characteristic is controlled by controlling a refractive index distribution in the film.例文帳に追加

内部の屈折率分布を制御することで光拡散特性を制御した長尺の光拡散フィルムを継ぎ目無く、かつ連続的に製造可能な光拡散フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a structure for controlling temperature of mold for injection molding capable of efficiently controlling the temperature on the surface of a mold contacting with a molded product in the mold and, at the same time, reducing thermal diffusion to mold plates.例文帳に追加

金型の成形製品に接する金型表面の温度を効率よく調節すると共に、型板への熱拡散を低減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser element capable of simplifying the manufacture process and reducing the manufacture cost by varying the thickness of a cap layer immediately above a window region arbitrarily in order to facilitate control of the diffusion depth of a diffusion source thereby controlling the distance from the diffusion source to an active layer and controlling the diffusion depth of the diffusion source, and to provide a wafer for semiconductor laser employing it.例文帳に追加

拡散源の拡散深さの制御を容易に行うために、窓領域を形成する直上のキャップ層厚を任意に変えることにより、拡散源から活性層までの距離を制御し、拡散源の拡散深さを制御し、製造プロセスを簡易にし、製造コストを低下させることができる、半導体レーザ素子およびそれを用いた半導体レーザ用ウェハを提供すること。 - 特許庁