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Scattering parametersとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 2ポートネットワーク（帯域通過フィルタ）におけるSパラメータ Sパラメータ（英: Scattering parameters）とは、高周波電子回路や高周波電子部品の特性を表すために使用される回路網パラメータのひとつ。
「Scattering parameters」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
To deduce the scattering coefficients or anisotropic scattering parameters of a light-scattering body, with high accuracy.例文帳に追加
光散乱体の散乱係数や非等方散乱パラメータを精度良く推定する。 - 特許庁
Parameters necessary for calibration are calculated from the scattering matrix.例文帳に追加
この散乱マトリクスから、較正に必要なパラメータを算出する。 - 特許庁
To provide a method and a device for determining scattering parameters of a scattering matrix of a light device which determines scattering parameters of a matrix while securing alignment phase standards regarding all measurements, thereby enabling the direct calculation of all measurable properties of the device from the scattering parameters.例文帳に追加
全測定値に関する整合位相基準を保証して行列の散乱パラメータを決定する光デバイスの散乱行列の散乱パラメータを割り出し、これによりデバイスの全ての測定可能な特性が当該散乱パラメータから直接計算できるようにする方法と装置を提供する。 - 特許庁
The scattering coefficient and the coloring matter concentration of melanin and hemoglobin can be obtained from the parameters used in fitting.例文帳に追加
フィッティングに用いられたパラメータから散乱係数とメラニンおよびヘモグロビンの色素濃度を取得できる。 - 特許庁
The method of the present invention for determining scattering parameters of a scattering matrix of the light device (34) comprises the step of applying optical stimulus to a plurality of ports (40, 42) of the light device.例文帳に追加
本発明による光デバイス（３４）の散乱行列の散乱パラメータの割り出し方法は、光デバイスの複数のポート（４０，４２）へ光学的刺激を印加するステップを含む。 - 特許庁
Optical fields outgoing from the ports are measured in amplitude and phase therein to calculate the scattering parameters using the measurements.例文帳に追加
ポートから出射する光学場はそこで振幅と位相を測定され、測定値を用いて散乱パラメータが計算される。 - 特許庁
Whether mobility due to roughness scattering agrees with measured values is determined, and parameters Δ, Λ, and n are modified, so that the mobility is determined to agree with the measured values.例文帳に追加
ラフネス散乱による移動度が実測値に一致するか否かを判定し、一致すると判定されるようにパラメータΔ，Λ，ｎを修正する。 - 特許庁
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「Scattering parameters」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
To provide a method and a device for the determination of polarization-resolved scattering parameters of a light device which enables accurate measurement of fields outgoing from the light device for a reduced time period.例文帳に追加
光デバイスから出射する場の測定が正確かつ時間期間を短縮して行なえる光デバイスの偏光分解散乱パラメータの割り出し方法及び装置を提供する。 - 特許庁
The method of the present invention for determining scattering parameters of a light device comprises the step of stimulating ports (40, 42) of the light device (34) using stimulus fields having at least two polarization states.例文帳に追加
本発明による光デバイスの散乱パラメータの割り出し方法は、少なくとも二つの偏光状態を有する刺激場を用いて光デバイス（３４）のポート（４０，４２）を刺激するステップを含む。 - 特許庁
The method provides images with reduced reverberation noise and images of nonlinear scattering and propagation parameters of the object, and estimation of corrections for wave front aberrations produced by spatial variations in the ultrasound propagation velocity.例文帳に追加
反響ノイズが低減されたイメージ、対象物の非線形散乱および伝搬パラメータのイメージ、超音波伝搬速度の空間的な変動によって生成される波面収差に対する補正の見積もりを与えるものである。 - 特許庁
This evaluation method of the epitaxial wafer uses a scanning device 5 of a laser scattering light system to measure a haze value of the epitaxial layer EP formed on a main surface W1 of a semiconductor wafer W and evaluate the existence of the epitaxial layer EP based on parameters obtained from the haze value.例文帳に追加
本発明のエピタキシャルウェーハの評価方法は、レーザ散乱光方式の走査装置５を用いて、半導体ウェーハＷの主表面Ｗ１に形成されているエピタキシャル層ＥＰのヘイズ値を測定し、ヘイズ値から得られるパラメータに基づいてエピタキシャル層ＥＰの有無を評価する。 - 特許庁
This inspecting device is provided with an inspection measuring means measuring the scattering parameters in noncontact for individual inlets and an inspection determining processing means making measurement via the measuring means to determine whether the inlets are normal or defective on the card base sheet on which a plurality of noncontact IC card inlets each integrated with an IC chip and an antenna are aligned and arranged.例文帳に追加
ＩＣチップとアンテナとが一体化されてなる非接触ＩＣカード用インレットが基材シート上に複数個整列配置されたカード基材シートに、インレット毎に非接触で散乱パラメータを測定する検査用測定手段と、該測定手段を介して測定を行い、その結果から該インレットが正常品であるか不良品であるかを判定する検査用判定処理手段と、を具備した検査装置である。 - 特許庁
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