FLASH TECHNOLOGYとは 意味・読み方・使い方

NITRIDATION BARRIER FOR NITRIDATED TUNNEL OXIDE OF CIRCUIT, RELATING TO FLASH MEMORY TECHNOLOGY AND LOCOS/STI ISOLATION例文帳に追加

フラッシュメモリ技術およびＬＯＣＯＳ／ＳＴＩアイソレーションに関する、回路の窒化トンネル酸化物のための窒化バリア - 特許庁

To provide a technology capable of suppressing deterioration of a flash lamp due to influence of a halogen lamp.例文帳に追加

ハロゲンランプの影響によるフラッシュランプの劣化を抑制することができる技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a technology for enabling a file stored in a flash memory to be easily accessed, even when using cellular telephones each using a different carrier.例文帳に追加

フラッシュメモリに格納したファイルを、異なるキャリアの携帯電話機を用いた場合でも容易にアクセス可能とする技術を提供する。 - 特許庁

In the ultrasonic apparatus, a compact flash technology is utilized for recording digital images.例文帳に追加

本発明によれば、超音波装置においてデジタル画像の記憶のためにコンパクトフラッシュ技術が利用される。 - 特許庁

Plural Personal Computer Memory Card International Association(PCMCIA) slots are provided for loading advanced technology attachment(ATA) flash cards 21-23(...) as semiconductor disks.例文帳に追加

半導体ディスクとしてＡＴＡフラッシュカード２１〜２３（…）を装着するＰＣＭＣＩＡスロットを複数設ける。 - 特許庁

To provide a flash furnace shaft part cooling jacket capable of elongating an interval of periodic repair of a flash furnace in recognizing that bricks just under a shaft is particularly severely eroded in the copper smelting flash furnace, and conventional technology can not cope with the problem.例文帳に追加

銅製錬自溶炉ではシャフト直下の煉瓦の侵食が特に激しいこと、及び従来技術ではこの問題に対応できないことに着目し、自溶炉の定期修理の間隔を長くすることができる自溶炉シャフト部冷却ジャケットを提供することを目的とする。 - 特許庁

Though a capacity of a flash ROM like an SD card is 16G to 32G bytes in the present technology, a mechaless large-capacity storage medium is obtained by electrically connecting a plurality of flash ROMs.例文帳に追加

ＳＤカード等のフラッシュロムの容量は現在の技術では１６ギガバイトから３２ギガバイトまでとなるが、それを複数個電気的に接続することでメカレスの大容量の記憶媒体とする。 - 特許庁

To provide such a technology that can apply flash irradiation in a state where the temperature gradient of substrate surface is relieved, in a heat treatment apparatus and a heat treatment method by which an air current is formed around the substrate and assist heating and flash irradiation are applied to the substrate.例文帳に追加

基板の周辺に気流を形成しつつ、当該基板に対してアシスト加熱および閃光照射を行う熱処理装置または熱処理方法において、基板表面の温度勾配を緩和した状態で閃光照射を行うことができる技術を提供する。 - 特許庁