RF plasmaとは 意味・読み方・使い方

To provide an RF plasma source in which capacity coupling between a coil and plasma is reduced and corrosion of the surface in a plasma tube is sufficiently reduced.例文帳に追加

コイルとプラズマ間の容量結合を減らし、プラズマチューブ内表面の腐食を有意に減らすＲＦプラズマソースの提供。 - 特許庁

An RF bias is applied and a plasma 32 is generated inside the plasma chamber and a wafer is exposed to the plasma 32.例文帳に追加

ＲＦバイアスを印加し、プラズマチャンバ内にプラズマ３２を発生させてウェハをプラズマ３２に曝す。 - 特許庁

AC-RF SEPARATION FILTER OF HIGH AC AND HIGH RF POWER FOR HEATING ELECTROSTATIC CHUCK OF PLASMA REACTOR例文帳に追加

プラズマリアクタの加熱静電チャックのための高ＡＣ電流、高ＲＦ電力なＡＣ−ＲＦ分離フィルタ - 特許庁

A dual-chamber plasma processing apparatus comprises two reaction spaces which are equipped with different gas inlet lines and different RF systems.例文帳に追加

デュアル反応チャンバプラズマ処理装置は、異なるガス流入ライン及び異なるRFシステムが取り付けられた２つの反応チャンバから成る。 - 特許庁

METHOD OF AND APPARATUS FOR CONTROLLING REACTIVE IMPEDANCE OF MATCHING NETWORK CONNECTED BETWEEN RF SOURCE AND RF PLASMA PROCESSOR例文帳に追加

ＲＦ源とＲＦプラズマ・プロセッサの間に接続された整合ネットワークのリアクタンス性インピーダンスを制御する方法および装置 - 特許庁

RF power is supplied to the plasma container from the RF generator through the controlled impedance network.例文帳に追加

ＲＦパワーが、ＲＦ発生器から制御されたインピーダンス・ネットワークを通してプラズマ容器に供給される。 - 特許庁

To enhance in-plane uniformity of a plasma process in a wide RF frequency area and also in a wide RF power area.例文帳に追加

広いＲＦ周波数領域で、かつ広いＲＦパワー領域でプラズマプロセスの面内均一性を向上させること。 - 特許庁

N pieces of RF sources respond respectively to a second RF power which includes feedback from the plasma chamber.例文帳に追加

Ｎ個のＲＦソースはプラズマ室からのフィードバックを含んでいる第２のＲＦ電力にそれぞれ応答する。 - 特許庁