META IIとは 意味・読み方・使い方

The surface of the base material is covered with a resin obtained by polymerizing at least one kind of polymerizable monomer selected from a group comprising urea ethyl (meta) acrylate expressed by the formula (I) and glucosyl urea ethyl (meta) acrylate expressed by the formula (II).例文帳に追加

基材の表面が、式（Ｉ）で表される尿素エチル（メタ）アクリレート及び式（ＩＩ）で表されるグルコシル尿素エチル（メタ）アクリレートからなる群より選ばれた、少なくとも１種の重合性モノマーを重合させて得られる樹脂により被覆されてなる。 - 特許庁

The low reflection material has a surface layer which is made by: forming a low refractive index material layer on a surface of a base material; applying the solution I that includes alkoxysilyl group contained compound that has the thiol group on the low refractive index material layer; and in addition, applying the solution II that includes the (meta)acrylic compound on the coating film of the solution I concerned.例文帳に追加

基材の表面上に低屈折率材料層が形成され、当該低屈折率材料層上にチオール基を有するアルコキシシリル基含有化合物を含有するＩ液が塗布され、さらに当該Ｉ液の塗膜上に（メタ）アクリル系化合物を含有するII液が塗布されてなる表面層を有する低反射性材料。 - 特許庁

Provided are a photoresist composition that comprises: (A) a first polymer comprising units of the following formulas (I), (II) and (III); (B) a second polymer that is (meta)acrylic acid C3-C7 alkyl homopolymer or copolymer; and (C) a photoacid generator, and a method of forming photolithographic patterns by unexposed regions of the photoresist layer being removed by the developer.例文帳に追加

（Ａ）式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）：の単位を含む第１のポリマー；（Ｂ）（メタ）アクリル酸Ｃ３〜Ｃ７アルキルホモポリマーもしくはコポリマーである第２のポリマー；並びに（Ｂ）光酸発生剤；を含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジスト層の未露光領域が現像剤によって除去されて、フォトリソグラフィパターンを形成する方法。 - 特許庁