First Mesaとは 意味・読み方・使い方

The trench 5 is formed, by dividing the surface layer of the semiconductor substrate 1 into a first mesa region 41 and a second mesa area 42, and alternately arranging the first and second mesa areas 41 and 42.例文帳に追加

トレンチ５は、半導体基板１の表面層を第１メサ領域４１と第２メサ領域４２に分割し、かつ第１メサ領域４１と第２メサ領域４２を交互に配置させる。 - 特許庁

The p-type clad layer 25 has a first part 25_1 in the first mesa region Ma and second parts 25_2 in the second mesa regions Mb and Mc.例文帳に追加

ｐ型クラッド層２５が、第１メサ領域Ｍａ内の第１部分２５_１と、第２メサ領域Ｍｂ，Ｍｃ内の第２部分２５_２とを有する。 - 特許庁

To reduce a dark current of a semiconductor light receiving device wherein a second MESA including an embedded layer is provided around a first MESA.例文帳に追加

第１メサの周囲に埋込み層を含む第２メサを設けた半導体受光装置の暗電流を低減する。 - 特許庁

A first cladding layer is formed by performing rear surface polishing of the mesa substrate.例文帳に追加

メサ基板を裏面研磨を行うことにより第１クラッド層を形成する。 - 特許庁

A gate pad is disposed on the first dielectric layer adjacent the mesa.例文帳に追加

ゲートパッドはメサ部に隣接する第一の誘電体層上に配置される。 - 特許庁

A gate oxide is formed on the first and second side walls of the mesa.例文帳に追加

メサの第１及び第２の側壁上にゲート酸化物が形成される。 - 特許庁

A mesa structure (first mesa structure) 13 formed on the lower face 11a of the semiconductor substrate 11 is such a mesa structure that has a so-called element function in which an active layer 12 is a light emitting layer, and a mesa structure (second mesa structure) 23 formed on the upper face 11b of the semiconductor substrate 11 is a dummy mesa structure having no active layer.例文帳に追加

半導体基板１１の下面１１ａに形成されたメサ構造（第１のメサ構造）１３は活性層１２が発光部となる、いわば素子機能を有するメサ構造であり、半導体基板１１の上面１１ｂに形成されたメサ構造（第２のメサ構造）２３は、活性層をもたないダミーのメサ構造である。 - 特許庁

The end ED has a push-out portion 40 composed of a first side formed as a forward mesa, a second side opposite to the first side and formed as a forward mesa, and a third side formed as a reverse mesa.例文帳に追加

端部ＥＤには、順方向のメサとなる第１の側部と、第１の側部に対向し順方向のメサとなる第２の側部と、逆方向のメサとなる第３の側部とからなる迫出し部４０が形成されている。 - 特許庁