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ILS systemとは 意味・読み方・使い方
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「ILS system」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
vi) Instrument landing system (hereinafter abbreviated as ILS発音を聞く 例文帳に追加
六 ILS(計器着陸用施設をいう。以下同じ。) - 日本法令外国語訳データベースシステム
ANTENNA SYSTEM MONITORING METHOD FOR ILS DEVICE例文帳に追加
ILS装置の空中線系モニタ方式 - 特許庁
ils made in the laboratory are used as biological response modifiers to boost the immune system in cancer therapy.発音を聞く 例文帳に追加
また人工的に合成されたilが、がん治療において免疫系の働きを高める生物学的反応修飾物質として用いられている。 - PDQ®がん用語辞書 英語版
Am illumination optical system (ILS) for illuminating a reticle (R) with illumination light (IL) and a projection optical system for projecting a pattern image of the reticle (R) onto a wafer (W) are provided.例文帳に追加
レチクル(R)を照明光(IL)で照明する照明光学系(ILS)と、レチクル(R)のパターンの像をウエハ(W)上に投影する投影光学系とを有する。 - 特許庁
The projection aligner includes an illumination lighting system ILS for illuminating the illumination light from an exposure light source 1 to a reticule R, and a projection light system PL for projecting the image of the pattern of the reticule R onto a wafer W.例文帳に追加
露光光源1からの照明光をレチクルRに照射する照明光学系ILSと、レチクルRのパターンの像をウエハW上に投影する投影光学系PLとを有する。 - 特許庁
To provide a novel system and method for xerographic Dmax control based upon measurements made on printed paper using an inline spectrophotometer (ILS) or a similar device.例文帳に追加
インライン分光光度計(ILS)または同様の装置を用いて印刷用紙上での測定に基づいた、ゼログラフィックDmax制御の新しいシステム及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of correcting the localizer (LLZ) course of an instrument landing system (ILS) installed in an airport where there are electric wave interference areas that may cause LLZ course fluctuation in a sensitive area of a LLZ antenna, and a correcting device.例文帳に追加
LLZアンテナのセンシティブエリア内に、LLZコース変動の発生原因となる電波障害エリアが存在する空港に設置されたILSのLLZコースの補正方法及び補正する装置を提供する。 - 特許庁
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「ILS system」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
Exposure light EL is irradiated to each different lighting area on the reticle R by an illumination optical system ILS, then the exposure light passing through each of the lighting areas is guided onto the wafer W by a projection optical system PL, by which different patterns are doubly exposed simultaneously on the wafer W.例文帳に追加
照明光学系ILSによってレチクルR上の異なる照明領域にそれぞれ露光光ELを照射し、照明領域の各々を介した露光光を投影光学系PLでウェハW上に導くことにより、ウェハW上には異なるパターンが同時に二重露光される。 - 特許庁
A reticle R is irradiated with an exposing light IL from an exposing light source 1 through an illumination optical system ILS comprising a first fly eye lens 6, a second fly eye lens 9, lens systems 12, 13 blinds 14A, 14B, and condenser lens systems 17, 18 and the pattern image of the reticle R is projected onto a wafer W through a projection optical system PL.例文帳に追加
露光光源1からの露光光ILを、第1フライアイレンズ6、第2フライアイレンズ9、レンズ系12,13、ブラインド14A,14B、及びコンデンサレンズ系17,18等よりなる照明光学系ILSを介してレチクルRに照射し、レチクルRのパターンの像を投影光学系PLを介してウエハW上に投影する。 - 特許庁
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