Plasma ashingとは 意味・読み方・使い方

METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND PLASMA ASHING SYSTEM例文帳に追加

半導体装置の製造方法及びプラズマ灰化装置 - 特許庁

ASHING METHOD, PLASMA TREATMENT METHOD AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

アッシング方法、プラズマ処理方法及びマスク製造方法 - 特許庁

PLASMA ASHING PROCESS FOR INCREASING PHOTORESIST REMOVAL RATE例文帳に追加

フォトレジストの除去速度を増加するプラズマアッシング方法 - 特許庁

Therefore, the residues are removed by oxygen plasma ashing next.例文帳に追加

そこで、次に、この残渣を酸素プラズマアッシングにより除去する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for plasma ashing which can improve the efficiency of a plasma ashing process.例文帳に追加

プラズマアッシング処理の効率を向上させることのできるプラズマアッシング方法及びそのプラズマアッシング装置を提供する。 - 特許庁

The resist mask 7 is removed by ashing, using a plasma produced from O2 ashing gas doped with an F-containing gas.例文帳に追加

レジストマスク７を、Ｆを含むガスを添加したＯ_2アッシングガスのプラズマを用いて、アッシング除去する。 - 特許庁

To provide a plasma ashing method and a plasma ashing apparatus capable of promptly removing resist residue while preventing fault occurrence due to the resist residue by applying a plasma ashing process to an ion-implanted resist.例文帳に追加

イオン注入されたレジストをプラズマアッシング処理により、レジスト残渣による欠陥発生を抑制しつつ迅速に除去することが可能なプラズマアッシング方法及びプラズマアッシング装置を得る。 - 特許庁

Consequently, the residue is removed by oxygen plasma ashing in the next place.例文帳に追加

そこで、次に、この残渣を酸素プラズマアッシングにより除去する。 - 特許庁