Pericleとは 意味・読み方・使い方

LITHOGRAPHY APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, AND MASK HAVING PERICLE例文帳に追加

リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびペリクルを有するマスク - 特許庁

The pericle frame and/or mechanical properties of the pericle are so optimized that the mechanical effect of the frame and the pericle on the geometry of a mask in use can be optimized for forming an image.例文帳に追加

使用中のマスクの形に対するフレームおよびペリクルの機械的影響が、画像形成に対して最適になるように、ペリクル・フレームおよび／またはペリクルの機械的特性が最適化される。 - 特許庁

In particular, the pericle frame assembly can be so arranged that is becomes mechanically neutral.例文帳に追加

特に、ペリクル・フレーム組立体を機械的に中性になるように配置することができる。 - 特許庁

To improve and/or compensate for the effect of the use of a thick pericle, in particular, but not limited thereto, on forming an image.例文帳に追加

特に厚いペリクル、しかしこれに限定されないペリクルの使用による画像形成に対する影響を改善および／または補償すること。 - 特許庁

A first illumination system 31a irradiates the surface of a reticle R with inspection light L1 and a second illumination system 31b irradiates the surface of the pericle P with inspection light L2.例文帳に追加

第１照明系３１ａは検査光Ｌ１をレチクルＲの上面に照射し、第２照明系３１ｂは検査光Ｌ２をペリクルＰの面上に照射する。 - 特許庁

A drive 39 moves the second illumination system 31b in a Z-direction to make the irradiation position of the inspection light L2 corresponding to the height of the pericle P variable.例文帳に追加

駆動装置３９は、第２照明系３１ｂをＺ方向に移動させてペリクルＰのペリクル高さに応じて検査光Ｌ２の照射位置を可変する。 - 特許庁

In the same way, a second light detection system detects the scattered light from the foreign matter bonded to the upper surface of the pericle P and a second line sensor outputs the signal corresponding to the intensity of the scattered light detected by the first light detection system.例文帳に追加

同様に、第２受光系はペリクルＰの上面に付着した異物からの散乱光を受光し、第２ラインセンサは第１受光系で受光された散乱光の光強度に応じた信号を出力する。 - 特許庁